显示屏的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种显示屏。


背景技术：

2.拼接显示技术是通过将小尺寸显示屏拼接成大尺寸显示屏，该技术的开发与完善至关重要。目前显示屏拼接仍存在屏间缝隙难以消除的问题。拼接大尺寸屏幕的缝隙不仅会将整个图像割裂，而且容易被误解为图像的一部分，甚至会使高端监控产生误判。如何消除缝隙一直是大尺寸拼接显示领域技术人员探索的热点。
3.在对现有技术的研究和实践过程中，本技术的发明人发现，对于拼接显示消缝技术，填缝的材料与膜层的光学特性是否能达到一致非常重要，它影响着出光的效率。由公式n＝n+ik可知，材料的复折射率n由实数部分折射率n与虚数部分消光系数k共同决定。而现有技术通常采用同一种材料的光学胶水填缝，单一光学特性的光学胶水无法使两个拼接屏的每一个膜层的光路都一致，光线透过缝隙与透过屏幕的光路变化差异太大，很容易被人眼捕捉到，导致缝隙无法完全消除。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供一种显示屏，可以在视觉上提高消缝的显示效果。
5.本技术实施例提供一种显示屏，包括：
6.第一基板；
7.至少两个第二基板，至少两个所述第二基板拼接设置在所述第一基板上；相邻所述第二基板之间存在缝隙；所述第二基板包括多层层叠设置的透明膜层；
8.消缝结构层，所述消缝结构层填充所述缝隙；所述消缝结构层包括至少两层层叠设置的消缝层；一所述消缝层对应连接至少一层所述透明膜层；
9.在所述消缝层和与其连接的所述透明膜层中，所述消缝层的复折射率与一所述透明膜层的复折射率相同。
10.可选的，在本技术的一些实施例中，在所述消缝层和与其连接的所述透明膜层中，所述消缝层的折射率和消光系数对应与一所述透明膜层的折射率和消光系数相同。
11.可选的，在本技术的一些实施例中，所述消缝层包括主体膜层和透明的纳米颗粒，所述纳米颗粒掺杂在所述主体膜层内。
12.可选的，在本技术的一些实施例中，所述消缝层数量和所述透明膜层的数量相同，所述消缝层的厚度等于所述透明膜层的厚度。
13.可选的，在本技术的一些实施例中，多层所述透明膜层包括衬底层、阵列无机层、阵列有机层、第一封装层、第二封装层和第三封装层；在所述显示屏的厚度方向上，所述衬底层、所述阵列无机层、所述阵列有机层、所述第一封装层、所述第二封装层和所述第三封装层依次层叠设置；
14.一所述消缝层连接所述衬底层、所述阵列无机层、所述阵列有机层、所述第一封装
层、所述第二封装层和所述第三封装层中的至少一者。
15.可选的，在本技术的一些实施例中，所述消缝层的数量为两层，两层所述消缝层为第一消缝层和第二消缝层，所述第一消缝层连接于所述衬底层、所述阵列无机层和所述阵列有机层；所述第二消缝层连接于所述第一封装层、所述第二封装层和所述第三封装层。
16.可选的，在本技术的一些实施例中，所述消缝层的数量为三层，三层所述消缝层为第一消缝层、第二消缝层和第三消缝层，所述第一消缝层连接于所述衬底层，所述第二消缝层连接于所述阵列无机层和所述阵列有机层；所述第三消缝层连接于所述第一封装层、所述第二封装层和所述第三封装层。
17.可选的，在本技术的一些实施例中，所述消缝层的数量为六层，六层所述消缝层为第一消缝层、第二消缝层、第三消缝层、第四消缝层、第五消缝层、第六消缝层；所述第一消缝层连接于所述衬底层，所述第二消缝层连接于所述阵列无机层，所述第三消缝层连接于所述阵列有机层；所述第四消缝层连接于所述第一封装层，所述第五消缝层连接于所述第二封装层，所述第六消缝层连接于所述第三封装层。
18.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一基板包括基底、驱动功能层和第一导电垫，所述驱动功能层设置在所述基底上，所述第一导电垫设置在所述驱动功能层上；
19.所述第二基板还包括第二导电垫，所述第二导电垫设置在所述衬底层靠近所述第一基板的一侧，所述第一导电垫和所述第二导电垫绑定连接。
20.可选的，在本技术的一些实施例中，所述显示屏还包括粘合胶，所述第一基板和所述第二基板之间形成有空隙，所述粘合胶填充在所述空隙内，且连接于所述第一基板和所述第二基板；所述消缝结构层设置在所述粘合胶上。
21.本技术实施例采用在显示屏结构中在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与透明膜层的复折射率相同，可以在视觉上消除第二基板之间的缝隙，实现大尺寸无边缝的显示。
附图说明
22.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1是本技术实施例一提供的显示屏结构示意图；
24.图2是本技术提供的显示屏俯视结构示意图；
25.图3是本技术提供的第一基板结构示意图；
26.图4是本技术提供的第二基板结构示意图；
27.图5是本技术提供的缝隙处的光路示意图，a为未加消缝结构层光路示意图，b为增加消缝结构层后的光路示意图；
