本发明涉及一种感光性树脂组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法。
背景技术：
以往，各种感光性组合物用作可见图像形成材料或平版印刷版材料。尤其在平版印刷领域中，近年来激光的发展非常惊人，尤其从近红外至红外具有发光区域的固体激光/半导体激光能够轻松地获得高输出且小型的装置。在平版印刷领域中，作为根据计算机等的数字数据直接制版时的曝光光源，这些激光是非常有用的。
红外线激光用正型平版印刷版原版将碱可溶性的粘结剂树脂和吸收光并产生热的IR染料等作为必要成分。该IR染料等在未曝光部(图像部)作为显影抑制剂发挥作用，即通过与粘结剂树脂的相互作用使粘结剂树脂对显影液的溶解性实质上降低，在曝光部(非图像部)，IR染料等与粘结剂树脂的相互作用因所产生的热而减弱，会溶解于碱显影液而形成平版印刷版。
作为现有的平版印刷版，已知有专利文献1～4中所记载的平版印刷版。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-91429号公报
专利文献2：日本特开2005-258070号公报
专利文献3：日本特开2003315995号公报
专利文献4：日本特开2006-225432号公报
发明的概要
发明要解决的技术课题
然而，适用这种感光性的树脂组合物的平版印刷版材料中，若使用由显示对曝光区域中的碱水溶液的溶解性更加良好的特性的树脂组合物构成的记录层，则未曝光区域中的图像形成层的强度下降，难以兼顾显影性和耐刷性。
并且，近年来，在印刷市场中降低成本的要求高涨，廉价印刷材料的使用逐渐扩大。廉价的印刷材料中，存在含有粗大粒子的纸材及油墨，若使用其进行印刷，则粗大粒子会损坏图像部，由此印刷张数显著减少。
为了解决以上问题，公开有设有含有聚氨酯树脂或聚酰胺树脂、苯酚树脂且碱溶解性优异的记录层的平版印刷版原版(参考专利文献1～4)。根据该平版印刷版，虽然耐药品性优异，但曝光部的显影性或耐刷性中的任一个具有改良的余地。
本发明所要解决的课题在于提供一种对所得到的平版印刷版原版的非图像部中的碱水溶液的溶解性良好，进而所得到的平版印刷版的耐刷性及耐药品性优异，尤其使用低品质印刷材料时的耐刷性优异的感光性树脂组合物、使用上述感光性树脂组合物的平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法。
用于解决技术课题的手段
本发明的上述课题通过以下的<1>、<8>或<12>所述的方法得到解决。以下，与作为优选实施方式的<2>至<7>及<9>至<11>一同进行记载。
<1>一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有：在主链上具有式A-1所表示的连结基的高分子化合物；及红外线吸收材料，
[化学式1]
式A-1中，R1及R2分别独立地表示氢原子或一价有机基团，X1表示下述式A-2～式A-6中的任一个所表示的连结基。
[化学式2]
式A-2～式A-6中，R3表示卤原子或一价有机基团，a2i表示1～4的整数，a2j表示0～3的整数，a2i+a2j为1～4，R4及R5分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a3i及a3.j分别独立地表示0～2的整数，a3k及a31分别独立地表示0～4的整数，a3i+a3k为1～6，a3j+a31为0～6-(a3i+a3k)，R6及R7分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a4i及a4k分别独立地表示0～2的整数，a4i+a4k为1～4，a4j及a41分别独立地表示0～2的整数，a4j+a41为0～4-(a4i+a4k)，YA1表示芳香族烃环或脂肪族烃环，R8及R9分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a5i及a5k分别独立地表示0～3的整数，a5i+a5k为1～6，a5j及a51分别独立地表示0～3的整数，a5j+a51为0～6-(a5i+a5k)，R10及R11分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a6k表示0～2的整数，a6i表示0～3的整数，a6i+a6k为1～5，a61表示0～2的整数，a6j表示0～3的整数，a61+a6j为0～5-(a6i+a6k)，YA2表示芳香族烃环或脂肪族烃环。
