显示面板的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板。


背景技术：

2.目前，tv、商显等行业的产品尺寸逐渐趋向大屏化。对于面板行业来说，基于玻璃基板的尺寸不变，单张玻璃基板上能设计的产品数量就逐渐变少，如果出现1片不良产品，不良率也将逐步放大。以g8.6代线为例，生产75、85、或100inch的显示面板，1张玻璃基板仅能制作2片显示面板，如果出现1片不良产品，不良率将达到50％。基于这种形式下，不良品的修复手段就显得尤为重要。
3.显示面板包括阵列基板和对向基板，阵列基板包括多条相互平行并依次排列的竖直的数据线(data line)、多条相互平行并依次排列的水平的扫描线(scanning line)、与数据线及扫描线电性连接的多个呈阵列式排布的薄膜晶体管(thin film transistor，tft)、及与薄膜晶体管电性连接的像素电极。扫描线向薄膜晶体管提供扫描信号，数据线向薄膜晶体管提供数据信号，以控制液晶显示面板显示画面。
4.不良品的缺陷通常表现在数据线或扇出引线的断线不良，导致在显示画面中产生黑线，严重影响画面显示质量。因此，有必要提供一种能够修复断线的方案。


技术实现要素：

5.本技术提供了一种显示面板，能够修复显示面板中发生断线的数据线或扇出引线，降低不良率。
6.本技术第一方面的实施例提出了一种显示面板，包括阵列基板和覆晶薄膜，所述阵列基板上设有多条数据线和多条扇出引线，所述扇出引线的一端连接于所述覆晶薄膜且另一端连接相应的所述数据线，所述阵列基板上还设有第一修复线组和/或第二修复线组；
7.所述第一修复线组包括第一修复线和第一修复线引线，所述第一修复线与多条所述数据线交叉且绝缘设置，所述第一修复线引线的一端连接所述覆晶薄膜，另一端连接所述第一修复线；
8.所述第二修复线组包括第二修复线和第二修复线引线，所述第二修复线与多条所述扇出引线交叉且绝缘设置，所述第二修复线引线的一端连接所述覆晶薄膜，另一端连接所述第二修复线。
9.在一实施例中，所述阵列基板上设有所述第一修复线组，所述阵列基板包括显示区和围绕所述显示区的周边区，且所述周边区包括位于所述显示区的相对两侧的第一区域和第二区域，以及连接所述第一区域和第二区域的两个第三区域，所述扇出引线设于所述第一区域；所述第一修复线引线自所述第一区域经所述第三区域延伸至所述第二区域，所述第一修复线设于所述第二区域。
10.在一实施例中，所述第一修复线的数量为多条，多条所述第一修复线间隔设置；所述第一修复线引线的数量为多条，每条所述第一修复线引线连接一条对应的所述第一修复
线。
11.在一实施例中，所述阵列基板包括第一金属层、第二金属层和设于所述第一金属层与所述第二金属层之间的绝缘层，所述数据线设于所述第二金属层中，所述扇出引线、所述第一修复线和所述第一修复线引线均设于所述第一金属层中；所述第二修复线设于所述第二金属层中，所述第二修复线引线设于所述第一金属层中，所述第二修复线引线通过所述绝缘层中的过孔连接所述第二修复线。
12.在一实施例中，所述第二修复线的数量为多条，多条所述第二修复线间隔设置；所述第二修复线引线的数量为多条且分别设于所述显示面板的相对两侧，每条所述第二修复线引线连接一条对应的所述第二修复线。
13.在一实施例中，所述第二修复线引线与所述第二修复线在所述第一区域的边缘处通过所述绝缘层中的过孔相连接。
14.在一实施例中，所述覆晶薄膜的数量为多个，且每个所述覆晶薄膜上设有若干引脚，所述扇出引线分别与相应的所述引脚电连接；所述第一修复线引线、所述第二修复线引线均与所述显示面板两侧的所述覆晶薄膜中的所述引脚电连接。
15.本技术第二方面的实施例提出了一种显示面板，包括阵列基板和覆晶薄膜，所述阵列基板上设有多条数据线和多条扇出引线，所述扇出引线的一端连接于所述覆晶薄膜且另一端连接相应的所述数据线，所述阵列基板上还设有第一修复线组和/或第二修复线组；
16.所述第一修复线组包括第一修复线和第一修复线引线，所述第一修复线与一条所述数据线电性连接，同时所述第一修复线与其余所述数据线交叉且绝缘设置，所述第一修复线引线的一端连接所述覆晶薄膜，另一端连接所述第一修复线；
17.所述第二修复线组包括第二修复线和第二修复线引线，所述第二修复线与一条所述扇出引线电性连接，同时所述第二修复线与其余所述扇出引线交叉且绝缘设置，所述第二修复线引线的一端连接所述覆晶薄膜，另一端连接所述第二修复线。