28.图6是本技术实施例二提供的显示屏结构示意图；
29.图7是本技术实施例三提供的显示屏结构示意图；
30.图8是本技术实施例四提供的显示屏结构示意图；
31.图9是本技术实施例五提供的显示屏结构示意图。
32.附图标记说明：
33.显示屏200、第一基板10、第二基板20、缝隙30、消缝结构层40、纳米颗粒401、填料402、第一消缝层411/421/431/441/451、第二消缝层412/422/432/442/452、第三消缝层423/433/453、第四消缝层434/454、第五消缝层435/455、第六消缝层436/456、透明膜层21、衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215、第三封装层216、驱动芯片13、基底11、驱动功能层12、第一导电垫14、第二导电垫22、粘合胶50、空隙60。
具体实施方式
34.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
35.本技术实施例提供一种显示屏200，下文进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
36.实施例一、
37.请参阅图1、图2、图3和图4，本技术实施例提供一种显示屏200，包括：第一基板10、至少两个第二基板20和消缝结构层40。至少两个第二基板20拼接设置在第一基板10上。相邻第二基板20之间存在缝隙30。第二基板20包括多层层叠设置的透明膜层21。消缝结构层40填充缝隙30。消缝结构层40包括至少两层层叠设置的消缝层。一消缝层对应连接至少一层透明膜层。在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与一透明膜层的复折射率相同。
38.请参阅图5，可以理解的是，在本实施例中，在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与透明膜层的复折射率相同，可以从视觉上消除拼接第二基板20之间的缝隙30，实现大尺寸无边缝的显示。
39.可选的，在本实施例中，在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数相同。
40.可以理解的是，在本实施例中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数相同，可以尽可能的不改变原有光线的光学路径，实现缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。可以理解的是，消缝层的材料包括：亚克力、有机硅、环氧树脂或聚氨酯中的一种或者几种。可以理解的是，在一些实施例中，消缝层的材料可以与对应透明膜层的材料相同。
41.可选的，在本实施例中，消缝层包括主体膜层和透明的纳米颗粒401，纳米颗粒401掺杂在主体膜层内。
42.可以理解的是，在本实施例中，消缝层的材料会有其固有的折射率，通过在主体膜层中掺杂透明的纳米颗粒401以改变消缝层的折射率，达到调节消缝层折射率的目的。纳米颗粒401包括：二氧化硅、碳化硅、羟基磷灰石或钛酸钡。
43.可选的，消缝层的材料还可以包括消光材料，消光材料混合在主体膜层中。消光材料可以是颜料或油墨。
44.可选的，在一些实施例，消缝层也可以仅包括主体膜层。
45.可选的，在本实施例中，多层透明膜层21包括衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。在显示屏200的厚度方向上，衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216依次层叠设置。一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者。
46.可以理解的是，当一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者时，可以实现不改变与消缝层相连接的透明膜层的光学路径。需要说明的是，在本实施例中，第一基板10还包括薄膜晶体管(未在图中示出)。阵列无机层212覆盖薄膜晶体管。阵列有机层213的材质为有机光阻，阵列有机层213包括间隔柱、像素定义层和平坦层。衬底层211的材料包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚砜或聚芳酯。阵列无机层212的材料包括氮化硅或氧化硅。第一封装层214的材料包括氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。第二封装层215的材料包括：聚丙烯酸酯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜或聚亚酰胺。第三封装层216的材料包括：氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。