<2>根据<1>所述的感光性树脂组合物，其中，上述高分子化合物在主链上含有下述式A-7所表示的连结基，
[化学式3]
式A-7中，R12表示单键或二价连结基，R13及R14分别独立地表示氢原子或一价有机基团，X2及X3分别独立地表示式A-2～式A-6所表示的连结基。
<3>根据<2>所述的感光性树脂组合物，其中，式A-7所表示的连结基为下述式A-8所表示的连结基，
[化学式4]
式A-8中，R15表示单键或二价连结基，R16及R17分别独立地表示卤原子或一价有机基团，R18及R19分别独立地表示氢原子或一价有机基团，a、b、c及d分别独立地表示0～4的整数，a+b为1～8，c+d为0～8-(a+b)。
<4>根据<1>至<3>中任一个所述的感光性树脂组合物，其中，上述高分子化合物在主链上还具有下述式A-9所表示的连结基，
[化学式5]
式A-9中，RA9表示氢原子或一价有机基团。
<5>根据<1>至<4>中任一个所述的感光性树脂组合物，其中，上述高分子化合物在主链上具有下述式B-1或式B-2所表示的连结基，
[化学式6]
式B-1及式B-2中，L1表示单键或二价连结基，RB21表示氢原子或一价有机基团。
<6>根据<1>至<5>中任一个所述的感光性树脂组合物，其中，上述高分子化合物在主链上还具有选自由下述式B-3～B-7所表示的连结基构成的组中的至少一个，
[化学式7]
式B-3～式B-7中，RB31、RB51、RB61及RB71”分别独立地表示单键或二价连结基，RB72表示氢原子或一价有机基团，Y1～Y5分别独立地表示芳香族烃环或脂肪族烃环。
<7>根据<6>所述的感光性树脂组合物，其中，上述高分子化合物在主链上还具有上述式B-4或B-7所表示的连结基，
<8>一种平版印刷版原版，其特征在于，在具有亲水性表面的支撑体上具有含有<1>至<7>中任一个所述的感光性树脂组合物的图像记录层，
<9>根据<8>所述的平版印刷版原版，其为正型，
<10>根据<8>或<9>所述的平版印刷版原版，其为在支撑体上具有图像记录层而成的正型平版印刷版原版，所述图像记录层由下层及上层构成，并且，在下层和/或上层含有上述感光性树脂组合物，
<11>根据<10>所述的平版印刷版原版，其中，在下层含有上述感光性树脂组合物，
<12>一种平版印刷版的制作方法，其依次包含：曝光工序，对<8>至<11>中任一个所述的平版印刷版原版进行图像曝光；及显影工序，使用pH8.5～13.5的碱水溶液进行显影。
发明效果
根据本发明，能够提供一种对所得到的平版印刷版原版的非图像部中的碱水溶液的溶解性良好，进而所得到的平版印刷版的耐刷性及耐药品性优异，尤其使用低品质印刷材料时的耐刷性优异的感光性树脂组合物、使用上述感光性树脂组合物的平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法。
具体实施方式
以下，对本发明的内容进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明有时是基于本发明的代表性实施方式来进行的，但本发明并不限定于这种实施方式。
另外，本申请说明书中，表示数值范围的“～”以将其前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的含义来使用。
并且，本发明中，将“式A-1所表示的连结基”等也简称为“连结基A-1”等。
另外，本发明中，优选方式的组合为更优选的方式。
本发明人等进行深入研究的结果，发现通过在感光性树脂组合物中含有式A-1所表示的连结基及红外线吸收剂，能够提供耐刷性、耐药品性及碱水溶液显影性(高亮再现性)优异的平版印刷版原版。
基于此的优异效果的作用机理虽然不明确，但推断如下。
通过本发明人等的研究，得知对于印刷中的耐刷性，树脂的膜强度非常重要，膜强度受粘结剂间的相互作用的影响较大。尤其，在低品质印刷材料中该效果显著，用一般的丙烯酸树脂或聚氨酯树脂难以赋予充分的膜强度。认为这是由于，印刷材料(纸、油墨等)中所含的无机盐粒子(碳酸钙或高岭土等)在印刷中溶出，其对印刷版的图像部起到研磨作用，由此促进磨损。相对于此，本发明中所使用的特定高分子化合物在主链上具有多个相互作用非常强的连结基，因此耐刷性优异。推断这是基于树脂的膜强度得到提高从而抑制印刷版的图像部的磨损的效果。
