本实用新型涉及水晶生产加工设备技术领域,特别是一种水晶激光内雕机器用可调节式底座。
背景技术:
水晶内雕机是通过三维相机拍摄形成的三维图像进行电脑三维软件处理以后经过数据输出给水晶内雕机雕刻生产水晶内雕饰品。控制发射激光束并使焦点集聚在玻璃材料内部的指定位置,焦点处极高能量密度的激光使材料发生局部爆炸白色产生微点,根据三维数据移动激光焦点位置,便可在玻璃材料或者水晶制品中加工出个人的三维头像画纪念品。目前,水晶内雕机在工作时,高度位置固定,导致使用不方便,另外工作时会产生一定的噪音,同时也会存在粉尘污染,工作人员长时间工作在这种环境下,对身体健康存在很大的威胁。
技术实现要素:
针对上述现有技术存在的问题,本实用新型提供一种水晶激光内雕机器用可调节式底座,高度可以调节,设有消音层和空气净化装置,结构简单,能够对保护罩内进行消噪并同时净化内部空气,改善工作人员的工作环境,实用性较强。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种水晶激光内雕机器用可调节式底座,包括底板,底板下部设有升降杆,升降杆的一端通过固定块进行固定,固定块设置在固定板上,固定板下部设有移动滚轮,底板能够通过升降杆实现升降和旋转,底板上部设有用于罩着水晶激光内雕机器的保护罩,保护罩内设有容纳腔,消音层设置在容纳腔内,容纳腔通过透声孔和保护罩内部相互连通,保护罩上部设有空气净化装置,空气净化装置包括空气净化桶,空气净化桶的两端分别设有进风孔和出风孔,空气净化桶内设有多个空气净化层,涡轮风机设置在空气净化层上部。
优选的是,所述消音层采用消音棉制作而成。
上述任一方案优选的是,所述消音层的厚度为4cm-6cm。
上述任一方案优选的是,所述空气净化层至少包括PP棉净化层、活性炭净化层。
上述任一方案优选的是,所述PP棉净化层和活性炭净化层间隔设置。
上述任一方案优选的是,所述底板可拆卸连接在保护罩下部。
上述任一方案优选的是,所述保护罩采用透明材料制作而成。
上述任一方案优选的是,所述固定块采用金属材料制作而成。
上述任一方案优选的是,所述固定块内设有插孔,升降杆的一端能够通过插孔旋转。
本实用新型的有益效果是:底板下部设有升降杆,升降杆的一端通过固定块进行固定,固定块设置在固定板上,固定板下部设有移动滚轮,底板能够通过升降杆实现升降和旋转,底板上部设有用于罩着水晶激光内雕机器的保护罩,保护罩内设有容纳腔,消音层设置在容纳腔内,容纳腔通过透声孔和保护罩内部相互连通,保护罩上部设有空气净化装置,空气净化装置包括空气净化桶,空气净化桶的两端分别设有进风孔和出风孔,空气净化桶内设有多个空气净化层,涡轮风机设置在空气净化层上部。本实用新型提供一种水晶激光内雕机器用可调节式底座,高度可以调节,设有消音层和空气净化装置,结构简单,能够对保护罩内进行消噪并同时净化内部空气,改善工作人员的工作环境,实用性较强。
附图说明
图1为本实用新型的水晶激光内雕机器用可调节式底座一优选实施例的整体结构示意图;
图2为图1的一局部结构示意图;
图3为图1的另一局部结构剖视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
如图1-图3所示,一种水晶激光内雕机器用可调节式底座,包括底板1,底板1下部设有升降杆2,升降杆2内置气缸,通过升降杆2实现底板1位置的可调。升降杆2的一端通过固定块3进行固定,固定块3设置在固定板4上,固定板4下部设有移动滚轮5,底板1能够通过升降杆2实现升降和旋转,底板1上部设有用于罩着水晶激光内雕机器的保护罩6,保护罩6内设有容纳腔7,消音层8设置在容纳腔7内,消音层8采用消音棉制作而成,所述消音层8的厚度为4cm-6cm。
容纳腔7通过透声孔9和保护罩6内部相互连通,保护罩6上部设有空气净化装置空气净化装置对保护罩6内的粉尘进行净化处理后排出,保障工作人员的工作环境。空气净化装置包括空气净化桶10,空气净化桶10的两端分别设有进风孔11和出风孔12,空气净化桶10内设有多个空气净化层,空气净化层至少包括PP棉净化层14、活性炭净化层15,PP棉净化层14和活性炭净化层15间隔设置。涡轮风机13设置在空气净化层上部。
本实用新型进一步优化的技术方案是,所述底板1可拆卸连接在保护罩下部。保护罩6采用透明材料制作而成,从而方便观察保护罩内部的进展状态。
本实用新型进一步优化的技术方案是,所述固定块3采用金属材料制作而成,起到配重和稳固作用,使整体结构更加牢固稳定。
本实用新型进一步优化的技术方案是,所述固定块3内设有插孔31,升降杆2的一端能够通过插孔31旋转。
本实用新型提供一种水晶激光内雕机器用可调节式底座,底板1高度可以调节且可以旋转,设有消音层8和空气净化装置,结构简单,能够对保护罩内进行消噪并同时净化内部空气,改善工作人员的工作环境,实用性较强。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。