47.消缝层的数量为两层，两层消缝层为第一消缝层411和第二消缝层412，第一消缝层411连接于衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213；第二消缝层412连接于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。
48.可以理解的是，在本实施例中，采用两层消缝层，达到缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。在本实施例中，第一消缝层411同时与衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213连接，第二消缝层412同时与第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216连接，起到可以降低消缝层的制造难度，还可以起到节约工序的目的。可以理解的是，消光系数还受膜层厚度的影响，因此调整消缝层的厚度也可以起到调节消光系数的作用，进一步扩大材料的选取范围。
49.其中，第一消缝层411的折射率等于衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213中的一者的折射率，第一消缝层411的消光系数也等于衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213中的同一者的消光系数。比如第一消缝层411的折射率等于衬底层211的折射率，第一消缝层411的消光系数等于衬底层211的消光系数。
50.第二消缝层412的折射率等于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中一者的折射率，第二消缝层412的消光系数也等于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的同一者的消光系数。比如第二消缝层412的折射率等于第一封装层214的折射率，第二消缝层412的消光系数等于第一封装层214的消光系数。
51.可选的，第一消缝层411的厚度等于衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213的厚度之和。第二消缝层412的厚度等于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216的厚度之和。
52.可选的，在本实施例中，第一基板10包括基底11、驱动功能层12和第一导电垫14，
驱动功能层12设置在基底11上，第一导电垫14设置在驱动功能层12上。第二基板20还包括第二导电垫22，第二导电垫22设置在衬底层211靠近第一基板10的一侧，第一导电垫14和第二导电垫22绑定连接。
53.可以理解的是，在本实施例中，第二导电垫22与薄膜晶体管电连接。第一基板10还包括设置在边框区的驱动芯片13。
54.可选的，在本技术的一些实施例中，显示屏200还包括粘合胶50，第一基板10和第二基板20之间形成有空隙60，粘合胶50填充在空隙60内，且连接于第一基板10和第二基板20；消缝结构层40设置在粘合胶50上。
55.可以理解的是，在本实施例中，粘合胶50可起到固定第一基板10和第二基板20的作用。在一些实施例中，通过在粘合胶50中掺杂干燥剂的方式，还可以进一步提高显示屏200抵抗水氧的效果。
56.实施例二、
57.请参阅图2、图3、图4和图6，本技术实施例提供一种显示屏200，包括：第一基板10、至少两个第二基板20和消缝结构层40。至少两个第二基板20拼接设置在第一基板10上。相邻第二基板20之间存在缝隙30。第二基板20包括多层层叠设置的透明膜层21。消缝结构层40填充缝隙30。消缝结构层40包括至少两层层叠设置的消缝层。一消缝层对应连接至少一层透明膜层。在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与一透明膜层的复折射率相同。
58.请参阅图5，可以理解的是，在本实施例中，在显示屏200结构中在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与透明膜层的复折射率相同，可以从视觉上消除拼接第二基板20之间的缝隙30，实现大尺寸无边缝的显示。
59.可选的，在本实施例中，在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数相同。
60.可以理解的是，在本实施例中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数相同，可以尽可能的不改变原有光线的光学路径，实现缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。可以理解的是，消缝层的材料包括：亚克力、有机硅、环氧树脂或聚氨酯中的一种或者几种。可以理解的是，在一些实施例中，消缝层的材料可以与对应透明膜层的材料相同。