并且，本发明中所使用的特定高分子化合物在主链上具有多个直接连结于脲键的酚基。因此，在图像形成层中，在聚合物中的脲基的凝集部附近存在酚基，显影液的渗透性较高。推断通过以上机理可以得到显影性优异的平版印刷版原版。
通过本发明人等的研究，得知提高粘结剂聚合物的极性对耐药品性是有效的。本发明中所使用的特定高分子化合物在主链上具有极性非常高的脲键，因此耐药品性优异。其结果，认为在本发明的平版印刷版中，能够兼顾图像部的强度和耐药品性。
(感光性树脂组合物)
本发明的感光性树脂组合物，其特征在于，含有：在主链上具有式A-1所表示的连结基的高分子化合物(以下，也称为“特定高分子化合物”。)；及红外线吸收材料。
以下，首先对作为本发明的感光性树脂组合物的必要成分的特定高分子化合物及红外线吸收材料进行说明。
<在主链上具有连结基A-1的高分子化合物>
本发明中所使用的特定高分子化合物在主链上具有式A-1所表示的连结基。本发明中，“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的连接链，“侧链”表示从主链分支的碳链。
[化学式8]
式A-1中，R1及R2分别独立地表示氢原子或一价有机基团，优选为氢原子、烷基或芳基，更优选为氢原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为氢原子或碳原子数3以下的烷基，尤其优选表示氢原子，尤其优选R1及R2均表示氢原子。
X1表示式A-2～式A-6中的任一个所表示的连结基，优选为A-2、A-4、A-5所表示的连结基，更优选为A-2所表示的连结基。
并且，优选特定高分子化合物中，由X1表示的连结基可以具有不同的多个A-1所表示的连结基，其中至少一个为含有A-2所表示的连结基的基团。
[化学式9]
式A-2～式A-6中，R3表示卤原子或一价有机基团，a2i表示1～4的整数，a2j表示0～3的整数，a2i+a2j为1～4，R4及R5分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a3i及a3j分别独立地表示0～2的整数，a3k及a31分别独立地表示0～4的整数，a3i+a3k为1～6，a3j+a31为0～6-(a3i+a3k)，R6及R7分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a4i及a4k分别独立地表示0～2的整数，a4i+a4k为1～4，a4j及a41分别独立地表示0～2的整数，a4j+a41为0～4-(a4i+a4k)，YA1表示芳香族烃环或脂肪族烃环，R8及R9分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a5i及a5k分别独立地表示0～3的整数，a5i+a5k为1～6，a5j及a51分别独立地表示0～3的整数，a5j+a51为0～6-(a5i+a5k)，R10及R11分别独立地表示卤原子或一价有机基团，a6k表示0～2的整数，a6i表示0～3的整数，a6i+a6k为1～5，a61表示0～2的整数，a6j表示0～3的整数，a61+a6j为0～5-(a6i+a6k)。YA2表示芳香族烃环或脂肪族烃环。
R3表示卤原子或一价有机基团，优选为卤原子、烷基或芳基，更优选为卤原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为卤原子或碳原子数3以下的烷基。
a2i表示1～4的整数，优选为1或2，更优选为1。
a2i+a2j为1～4，a2j表示0～3的整数，优选为0或1，进一步优选为0。
并且，在表示二价连结基的式A-2中有两处与其他结构的键合部位，优选相对于存在于式A-2中所记载的苯环上的一个键合部位，另一个键合部位存在于对位或间位。
式A-2中的羟基优选键合于上述两处与其他结构的键合部位的邻位。
R4及R5分别独立地表示卤原子或一价有机基团，优选为卤原子、烷基或芳基，更优选为卤原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选卤原子或碳原子数3以下的烷基。
a3i及a3j分别独立地表示0～2的整数，a3k及a31分别独立地表示0～4的整数。
a3i+a3k为1～6，优选为1或2。当a3i+a3k为2时，优选a3i表示1、a3k表示1。
a3j+a31为0～6-(a3i+a3k)，优选为0。
并且，在表示二价连结基的式A-3中有两处与其他结构的键合部位，优选均键合于式A-3中所记载的萘环的α位的碳原子。
