一种能保护墨条的磨墨机的制作方法

本实用新型涉及磨墨机技术领域，尤其涉及一种能保护墨条的磨墨机。

背景技术：

书法既是一种文化传承，也是一门艺术。传统的中国书法以毛笔字为主。在进行毛笔字撰写的过程中需要用砚台、水和墨条进行磨墨。

现有的墨磨机通过磨墨臂将墨条夹持和/或固定，使得墨条能够与磨墨盘底部接触，利用电机驱动磨墨盘，使得磨墨盘与墨条之间相互摩擦，进而使磨墨盘对墨条进行碾磨。使用时，需要添加将足量的水至磨墨盘中，故当所需磨墨量较多时，墨条变会长时间浸泡在水中，进而容易导致墨条浸水部分容易软化甚至开裂，不仅容易导致墨条破损，还降低磨出墨汁的质量。

因此，急需提供一种能够在磨墨时防止墨条长时间浸泡，保护墨条的磨墨机。

技术实现要素：

本实用新型的其中一个目的是提出一种能保护墨条的磨墨机，解决了现有技术中墨磨机在磨墨时，墨条长时间浸泡在水中的技术问题。本实用新型优选技术方案所能够达到诸多有益技术效果，具体见下文阐述。

为实现上述目的，本实用新型提供了以下技术方案：

本实用新型的能保护墨条的磨墨机包括：本体、磨墨盘和水深调节结构。磨墨盘安装在本体上，用于与墨条碾磨并盛装磨墨用的溶液和/或碾磨成的墨汁。水深调节结构位于本体和/或磨墨盘的一侧，且水深调节结构能支撑本体和/或磨墨盘发生倾斜。

作为一种优选的技术方案，当本体和/或磨墨盘倾斜时，墨条与磨墨盘接触处位于磨墨盘的最高位和最低位之间。优选的，当本体和/或磨墨盘倾斜时，墨条和磨墨盘接触处位于与磨墨盘中心部等高的部位和磨墨盘中最高位的一侧之间。进一步优选的，当本体和/或磨墨盘倾斜时，墨条和磨墨盘接触处位于磨墨盘中最高位的一侧。作为另一种优选的实施方式，当本体和/或磨墨盘倾斜时，墨条与磨墨盘接触处位于磨墨盘中心部和/或与其等高的部位。

作为一种优选的技术方案，水深调节结构包括支撑件，支撑件与本体活动连接，或者是，支撑件为伸缩结构，以使支撑件凸出本体与放置平面接触表面的长度能够调节。

作为一种优选的技术方案，支撑件包括至少一个支撑脚，支撑脚凸出和/或内陷于本体与放置平面接触的表面。

作为一种优选的技术方案，水深调节结构包括导向结构，导向结构与支撑件匹配，且支撑件内嵌于导向结构并能沿着导向结构滑动。

作为一种优选的技术方案，导向结构包括通孔，通孔位于本体与放置平面接触的一面，且通孔与支撑件匹配，以使支撑件能穿过通孔并凸出于本体与放置平面接触的表面。

作为一种优选的技术方案，导向结构还包括定位孔，定位孔与支撑件匹配；支撑件远离本体与放置平台接触面的一端内嵌于定位孔，且支撑件能够沿着定位孔移动。

作为一种优选的技术方案，水深调节结构还包括调节件，调节件的一端与支撑件传动连接，以使调节件推动和/或拉动支撑件凸出和/或内陷于本体与放置平面接触的表面。

作为一种优选的技术方案，调节件与本体螺纹连接。

作为一种优选的技术方案，水深调节结构还包括弹性件，弹性件的一端支撑在支撑件上，弹性件的另一端支撑在本体上，或者是，弹性件的一端与支撑件连接，弹性件的另一端与本体连接。

作为一种优选的技术方案，弹性件为弹簧，弹簧嵌套在弹性件上。

本实用新型提供的能保护墨条的磨墨机至少具有如下有益技术效果：

本实用新型所述的能保护墨条的磨墨机通过在本体和/或磨墨盘的一侧设置水深调节结构，使得水深调节结构能够支撑本体和/或磨墨盘的一侧，使本体和/或磨墨盘发生倾斜，使得磨墨盘中的溶液向磨墨盘中较低一侧聚集，进而使得墨条与磨墨盘接触处的水深变浅，以防止墨条被溶液浸泡，达到保护墨条的目的。