61.可选的，在本实施例中，消缝层包括主体膜层和透明的纳米颗粒401，纳米颗粒401掺杂在主体膜层内。
62.可以理解的是，在本实施例中，消缝层的材料会有其固有的折射率，通过在主体膜层中掺杂透明的纳米颗粒401以改变消缝层的折射率，达到调节消缝层折射率的目的。纳米颗粒401包括：二氧化硅、碳化硅、羟基磷灰石或钛酸钡。
63.可选的，消缝层的材料还可以包括消光材料，消光材料混合在主体膜层中。消光材料可以是颜料或油墨。
64.可选的，在一些实施例，消缝层也可以仅包括主体膜层。
65.可选的，在本实施例中，多层透明膜层21包括衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。在显示屏200的厚度方向上，衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层
216依次层叠设置。一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者。
66.可以理解的是，当一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者时，可以实现不改变与消缝层相连接的透明膜层的光学路径。需要说明的是，在本实施例中，第一基板10还包括薄膜晶体管(未在图中示出)。阵列无机层212覆盖薄膜晶体管。阵列有机层213的材质为有机光阻，阵列有机层213包括间隔柱、像素定义层和平坦层。衬底层211的材料包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚砜或聚芳酯。阵列无机层212的材料包括氮化硅或氧化硅。第一封装层214的材料包括氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。第二封装层215的材料包括：聚丙烯酸酯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜或聚亚酰胺。第三封装层216的材料包括：氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。
67.可选的，在本技术的一些实施例中，消缝层的数量为三层，三层消缝层为第一消缝层421、第二消缝层422和第三消缝层423，第一消缝层421连接于衬底层211，第二消缝层422连接于阵列无机层212和阵列有机层213；第三消缝层423连接于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。
68.其中，第一消缝层421的折射率等于衬底层211的折射率；第一消缝层421的消光系数等于衬底层211的消光系数。
69.第二消缝层422的折射率等于阵列无机层212和阵列有机层213中的一者的折射率，第二消缝层422的消光系数也等于阵列无机层212和阵列有机层213中的同一者的消光系数。比如第二消缝层422等于阵列无机层212的折射率，第二消缝层422的消光系数等于阵列无机层212的消光系数。
70.第三消缝层423的折射率等于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的一者的折射率，第三消缝层423的消光系数也等于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的一者的消光系数。比如第三消缝层423等于第一封装层214的折射率，第三消缝层423的消光系数等于第一封装层214的消光系数。可以理解的是，在本实施例中，采用三层消缝层，可以进一步提高缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。可以理解的是，消光系数还受膜层厚度的影响，因此调整消缝层的厚度也可以起到调节消光系数的作用，进一步扩大材料的选取范围。
71.可选的，第一消缝层421的厚度等于衬底层211的厚度。第二消缝层422的厚度等于阵列无机层212和阵列有机层213的厚度之和。第三消缝层423的厚度等于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216的厚度之和。
72.可选的，在本实施例中，第一基板10包括基底11、驱动功能层12和第一导电垫14，驱动功能层12设置在基底11上，第一导电垫14设置在驱动功能层12上。第二基板20还包括第二导电垫22，第二导电垫22设置在衬底层211靠近第一基板10的一侧，第一导电垫14和第二导电垫22绑定连接。
73.可以理解的是，在本实施例中，第二导电垫22与薄膜晶体管电连接。第一基板10还包括设置在边框区的驱动芯片13。
74.可选的，在本技术的一些实施例中，显示屏200还包括粘合胶50，第一基板10和第
二基板20之间形成有空隙60，粘合胶50填充在空隙60内，且连接于第一基板10和第二基板20；消缝结构层40设置在粘合胶50上。