式A-3中的羟基优选键合于式A-3中所记载的萘环的α位的碳原子。
R6及R7分别独立地表示卤原子或一价有机基团，优选为卤原子、烷基或芳基，更优选为卤原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为卤原子或碳原子数3以下的烷基。
a4i及a4k分别独立地表示0～2的整数。
a4i+a4k为1～4，优选为1或2。当a4i+a4k为2时，优选a4i表示0、a4k表示2。
a4j及a41分别独立地表示0～2的整数。
a4j+a41为0～4-(a4i+a4k)，优选为0。
YA1表示芳香族烃环或脂肪族烃环，优选为芳香族烃环，更优选为苯环。
当YA1表示苯环即式A-4含有蒽环结构时，式A-4中的羟基优选键合于蒽环的9位和/或10位的碳原子。
并且，在表示二价连结基的式A-4中有两处与其他结构的键合部位，优选分别键合于蒽环的1位及4位的碳原子。
R8及R9分别独立地表示卤原子或一价有机基团，优选为卤原子、烷基或芳基，更优选为卤原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为卤原子或碳原子数3以下的烷基。
a5i及a5k分别独立地表示0～3的整数。
a5i+a5k为1～6，优选为1或2。
a5j及a51分别独立地表示0～3的整数，a5j+a51为0～6-(a5i+a5k)，优选为0。
并且，在表示二价连结基的式A-5中有两处与其他结构的键合部位，优选均键合于式A-5中所记载的萘环的α位的碳原子，更优选分别键合于萘环的1位和5位的碳原子。
式A-5中的羟基优选键合于式A-5中所记载的萘环的α位的碳原子。
R10及R11分别独立地表示卤原子或一价有机基团，优选为烷基或芳基，更优选为卤原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为卤原子或碳原子数3以下的烷基。
a6k表示0～2的整数，a6i表示0～3的整数。
a6i+a6k由1～5表示，优选为1或2。
a61表示0～2的整数，a6j表示0～3的整数。
a61+a6j为0～5-(a6i+a6k)，优选为0。
YA2表示芳香族烃环或脂肪族烃环，优选为芳香族烃环，更优选为苯环。
当YA2表示苯环即式A-6含有蒽环结构时，式A-6中的羟基优选键合于蒽环的9位和/或10位的碳原子。
并且，在表示二价连结基的式A-6中有两处与其他结构的键合部位，优选分别键合于蒽环的1位及8位的碳原子。
〔连结基A-7〕
特定高分子化合物优选在主链上含有下述式A-7所表示的连结基。
[化学式10]
式A-7中，R12表示单键或二价连结基，R13及R14分别独立地表示氢原子或一价有机基团，X2及X3分别独立地表示式A-2～式A-6中的任一个所表示的连结基。
R12表示单键或二价连结基，优选为单键、碳原子数6以下的亚烷基、或磺酰基，更优选为单键或碳原子数5以下的亚烷基，进一步优选为单键或亚甲基，尤其优选为单键。R12中的亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。并且，R12中的亚烷基可以被取代，作为取代基，优选例示出碳原子数4以下的烷基、芳基、卤原子。并且，上述芳基可以进一步被取代，作为优选的取代基，可以举出羟基。
R13及R14分别独立地表示氢原子或一价有机基团，优选为烷基或芳基，更优选为碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为碳原子数3以下的烷基。
X2及X3分别独立地表示式A-2～式A-6所表示的连结基，优选至少一个为式A-2所表示的连结基，更优选均为式A-2所表示的连结基。
式A-7所表示的连结基优选为式A-8所表示的连结基。
[化学式11]
式A-8中，R15表示单键或二价连结基，R16及R17分别独立地表示卤原子或一价有机基团，R18及R19分别独立地表示氢原子或一价有机基团，a、b、c及d分别独立地表示0～4的整数，a+b为1～8，c+d为0～8-(a+b)。
R15表示单键或二价连结基，优选为单键、碳原子数6以下的亚烷基、或磺酰基，更优选为单键或碳原子数5以下的亚烷基，进一步优选为单键或亚甲基，尤其优选为单键。R12中的亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。并且，R12中的亚烷基可以被取代，作为取代基，优选例示出碳原子数4以下的烷基、芳基、卤原子。并且，上述芳基可以进一步被取代，作为优选的取代基，可以举出羟基。
