1.一种用于光刻设备的控制架构，其特征在于，包括：一总控制层，所述总控制层通过一VME总线与一分系统控制层通讯，所述分系统控制层通过一现场总线协议与一执行层通讯。
2.如权利要求1所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述总控制层包括一总控制单元以及一主控板卡，所述总控制单元通过一以太网与所述主控板卡通讯。
3.如权利要求1所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述分系统控制层包括一总线控制板及总线控制器，所述总控制层通过所述VME总线与所述总线控制板通讯。
4.如权利要求2所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述主控板卡放置于一机箱内。
5.如权利要求3所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述总线控制板放置于一机箱内。
6.如权利要求3所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述总线控制板通过一现场总线协议与总线控制器通讯。
7.如权利要求3所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述分系统控制层还包括一总线功能模块，所述总线控制器和所述总线功能模块采取拓扑结构。
8.如权利要求7所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述总线功能模块通过一现场总线协议与执行层通讯。
9.如权利要求1所述的用于光刻设备的控制架构，其特征在于，所述执行层包括传感器或执行器。