75.可以理解的是，在本实施例中，粘合胶50可起到固定第一基板10和第二基板20的作用。在一些实施例中，通过在粘合胶50中掺杂干燥剂的方式，还可以进一步提高显示屏200抵抗水氧的效果。
76.实施例三、
77.请参阅图2、图3、图4和图7本技术实施例提供一种显示屏200，包括：第一基板10、至少两个第二基板20和消缝结构层40。至少两个第二基板20拼接设置在第一基板10上。相邻第二基板20之间存在缝隙30。第二基板20包括多层层叠设置的透明膜层21。消缝结构层40填充缝隙30。消缝结构层40包括至少两层层叠设置的消缝层。一消缝层对应连接至少一层透明膜层。在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与一透明膜层的复折射率相同。
78.请参阅图5，可以理解的是，在本实施例中，在显示屏200结构中在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与透明膜层的复折射率相同，可以从视觉上消除拼接第二基板20之间的缝隙30，实现大尺寸无边缝的显示。
79.可选的，在本实施例中，在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数相同。
80.可以理解的是，在本实施例中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数相同，可以尽可能的不改变原有光线的光学路径，实现缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。可以理解的是，消缝层的材料包括：亚克力、有机硅、环氧树脂或聚氨酯中的一种或者几种。可以理解的是，在一些实施例中，消缝层的材料可以与对应透明膜层的材料相同。
81.可选的，在本实施例中，消缝层包括主体膜层和透明的纳米颗粒401，纳米颗粒401掺杂在主体膜层内。
82.可以理解的是，在本实施例中，消缝层的材料会有其固有的折射率，通过在主体膜层中掺杂透明的纳米颗粒401以改变消缝层的折射率，达到调节消缝层折射率的目的。纳米颗粒401包括：二氧化硅、碳化硅、羟基磷灰石或钛酸钡。
83.可选的，消缝层的材料还可以包括消光材料，消光材料混合在主体膜层中。消光材料可以是颜料或油墨。
84.可选的，在一些实施例，消缝层也可以仅包括主体膜层。
85.可选的，消缝层的材料还可以包括消光材料，消光材料混合在主体膜层中。消光材料可以是颜料或油墨。
86.可选的，在一些实施例，消缝层也可以仅包括主体膜层。
87.可选的，在本实施例中，多层透明膜层21包括衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。在显示屏200的厚度方向上，衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216依次层叠设置。一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者。
88.可以理解的是，当一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一
封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者时，可以实现不改变与消缝层相连接的透明膜层的光学路径。需要说明的是，在本实施例中，第一基板10还包括薄膜晶体管(未在图中示出)。阵列无机层212覆盖薄膜晶体管。阵列有机层213的材质为有机光阻，阵列有机层213包括间隔柱、像素定义层和平坦层。衬底层211的材料包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚砜或聚芳酯。阵列无机层212的材料包括氮化硅或氧化硅。第一封装层214的材料包括氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。第二封装层215的材料包括：聚丙烯酸酯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜或聚亚酰胺。第三封装层216的材料包括：氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。
89.可选的，在本技术的一些实施例中，消缝层的数量为六层，六层消缝层为第一消缝层431、第二消缝层432、第三消缝层433、第四消缝层434、第五消缝层435、第六消缝层436；第一消缝层431连接于衬底层211，第二消缝层432连接于阵列无机层212，第三消缝层433连接于阵列有机层213；第四消缝层434连接于第一封装层214，第五消缝层435连接于第二封装层215，第六消缝层436连接于第三封装层216。