18.在一实施例中，所述阵列基板包括显示区和围绕所述显示区的周边区，且所述周边区包括位于所述显示区的相对两侧的第一区域和第二区域，以及连接所述第一区域和第二区域的两个第三区域，所述扇出引线设于所述第一区域；所述第一修复线引线自所述第一区域经所述第三区域延伸至所述第二区域，所述第一修复线设于所述第二区域。
19.在一实施例中，所述阵列基板包括第一金属层、第二金属层和设于所述第一金属层与所述第二金属层之间的绝缘层，所述数据线设于所述第二金属层中，所述扇出引线、所述第一修复线和所述第一修复线引线均设于所述第一金属层中；所述第二修复线设于所述第二金属层中，所述第二修复线引线设于所述第一金属层中，所述第二修复线引线通过所述绝缘层中的过孔连接所述第二修复线。
20.本技术提供的显示面板包括阵列基板和覆晶薄膜，且阵列基板上设有第一修复线组和/或第二修复线组，显示面板修复断线的数据线和/或扇出引线，避免断线造成的屏幕黑线，减少了不良品，提升了产品良率。
附图说明
21.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些
实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
22.图1是本技术实施例一提供的显示面板的结构示意图；
23.图2是本技术实施例一提供的显示面板中阵列基板沿a-a线的截面示意图；
24.图3是本技术实施例二提供的显示面板的结构示意图；
25.图4是本技术实施例三提供的显示面板的结构示意图。
26.图中标记的含义为：
27.100、显示面板；10、阵列基板；11、数据线；12、扇出引线；13、第一修复线组；131、第一修复线；132、第一修复线引线；14、第二修复线组；141、第二修复线；142、第二修复线引线；101、衬底基板；102、第一金属层；103、绝缘层；104、第二金属层；105、保护层；10a、第一区域；10b、第二区域；10c、第三区域；20、覆晶薄膜。
具体实施方式
28.为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图即实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
29.需说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以是直接或者间接在该另一个部件上。当一个部件被称为是“连接于”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上。术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对专利的限制。术语“第一”、“第二”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
30.为了说明本技术所述的技术方案，下面结合具体附图及实施例来进行说明。
31.本技术第一方面的实施例提出了一种显示面板，能够修复断线的数据线，降低不良率。
32.实施例一
33.请参照图1，本技术的实施例一提供了一种显示面板100，包括阵列基板10和覆晶薄膜(chip on film，cof)20。
34.覆晶薄膜20是将电路(ic)固定在柔性线路板上的晶粒软膜构装技术，运用软质附加电路板作为封装芯片载体将芯片与软性基板电路结合，或者单指未封装芯片的软质附加电路板。覆晶薄膜20能够使阵列基板10与控制板(图未示)电连接。覆晶薄膜20上设有源驱动芯片和多个引脚；覆晶薄膜20的数量可为一个或多个，且覆晶薄膜20绑定在阵列基板10上。
35.阵列基板10上设有多条数据线11和多条扇出引线12，扇出引线12的一端连接于覆晶薄膜20且另一端连接相应的数据线11。可以理解，阵列基板10上还设有多条扫描线、多个tft，不再详述。
36.阵列基板10上还设有第一修复线组13和/或第二修复线组14。第一修复线组13用于修复断线的数据线12，第二修复线组14用于修复断线的扇出引线12。
37.第一修复线组13包括第一修复线131和第一修复线引线132，第一修复线131与多条数据线11交叉且绝缘设置，第一修复线引线132的一端连接覆晶薄膜20，另一端连接第一修复线131。
38.第二修复线组14包括第二修复线141和第二修复线引线142，第二修复线141与多条扇出引线12交叉且绝缘设置，第二修复线引线142的一端连接覆晶薄膜20，另一端连接第二修复线141。
