显示面板的制作方法

本技术涉及一种显示面板。

背景技术：

1、随着信息化技术的发展，用户和信息之间的连接媒介即显示装置的重要性日益凸显。顺应于此，液晶显示装置(liquid crystal display device)、有机发光显示装置(organic light emitting display device)等之类显示装置的使用正在增加。

2、在显示装置的制造工艺中，多个显示面板可以包括在母基板中一起制造之后，在划线工艺中从母基板分别分离。在各个显示面板的非显示区域中可以提供包括用于将各个显示面板与其它显示面板进行区分的固有信息的单元标识符。为了分析显示面板的制造工艺中面板的缺陷与否或者进行事后管理，可能需要单元标识符。

3、在显示面板的各个制造工艺中，通过单元标识符识别各个显示面板，因此，当在显示面板中形成有单元标识符的部分破损或识别不到单元标识符时，可能难以掌握显示面板的工艺历程。

技术实现思路

1、根据本实用新型的实施例，可以提供包括两个以上的包括相同的信息的单元标识符的显示面板以及制造显示面板的方法。由此，当一个单元标识符破损或者识别不到时，可以通过其它单元标识符掌握显示面板的工艺历程。

2、另外，根据本实用新型的实施例，包括在一个显示面板中的多个单元标识符可以具有分别彼此不同的构造。由此，在显示面板的各个制造工艺中，可以选择性地扫描具有容易识别的构造的单元标识符。

3、可以是，根据本实用新型的实施例的包括显示区域以及非显示区域的显示面板包括：基板；单元标识符，配置于所述基板的所述非显示区域上，并显示用于识别所述显示面板的识别信息；以及绝缘膜，配置于所述基板以及所述单元标识符上，所述单元标识符包括第一单元标识符以及在所述非显示区域上配置于与所述第一单元标识符不同的区域的第二单元标识符，所述第一单元标识符包括单层膜构造的第一薄膜层，所述第二单元标识符包括叠层构造的第二薄膜层。

4、在实施例中，可以是，叠层构造的所述第二薄膜层包含比单层膜构造的所述第一薄膜层具有更高的对光的反射率的物质。

5、在实施例中，可以是，所述第二薄膜层中的至少一个包含不透明的物质。

6、可以是，根据实施例的显示面板还包括：像素电路层，配置于所述基板上的所述显示区域，所述像素电路层包括像素电路，所述像素电路包括栅极电极、源极电极、漏极电极以及半导体层，单层膜构造的所述第一薄膜层包含与所述像素电路层的所述半导体层相同的物质，叠层构造的所述第二薄膜层包括具有与所述半导体层相同的物质的第三薄膜层以及具有金属物质的第四薄膜层。

7、在实施例中，可以是，所述第四薄膜层形成于所述第三薄膜层上。

8、在实施例中，可以是，所述半导体层包含多晶硅或者非晶硅，所述金属物质包含钼。

9、在实施例中，可以是，所述第四薄膜层包含与所述栅极电极相同的物质。

10、在实施例中，可以是，所述第四薄膜层包含与所述源极电极及漏极电极相同的物质。

11、可以是，根据实施例的显示面板还包括：像素电路层，配置于所述基板上的所述显示区域；以及显示元件层，配置于所述像素电路层上，所述像素电路层包括像素电路，所述像素电路包括栅极电极、源极电极、漏极电极以及半导体层，所述显示元件层包括发光元件，所述发光元件包括阳极电极、阴极电极以及提供于所述阳极电极和所述阴极电极之间的发光层，单层膜构造的所述第一薄膜层包含与所述像素电路层的半导体层相同的物质，叠层构造的所述第二薄膜层包括具有与所述半导体层相同的物质的第三薄膜层以及具有与所述阳极电极相同的物质的第四薄膜层。