90.可选的，第一消缝层431的厚度等于衬底层211的厚度，第二消缝层432的厚度等于阵列无机层212的厚度，第三消缝层433的厚度等于阵列有机层213的厚度；第四消缝层434的厚度等于第一封装层214的厚度，第五消缝层435等于第二封装层215的厚度，第六消缝层436的厚度等于第三封装层216的厚度。
91.可以理解的是，在本实施例中，采用六层消缝层，可以使缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果达到最大。可以理解的是，消光系数还受膜层厚度的影响，因此调整消缝层的厚度也可以起到调节消光系数的作用，进一步扩大材料的选取范围。
92.其中，第一消缝层431的折射率等于衬底层211的折射率；第一消缝层431的消光系数等于衬底层211的消光系数。第二消缝层432的折射率等于阵列无机层212的折射率；第三消缝层433的消光系数等于阵列无机层212的消光系数。第三消缝层433的折射率等于阵列有机层213的折射率；第三消缝层433的消光系数等于阵列有机层213的消光系数。第四消缝层434的折射率等于第一封装层214的折射率；第四消缝层434的消光系数等于第一封装层214的消光系数。第五消缝层435的折射率等于第二封装层215的折射率；第五消缝层435的消光系数等于第二封装层215的消光系数。第六消缝层436的折射率等于第三封装层216的折射率；第六消缝层436的消光系数等于第三封装层216的消光系数。
93.可选的，在本实施例中，第一基板10包括基底11、驱动功能层12和第一导电垫14，驱动功能层12设置在基底11上，第一导电垫14设置在驱动功能层12上。第二基板20还包括第二导电垫22，第二导电垫22设置在衬底层211靠近第一基板10的一侧，第一导电垫14和第二导电垫22绑定连接。
94.可以理解的是，在本实施例中，第二导电垫22与薄膜晶体管电连接。第一基板10还包括设置在边框区的驱动芯片13。
95.可选的，在本技术的一些实施例中，显示屏200还包括粘合胶50，第一基板10和第二基板20之间形成有空隙60，粘合胶50填充在空隙60内，且连接于第一基板10和第二基板20；消缝结构层40设置在粘合胶50上。
96.可以理解的是，在本实施例中，粘合胶50可起到固定第一基板10和第二基板20的
作用。在一些实施例中，通过在粘合胶50中掺杂干燥剂的方式，还可以进一步提高显示屏200抵抗水氧的效果。
97.实施例四、
98.请参阅图2、图3、图4和图8，本技术实施例提供一种显示屏200，包括：第一基板10、至少两个第二基板20和消缝结构层40。至少两个第二基板20拼接设置在第一基板10上。相邻第二基板20之间存在缝隙30。第二基板20包括多层层叠设置的透明膜层。消缝结构层40填充缝隙30。消缝结构层40包括至少两层层叠设置的消缝层。一消缝层对应连接至少一层透明膜层。在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与一透明膜层的复折射率相同。
99.请参阅图5，可以理解的是，在本实施例中，在显示屏200结构中在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与透明膜层的复折射率相同，可以从视觉上消除拼接第二基板20之间的缝隙30，实现大尺寸无边缝的显示。
100.可选的，在本实施例中，在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数不同。
101.可以理解的是，在保证消缝层和与其连接的透明膜层复折射率相同的情况下，可以不改变原有光线的光学路径，实现缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。需要说明的是：材料的复折射率由实数部分折射率与虚数部分消光系数共同决定。因此通过调整折射率和消光系数可以实现消缝层与连接的透明膜层复折射率相同。可以理解的是，消缝层的材料包括：亚克力、有机硅、环氧树脂或聚氨酯中的一种或者几种。可以理解的是，在一些实施例中，消缝层的材料可以与对应透明膜层的材料相同。
102.可选的，在本技术的一些实施例中，消缝层包括主体膜层、透明的纳米颗粒401和填料402，纳米颗粒401和填料402掺杂在主体膜层内。
103.在本实施例中，通过添加纳米颗粒401和填料402，分别改变消缝层的折射率和消光系数，可以进一步扩大材料的选取，降低材料选取的难度和调配材料的工艺难度。纳米颗粒401包括：二氧化硅、碳化硅、羟基磷灰石或钛酸钡。填料402包括：颜料或油墨。
104.可选的，在一些实施例，消缝层也可以仅包括主体膜层。
105.可选的，在本实施例中，多层透明膜层21包括衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。在显示屏200的厚度方向上方向上，衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216依次层叠设置。一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者。