39.图1示意了两条第一修复线131，每条第一修复线131横跨在多条数据线11上。可以理解，第一修复线131的数量可为一条或多条。
40.当某条数据线11发生断线时，例如图1中的b部发生断线，则将第一修复线131与发生断线的数据线11在二者的交叉处(图1中c部)通过镭射实现电性连接，使第一修复线131与断线的数据线11导通，调整覆晶薄膜20的信号输入，使覆晶薄膜20通过第一修复线131向数据线11输入信号，即可达到修复断线的目的。具体的，数据线11被断线处区分为第一段数据线和第二段数据线，第一段数据线上所连接的多个tft由扇出引线12传递驱动信号；第二段数据线由第一修复线131传递驱动信号，以保证数据线11所连接的tft均能正常使用，避免显示异常。
41.图1还示意了两条第二修复线141，每条第二修复线141横跨在多条扇出引线12上。可以理解，第二修复线141的数量可为一条或多条。
42.在本实施例中，第一修复线131、第二修复线141均沿垂直于数据线11的方向延伸。
43.当某条扇出引线12发生断线时，例如图1中的d部发生断线，则将第二修复线141与发生断线的扇出引线12在二者的交叉处(图1中e部)通过镭射实现电性连接，使第二修复线141与断线的扇出引线12导通，调整覆晶薄膜20的信号输入，使覆晶薄膜20通过第二修复线141向扇出引线12输入信号，即可达到修复扇出引线12断线的目的。
44.本技术提供的显示面板100包括阵列基板10和覆晶薄膜20，且阵列基板10上设有第一修复线组13和第二修复线组14，第一修复线组13包括第一修复线131和第一修复线引线132，第一修复线131与数据线11绝缘交叉设置，第一修复线引线132连接覆晶薄膜20与第一修复线131，从而可在数据线11发生断线时，将第一修复线131与断线的数据线11电性连接，并通过覆晶薄膜20向第一修复线131输入驱动信号，即可修复断线的数据线11；第二修复线组14包括第二修复线141和第二修复线引线142，能够修复断线的扇出引线12。
45.因此，上述显示面板100可修复数据线11和/或扇出引线12，避免数据线11和/或扇出引线12断线造成的屏幕黑线，减少了不良品，提升了产品良率。本技术提供的显示面板100可合理利用覆晶薄膜20上多余的引脚和阵列基板10上的布局空间，成本较低。
46.阵列基板10包括显示区(active area)和围绕显示区的周边区，且周边区包括位于显示区的相对两侧的第一区域10a和第二区域10b，以及连接第一区域10a和第二区域10b的两个第三区域10c，扇出引线12设于第一区域10a；第一修复线引线132自第一区域10a经第三区域10c延伸至第二区域10b，第一修复线131设于第二区域10b。
47.数据线11沿第一方向延伸，数据线11的一端连接扇出引线12，另一端延伸至第二区域10b；第一修复线131与数据线11垂直设置。
48.通过采用该技术方案，第一修复线131、第一修复线引线132均位于周边区，无需在第一修复线131设置在显示区，以方便在断线时使用镭射连接第一修复线131和数据线11且
避免影响显示区内的像素单元。
49.在一实施例中，第一修复线131的数量为多条，多条第一修复线131间隔设置。
50.由于每条第一修复线131可用于修复一条数据线11，通过设置多条第一修复线131，本技术提供的显示面板100可修复多条断线的数据线11，降低产品的不良率。
51.在一实施例中，第一修复线引线132的数量为多条且多条第一修复线引线132分别设于显示面板100的相对两侧；每条第一修复线引线132连接一条对应的第一修复线131。
52.如图1所示，以两条第一修复线引线132为例，两条第一修复线引线132分别自第一区域10a经第三区域10c延伸至第二区域10b，两条第一修复线引线132可连接不同的覆晶薄膜20。
53.通过采用该技术方案，将第一修复线引线132设置于显示面板100的相对两侧，可使多条第一修复线引线132分别连接不同的覆晶薄膜20，合理应用覆晶薄膜20上多余的引脚。
54.可选的，第一修复线131的数量可为2～6条，即显示面板100可修复2～6条断线的数据线11。由于实际生产中断线的数据线11数量优先，因此第一修复线131也无需设置过多的数量，以避免增加过多的镭射成本。