12、在实施例中，可以是，所述第四薄膜层和所述阳极电极是ito/ag/ito的3阶叠层构造。

13、可以是，根据实施例的包括显示区域以及非显示区域的显示面板的制造方法包括：在基板上的所述非显示区域中形成显示用于识别所述显示面板的识别信息的单元标识符的步骤以及在所述基板以及所述单元标识符上形成绝缘膜的步骤，形成所述单元标识符的步骤包括在所述非显示区域的一部分区域中形成第一单元标识符的步骤以及在所述非显示区域的与所述一部分区域不同的区域中形成第二单元标识符的步骤，所述第一单元标识符包括单层膜构造的第一薄膜层，所述第二单元标识符包括叠层构造的第二薄膜层。

14、在实施例中，可以是，所述叠层构造的第二薄膜层包含比所述单层膜构造的第一薄膜层具有更高的对光的反射率的物质。

15、在实施例中，可以是，所述第二薄膜层中的至少一个包含不透明的物质。

16、可以是，根据实施例的显示面板的制造方法还包括：在所述基板上的所述显示区域形成包括像素电路的像素电路层的步骤，形成所述像素电路层的步骤包括：在所述基板上形成所述像素电路的半导体层的步骤、在所述半导体层上形成所述像素电路的栅极电极的步骤以及形成分别与所述半导体层的一部分区域接触的源极电极及漏极电极的步骤，所述单层膜构造的第一薄膜层包含与所述像素电路层的所述半导体层相同的物质，所述叠层构造的第二薄膜层包括具有与所述半导体层相同的物质的第三薄膜层以及具有金属物质第四薄膜层。

17、在实施例中，可以是，形成所述单元标识符的步骤包括：在同时形成所述第一单元标识符的所述第一薄膜层以及所述第二单元标识符的所述第三薄膜层之后，形成所述第二单元标识符的所述第四薄膜层的步骤。

18、在实施例中，可以是，所述半导体层包含多晶硅或者非晶硅，所述金属物质包括钼。

19、在实施例中，可以是，所述第一单元标识符的所述第一薄膜层、所述第二单元标识符的所述第三薄膜层以及所述半导体层同时形成，所述第二单元标识符的所述第四薄膜层和所述栅极电极同时形成。

20、在实施例中，可以是，所述第一单元标识符的所述第一薄膜层、所述第二单元标识符的所述第三薄膜层以及所述半导体层同时形成，所述第二单元标识符的所述第四薄膜层和所述源极电极及所述漏极电极同时形成。

21、可以是，根据实施例的显示面板的制造方法还包括：在所述基板上的所述显示区域中形成包括像素电路的像素电路层的步骤以及在所述像素电路层上形成显示元件层的步骤，形成所述像素电路层的步骤包括：在所述基板上形成所述像素电路的半导体层的步骤、在所述半导体层上形成所述像素电路的栅极电极的步骤以及形成分别与所述半导体层的一部分区域接触的源极电极及漏极电极的步骤，形成所述显示元件层的步骤包括：在所述像素电路层上形成阳极电极的步骤、形成与所述阳极电极接触的发光层的步骤以及在所述发光层上形成阴极电极的步骤，所述单层膜构造的第一薄膜层包含与所述像素电路层的所述半导体层相同的物质，所述叠层构造的第二薄膜层包括具有与所述半导体层相同的物质的第三薄膜层以及具有导电物质的第四薄膜层。

22、在实施例中，可以是，所述第一单元标识符的所述第一薄膜层、所述第二单元标识符的所述第三薄膜层以及所述半导体层同时形成，所述第二单元标识符的所述第四薄膜层和所述阳极电极同时形成。

23、根据本实用新型的实施例，当包括在显示面板中的多个单元标识符中的一个单元标识符破损或者识别不到时，可以通过其它单元标识符掌握显示面板的工艺历程。

24、根据本实用新型的实施例，在显示面板的各个制造工艺中，可以选择性地扫描包括在显示面板中的多个单元标识符中的具有容易识别的构造的单元标识符。