106.可以理解的是，当一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者时，可以实现不改变与消缝层相连接的透明膜层的光学路径。需要说明的是，在本实施例中，第一基板10还包括薄膜晶体管(未在图中示出)。阵列无机层212覆盖薄膜晶体管。阵列有机层213的材质为有机光阻，阵列有机层213包括间隔柱、像素定义层和平坦层。衬底层211的材料包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚砜或聚芳酯。阵列无机层212的材料包括氮化硅或氧化硅。第一封装层214的材料包括氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。第二封装层215的材料包括：聚丙烯酸酯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸
乙二醇酯、聚醚砜或聚亚酰胺。第三封装层216的材料包括：氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。
107.消缝层的数量为两层，两层消缝层为第一消缝层441和第二消缝层442，第一消缝层441连接于衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213；第二消缝层442连接于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。
108.可以理解的是，在本实施例中，采用两层消缝层，达到缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。在本实施例中，第一消缝层441同时与衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213连接，第二消缝层442同时与第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216连接，起到可以降低消缝层的制造难度，还可以起到节约工序的目的。可以理解的是，消光系数还受膜层厚度的影响，因此调整消缝层的厚度也可以起到调节消光系数的作用，进一步扩大材料的选取范围。
109.可选的，第一消缝层441的厚度等于衬底层211、阵列无机层212和阵列有机层213的厚度之和。第二消缝层442的厚度等于第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216的厚度之和。
110.可选的，在本实施例中，第一基板10包括基底11、驱动功能层12和第一导电垫14，驱动功能层12设置在基底11上，第一导电垫14设置在驱动功能层12上。第二基板20还包括第二导电垫22，第二导电垫22设置在衬底层211靠近第一基板10的一侧，第一导电垫14和第二导电垫22绑定连接。
111.可以理解的是，在本实施例中，第二导电垫22与薄膜晶体管电连接。第一基板10还包括设置在边框区的驱动芯片13。
112.可选的，在本技术的一些实施例中，显示屏200还包括粘合胶50，第一基板10和第二基板20之间形成有空隙60，粘合胶50填充在空隙60内，且连接于第一基板10和第二基板20；消缝结构层40设置在粘合胶50上。
113.可以理解的是，在本实施例中，粘合胶50可起到固定第一基板10和第二基板20的作用。在一些实施例中，通过在粘合胶50中掺杂干燥剂的方式，还可以进一步提高显示屏200抵抗水氧的效果。
114.实施例五、
115.请参阅图2、图3、图4和图9，本技术实施例提供一种显示屏200，包括：第一基板10、至少两个第二基板20和消缝结构层40。至少两个第二基板20拼接设置在第一基板10上。相邻第二基板20之间存在缝隙30。第二基板20包括多层层叠设置的透明膜层。消缝结构层40填充缝隙30。消缝结构层40包括至少两层层叠设置的消缝层。一消缝层对应连接至少一层透明膜层。在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与一透明膜层的复折射率相同。
116.请参阅图5，可以理解的是，在本实施例中，在显示屏200结构中在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的复折射率与透明膜层的复折射率相同，可以从视觉上消除拼接第二基板20之间的缝隙30，实现大尺寸无边缝的显示。
117.可选的，在本实施例中，在消缝层和与其连接的透明膜层中，消缝层的折射率和消光系数对应与一透明膜层的折射率和消光系数不同。
118.可以理解的是，在保证消缝层和与其连接的透明膜层复折射率相同的情况下，可