55.请参照图1、图2，阵列基板10包括第一金属层102、第二金属层104和设于第一金属层102与第二金属层104之间的绝缘层103，数据线11设于第二金属层104中，扇出引线12、第一修复线131和第一修复线引线132均设于第一金属层102中；第二修复线141设于第二金属层104中，第二修复线引线142设于第一金属层102中，第二修复线引线142通过绝缘层103中的过孔连接第二修复线142，即第二修复线引线142与第二修复线141跳孔连接。可以理解，阵列基板10还包括衬底基板101和设于第二金属层104上方的保护层105。
56.本实施例中，数据线11设于第二金属层104中，第一修复线131设于第一金属层102中，从而第一修复线131可与数据线11绝缘交叉设置；扇出引线12、第一修复线131和第一修复线引线132均设于第一金属层102中，可在同一道光刻制程中进行制作，制作方便。第二修复线141与扇出引线12分别设于不同的金属层，从而第二修复线141与扇出引线12绝缘交叉设置；第二修复线引线142通过绝缘层103中的过孔连接第二修复线141，从而第二修复线引线142可将覆晶薄膜20输送的信号传递至第二修复线141，进而第二修复线141将信号传递至断线的扇出引线12所连接的数据线11。
57.可选的，第二修复线引线142与第二修复线141在第一区域10a的边缘处通过绝缘层103中的过孔相连接。过孔设置在第一区域10a的边缘，方便打孔，避免影响其他线路。
58.在其他实施例中，扇出引线也可设于第二金属层104中。
59.实施例二
60.请参照图3，本技术的实施例二提供了一种显示面板100，包括阵列基板10和覆晶薄膜20。阵列基板10上设有多条数据线11和多条扇出引线12，扇出引线12的一端连接于覆晶薄膜20且另一端连接相应的数据线11。
61.在实施例二中，阵列基板上还设有第一修复线组13，第一修复线组13包括包括第一修复线131和第一修复线引线132，第一修复线131与多条数据线11交叉且绝缘设置，第一修复线引线132的一端连接覆晶薄膜20，另一端连接第一修复线131。
62.通过采用上述技术方案，显示面板100可修复数据线11的断线缺陷，提升了产品良
率。本技术提供的显示面板100可合理利用覆晶薄膜20上多余的引脚和阵列基板10上的布局空间，成本较低。
63.实施例三
64.请参照图4，本技术的实施例三提供了一种显示面板100，包括阵列基板10和覆晶薄膜20。阵列基板10上设有多条数据线11和多条扇出引线12，扇出引线12的一端连接于覆晶薄膜20且另一端连接相应的数据线11。
65.在实施例三中，显示面板100还包括设于阵列基板10上的第二修复线组14，第二修复线组14包括第二修复线141和第二修复线引线142；第二修复线141与多条扇出引线12交叉且绝缘设置，第二修复线141用于修复断线的扇出引线12；第二修复线引线142的一端连接覆晶薄膜20，另一端连接第二修复线141。
66.图4示意了两条第二修复线141，每条第二修复线141横跨在多条扇出引线12上。可以理解，第二修复线141的数量可为一条或多条。
67.在本实施例中，第二修复线141沿垂直于数据线11的方向延伸。
68.当某条扇出引线12发生断线时，则将第二修复线141与发生断线的扇出引线12在二者的交叉处通过镭射实现电性连接，使第二修复线141与断线的扇出引线12导通，调整覆晶薄膜20的信号输入，使覆晶薄膜20通过第二修复线141向扇出引线12输入信号，即可达到修复扇出引线12断线的目的。
69.本技术提供的显示面板100包括阵列基板10和覆晶薄膜20，且阵列基板10上设有第二修复线141和第二修复线引线142，第二修复线141与扇出引线12绝缘交叉设置，第二修复线引线142连接覆晶薄膜20与第二修复线141，从而可在扇出引线12发生断线时，将第二修复线141与断线的扇出引线12电性连接，并通过覆晶薄膜20向第二修复线141输入驱动信号，即可修复断线的扇出引线12，避免显示画面出现黑线，减少了不良品，提升了产品良率。
70.在一实施例中，第二修复线141的数量为多条，多条第二修复线141间隔设置；第二修复线引线142的数量为多条且分别设于显示面板100的相对两侧，每条第二修复线引线142连接一条对应的第二修复线141。
71.如此，多条第二修复线141可至多修复相应数量的断线，降低不良率；第二修复线引线142的数量为多条且分别设于显示面板100的相对两侧，从而第二修复线引线142可连接不同的覆晶薄膜20。