此外，本实用新型优选技术方案还可以产生如下技术效果：

本实用新型优选技术方案的支撑件与本体活动连接，或者支撑件设置为可伸缩结构，使得支撑件凸出本体与放置平面接触表面的长度能够调节，进而使得磨墨盘的倾斜角度可以调节，即使用者可以更具需要调节磨墨盘的倾斜角度，使得墨条既能够与磨墨盘中的容易接触，还能够防止墨条与磨墨盘接触点的过深浸泡墨条。

本实用新型优选技术方案的支撑件包括两个支撑脚，能够有效提高磨墨机倾斜时的稳定性，以防止磨墨机倾斜后出现晃动。

本实用新型优选技术方案的水深调节结构通过设置调节件，并且调节件与本体螺纹连接，使得支撑件能够通过旋转调节件实现其凸出本体与放置平面接触表面长度的调节，不仅能够简化调节操作，还能够实现本体和/或磨墨盘倾斜角度的连续调节。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一种优选实施方式磨墨机的立体图；

图2是本实用新型一种优选实施方式水深调节结构第一种状态的示意图；

图3是本实用新型一种优选实施方式水深调节结构第二种状态的示意图；

图4是本实用新型一种优选实施方式磨墨盘水平放置时的示意图；

图5是本实用新型一种优选实施方式磨墨盘倾斜放置时的示意图。

图中：1-本体；2-磨墨盘；3-水深调节结构；31-支撑件；311-支撑脚；32-导向结构；321-通孔；322-定位孔；33-调节件；34-弹性件；4-墨条；5-溶液。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本实用新型的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本实用新型所保护的范围。

需要说明的是，术语“向上”、“向下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。进一步的，本说明书中所述的放置平面是指支撑和/或放置磨墨机时，放置平台与本体1接触的平面。

参照图1，本实用新型一种优选实施方式的磨墨机包括：本体1、磨墨盘2和水深调节结构3。磨墨盘2安装在本体1上，用于与墨条4碾磨并盛装磨墨用的溶液和/或碾磨成的墨汁。水深调节结构3位于本体1和/或磨墨盘2的一侧，且水深调节结构3能支撑本体1和/或磨墨盘2发生倾斜。

作为本实用新型一种优选的实施方式，水深调节结构3的一端支撑在磨墨机放置平面上，另一端支撑在本体1上，以使本体1与能够在水深调节结构3的支撑下发生倾斜，进而带动磨墨盘2倾斜。需要说明的是，现有的磨墨机中磨墨盘2安装在本体1上，当本体1倾斜放置时，本体1上的磨墨盘2相应的也会随之本体1倾斜而发生倾斜。

作为另一种优选的实施方式，水深调节结构3的一端支撑在本体1上，另一端支撑在磨墨盘2上，磨墨盘2与本体1活动连接，以使磨墨盘2能够在水深调节结构3的支撑下发生倾斜。

参照图4，当磨墨盘2为水平放置时，磨墨盘2中各处溶液5的深度相同，故而使得墨条4浸泡在溶液5中。参照图5，当磨墨盘2发生倾斜时，磨墨盘2中的溶液5聚集在磨墨盘2中的一侧，进而使得墨条4与磨墨盘2接触处的溶液5深度变浅，以避免墨条4在磨墨过程中被溶液5浸泡。

优选的，水深调节结构3位于靠近墨条4与磨墨盘2接触点的一侧，且水深调节结构3能够支撑本体1和/或磨墨盘2靠近墨条4与磨墨盘2接触点的一侧高于本体1和/或磨墨盘2中远离水深调节结构3的一侧，进而使得本体1和磨墨盘2同时倾斜，或者是，使得磨墨盘2发生倾斜。

参照图1至图3，水深调节结构3包括支撑件31，支撑件31与本体1活动连接，或者是，支撑件31为伸缩结构，以使支撑件31凸出本体1与放置平面接触表面的长度和/或高度能够调节。优选的，支撑件31与本体1活动连接，以使支撑件31能够沿着支撑件31与本体1连接的处滑动，以使支撑件31凸出本体1与放置平面接触表面的长度能够调节，例如支撑件31内嵌于本体1。或者是，支撑件31与本体1活动连接，以使支撑件31能够沿着支撑件31与本体1连接的处转动，以使支撑件31凸出本体1与放置平面接触表面的长度和/或高度能够调节，例如支撑件31与本体1螺纹连接和/或铰接。