以不改变原有光线的光学路径，实现缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果。需要说明的是：材料的复折射率由实数部分折射率与虚数部分消光系数共同决定。因此通过调整折射率和消光系数可以实现消缝层与连接的透明膜层复折射率相同。可以理解的是，消缝层的材料包括：亚克力、有机硅、环氧树脂或聚氨酯中的一种或者几种。可以理解的是，在一些实施例中，消缝层的材料可以与对应透明膜层的材料相同。
119.可选的，在本技术的一些实施例中，消缝层包括主体膜层、透明的纳米颗粒401和填料402，纳米颗粒401和填料402掺杂在主体膜层内。
120.在本实施例中，通过添加纳米颗粒401和填料402，分别改变消缝层的折射率和消光系数，可以进一步扩大材料的选取，降低材料选取的难度和调配材料的工艺难度。纳米颗粒401包括：二氧化硅、碳化硅、羟基磷灰石或钛酸钡。填料402包括：颜料或油墨。
121.可选的，在一些实施例，消缝层也可以仅包括主体膜层。
122.可选的，在本实施例中，多层透明膜层包括衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216。在显示屏200的厚度方向上，衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216依次层叠设置。一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者。
123.可以理解的是，当一消缝层连接衬底层211、阵列无机层212、阵列有机层213、第一封装层214、第二封装层215和第三封装层216中的至少一者时，可以实现不改变与消缝层相连接的透明膜层的光学路径。需要说明的是，在本实施例中，第一基板10还包括薄膜晶体管(未在图中示出)。阵列无机层212覆盖薄膜晶体管。阵列有机层213的材质为有机光阻，阵列有机层213包括间隔柱、像素定义层和平坦层。衬底层211的材料包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚砜或聚芳酯。阵列无机层212的材料包括氮化硅或氧化硅。第一封装层214的材料包括氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。第二封装层215的材料包括：聚丙烯酸酯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜或聚亚酰胺。第三封装层216的材料包括：氮氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝或氧化铽。
124.可选的，在本技术的一些实施例中，消缝层数量和透明膜层的数量相同，消缝层的厚度等于透明膜层的厚度。
125.可以理解的是，在本实施例中，消缝层数量和透明膜层的数量相同，消缝层的厚度等于透明膜层的厚度可以降低在消缝层与其连接的透明膜层的光路的复杂程度。
126.可选的，在本实施例中，消缝层的数量为六层，六层消缝层为第一消缝层451、第二消缝层452、第三消缝层453、第四消缝层454、第五消缝层455、第六消缝层456；第一消缝层451连接于衬底层211，第二消缝层452连接于阵列无机层212，第三消缝层453连接于阵列有机层213；第四消缝层454连接于第一封装层214，第五消缝层455连接于第二封装层215，第六消缝层456连接于第三封装层。
127.可以理解的是，在本实施例中，采用六层消缝层，可以使缝隙30与显示屏200相匹配的出光效果达到最大。可以理解的是，消光系数还受膜层厚度的影响，因此调整消缝层的厚度也可以起到调节消光系数的作用，进一步扩大材料的选取范围。
128.可选的，第一消缝层451的厚度等于衬底层211的厚度，第二消缝层452的厚度等于
阵列无机层212的厚度，第三消缝层453的厚度等于阵列有机层213的厚度；第四消缝层454的厚度等于第一封装层214的厚度，第五消缝层455等于第二封装层215的厚度，第六消缝层456的厚度等于第三封装层216的厚度。
129.可选的，在本实施例中，第一基板10包括基底11、驱动功能层12和第一导电垫14，驱动功能层12设置在基底11上，第一导电垫14设置在驱动功能层12上。第二基板20还包括第二导电垫22，第二导电垫22设置在衬底层211靠近第一基板10的一侧，第一导电垫14和第二导电垫22绑定连接。
130.可以理解的是，在本实施例中，第二导电垫22与薄膜晶体管电连接。第一基板10还包括设置在边框区的驱动芯片13。
131.可选的，在本技术的一些实施例中，显示屏200还包括粘合胶50，第一基板10和第二基板20之间形成有空隙60，粘合胶50填充在空隙60内，且连接于第一基板10和第二基板20；消缝结构层40设置在粘合胶50上。
132.可以理解的是，在本实施例中，粘合胶50可起到固定第一基板10和第二基板20的作用。在一些实施例中，通过在粘合胶50中掺杂干燥剂的方式，还可以进一步提高显示屏200抵抗水氧的效果。
133.以上对本技术实施例所提供的一种显示屏200进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。