72.可选的，覆晶薄膜20的数量为多个，且每个覆晶薄膜20上设有若干引脚，扇出引线12分别与相应的引脚电连接；第二修复线引线142与位于显示面板100两侧的覆晶薄膜20中的引脚电连接。
73.通过采用上述技术方案，本技术提供的显示面板100可合理利用覆晶薄膜20上多余的引脚和阵列基板10上的布局空间，成本较低。
74.上述显示面板100可为lcd(liquid crystal display)显示面板或amoled(active matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极管)显示面板。
75.本技术第二方面的实施例提出了一种显示面板。
76.请再次参照图1和图2，显示面板100包括阵列基板10和覆晶薄膜20，阵列基板上设有多条数据线11和多条扇出引线12，扇出引线12的一端连接于覆晶薄膜20且另一端连接相应的数据线11，阵列基板上还设有第一修复线组13和/或第二修复线组14。
77.第一修复线组13包括第一修复线131和第一修复线引线132，第一修复线131与一条数据线11电性连接，同时第一修复线131与其余数据线11交叉且绝缘设置，第一修复线引线131的一端连接覆晶薄膜20，另一端连接第一修复线131。
78.第二修复线组14包括第二修复线141和第二修复线引线142，第二修复线141与一条扇出引线12电性连接，同时第二修复线141与其余扇出引线12交叉且绝缘设置，第二修复线引线142的一端连接覆晶薄膜20，另一端连接第二修复线141。
79.可以理解，第一修复线组13和第二修复线组14的数量可为多条，但每条第一修复线131仅连接一条数据线11，以修复该断线的数据线11；每条第二修复线141连接一条扇出引线12，以修复该断线的扇出引线12。
80.通过采用上述技术方案，显示面板100包括第一修复线组13和第二修复线组14中的至少一者，显示面板100通过第一修复线组13修复了断线的数据线11，或者，显示面板100通过第二修复线组14修复了断线的扇出引线12，避免因断线引起的显示异常，提升了产品良率。
81.在一些实施例中，阵列基板100包括显示区和围绕显示区的周边区，且周边区包括位于显示区的相对两侧的第一区域10a和第二区域10b，以及连接第一区域10a和第二区域10的两个第三区域10c，扇出引线12设于第一区域10；第一修复线引线132自第一区域10a经第三区域10延伸至第二区域10b，第一修复线131设于第二区域10b。
82.通过采用上述技术方案，第一修复线131、第一修复线引线132均位于周边区，无需在第一修复线131设置在显示区，以方便在断线时使用镭射连接第一修复线131和数据线11且避免影响显示区内的像素单元。
83.在一些实施例中，阵列基板10包括第一金属层102、第二金属层104和设于第一金属层102与第二金属层104之间的绝缘层103，数据线11设于第二金属层104中，扇出引线12、第一修复线131和第一修复线引线132均设于第一金属层102中；第二修复线141设于第二金属层104中，第二修复线引线142设于第一金属层102中，第二修复线引线142通过绝缘层中的过孔连接第二修复线142。
84.通过采用上述技术方案，扇出引线12、第一修复线131和第一修复线引线132均设于第一金属层102中，可在同一道光刻制程中进行制作，制作方便；第二修复线141与扇出引线12分别设于不同的金属层，从而第二修复线141与扇出引线12绝缘交叉设置；第二修复线引线142通过绝缘层103中的过孔连接第二修复线141，从而第二修复线引线142可将覆晶薄膜20输送的信号传递至第二修复线141，进而第二修复线141将信号传递至断线的扇出引线12所连接的数据线11。
85.本技术第三方面的实施例提出了一种显示装置，包括第一方面提供的显示面板100。
86.显示装置可为tv、商显等装置。上述显示装置可修复显示面板100中发生断线的数据线11，降低不良率。可选的，显示装置为大尺寸显示装置，例如显示装置为75、85或100inch，通过采用上述技术方案，显著降低了不良率，降低了生产成本。
87.以上实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者
替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的精神和范围，均应包含在本技术的保护范围之内。