作为一种可实施的替代方案，支撑件31设置为伸缩结构。优选的，支撑件31包括多段支撑杆，各段支撑杆的直径不同，直径小的支撑杆内嵌于直径大的支撑杆中，例如：鱼竿直径较小的一段内嵌于直径较大的一段。

作为一种优选的实施方式，当支撑件31内陷于本体1与放置平面接触表面时，本体1和/或磨墨盘2保持水平，支撑件31位于磨墨盘2中靠近墨条4与磨墨盘2接触处的一侧。优选的，当磨墨机中墨条4数不止一条时，墨条4与磨墨盘2接触处位于磨墨盘2的同一侧，且支撑件31位于靠近墨条4与磨墨盘2接触处的一侧。

作为另一种可实施的替代方案，当支撑件31凸出本体1与放置平面接触表面时，本体1和/或磨墨盘2保持水平，支撑件31位于磨墨盘2中远离墨条4与磨墨盘2接触处的一侧。优选的，当磨墨机中墨条4数不止一条时，墨条4与磨墨盘2接触处位于磨墨盘2的同一侧，且支撑件31位于远离墨条4与磨墨盘2接触处的一侧。

参照图2或图3，支撑件31包括至少一个支撑脚311，支撑脚311凸出和/或内陷于本体1与放置平面接触的表面。优选的，支撑件31包括至少两支支撑脚311。进一步优选的，支撑件31包括两支支撑脚311。两支支撑脚311能够有效提高磨墨机放置时的稳定性，以减小和/或防止磨墨机在磨墨时出现晃动。进一步优选的，支撑脚311平行设置，且两支支撑脚311相互连接固定，以使支撑脚311能够同步调节。

参照图2或图3，水深调节结构3包括导向结构32，导向结构32与支撑件31匹配，且支撑件31内嵌于导向结构32并能沿着导向结构32滑动。导向结构32不仅能够对水深调节结构3进行定位，使得支撑件31能够更好地嵌合在一起，以防止和/或削弱支撑件31出现晃动。

参照图2或图3，导向结构32包括通孔321，通孔321位于本体1与放置平面接触的一面，且通孔321与支撑件31匹配，以使支撑件31能穿过通孔321并凸出于本体1与放置平面接触的表面。

参照图2或图3，导向结构32还包括定位孔322，定位孔322与支撑件31匹配；支撑件31远离本体1与放置平台接触面的一端内嵌于定位孔322，且支撑件31能够沿着定位孔322移动。

参照图1至图3，水深调节结构3还包括调节件33，调节件33的一端与支撑件31传动连接，以使调节件33推动和/或拉动支撑件31凸出和/或内陷于本体1与放置平面接触的表面。

作为本实用新型一种优选的实施方式，调节件33与本体1螺纹连接。调节件33与本体1通过螺纹连接，能实现支撑件31凸出于本体1与放置平面接触表面长度的连续调节。

参照图3或图4，水深调节结构3还包括弹性件34，弹性件34的一端支撑在支撑件31上，弹性件34的另一端支撑在本体1上，或者是，弹性件34的一端与支撑件31连接，弹性件34的另一端与本体1连接。优选的，弹性件34为弹簧，弹簧嵌套在弹性件34上。弹性件34的设置，不仅能够防止支撑件31在重力的作用下沿着定位孔322和/或通孔321移动，并凸出于本体1与放置平面接触的表面，还能够使得支撑件31与调节件33抵触，进而防止支撑件31在本体1内部晃动。

上述实施例中，支撑件31的两端对应地内嵌于通孔321和定位孔322，不仅能够防止支撑件31晃动，并且还能够使得支撑件31始终沿着定位孔322和/或通孔321滑动。

具体的，使用者和通过旋转调节件33，使得调节件33能够推动支撑件31沿着定位孔322和/或通孔321滑动，进而使得支撑件31凸出于本体1与放置平面接触的表面。当旋转调节件33向上运动时，支撑件31能在弹性件34的作用下沿着定位孔322和/或通孔321向上运动，进而使得支撑件31能够在弹性件34的作用下向本体1内部运动，使得本体1和/或磨墨盘2的倾斜角度缩小。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。