R16及R17分别独立地表示卤原子或一价有机基团，优选为卤原子、烷基或芳基，更优选为卤原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为卤原子或碳原子数3以下的烷基。
R18及R19分别独立地表示氢原子或一价有机基团，优选为烷基或芳基，更优选为碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为碳原子数3以下的烷基。
a、b、c及d分别独立地表示0～4的整数，a+b为1～8，c+d为0～8-(a+b)。
a及b优选分别独立地为1或2，更优选均为1或均为2，进一步优选均为1。
c及d优选分别独立地为0或1，更优选均为0。
〔连结基a-1〕
并且，式A-1所表示的连结基优选为下述式a-1所表示的连结基。
[化学式12]
式a-1中，R’1表示单键或二价连结基，Q’1表示二价连结基，1表示0以上的整数，X’1表示二价连结基，与式A-1中的X1的含义相同，优选范围也相同。
式a-1中，R’1优选为单键或碳原子数6以下的亚烷基，更优选为单键或碳原子数5以下的亚烷基，进一步优选为单键或亚甲基，尤其优选为单键。R’1中的亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。并且，R’1中的亚烷基可以被取代，作为取代基，优选例示出碳原子数1～4的烷基、芳基、卤原子。
当X’1为式A-2所表示的连结基时，Q’1表示二价连结基，优选为含有脲键的二价连结基，更优选为含有脲键和具有羟基的亚苯基的二价连结基，进一步优选含有脲键与具有羟基的亚苯基直接键合而成的连结基的二价连结基，尤其优选为脲键与具有羟基的亚苯基直接键合而成的二价连结基。并且，优选在上述连结基中的任一个中亚苯基均与R1键合。
当X’1为式A-3～式A-6中的任一个所表示的连结基时，Q’1表示二价连结基，优选为含有脲键的二价连结基，更优选为脲键。
1表示0以上的整数，优选为0或1，更优选为1。
〔连结基a-2〕
并且，连结基a-1优选为下述式a-2所表示的连结基。
[化学式13]
式a-2中，R’2及R’3分别独立地表示单键或二价连结基，Q’2表示二价连结基，m表示0以上的整数。
式a-2中，R’2表示二价连结基，优选为含有脲键的二价连结基，更优选为脲键。
Q’2表示单键或二价连结基。Q’2更优选为单键。
m优选为3以下的整数，更优选为1以下的整数，进一步优选为0。
式a-2中，R’3优选为单键、碳原子数6以下的亚烷基、或磺酰基，更优选为单键或碳原子数5以下的亚烷基，进一步优选为单键或亚甲基，尤其优选为单键。R’3中的亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。并且，R’3中的亚烷基可以被取代，作为取代基，优选例示出碳原子数4以下的烷基、芳基、卤原子。并且，上述芳基可以进一步被取代，作为优选的取代基，可以举出羟基。
并且，当R’3表示单键时，键合于式a-2中的未与R’2键合的一侧的苯环的脲键优选键合于R’3的对位。并且，此时式a-2中的羟基优选键合于脲键的邻位。
当R’2表示脲键且R’3表示单键时，键合于式a-2中的苯环的两个脲键优选均键合于R’3的对位。并且，此时式a-2中的羟基优选键合于脲键的邻位。
当R’3表示亚烷基时，键合于式a-2中的未与R’2键合的一侧的苯环的脲键优选键合于R’3的间位。并且，此时式a-2中的羟基优选键合于脲键的邻位。
当R’2表示脲键且R’3表示亚烷基时，键合于式a-2中的苯环的两个脲键优选均键合于R’3的间位。并且，此时式a-2中的羟基优选键合于脲键的邻位。
通过在上述式a-2中的苯环上羟基键合于脲键的邻位，可以得到显影性优异的印刷版原版。
〔连结基a-2’〕
并且，连结基a-1优选为下述式a-2’所表示的连结基。
[化学式14]
式a-2’中，Ra’3表示二价连结基。
上述式a-2’中的Ra’。的说明与上述式a-2中的R’3的说明相同，因此省略。
并且，当Ra’3表示单键时，键合于式a-2’中的两个苯环的两个脲键优选均键合于Ra’3的对位。并且，此时式a-2’中的羟基优选键合于脲键的邻位。
当Ra’3表示亚烷基时，键合于式a-2’中的两个苯环的两个脲键优选均键合于Ra’3的间位。并且，此时式a-2’中的羟基优选键合于脲键的邻位。
通过在上述式a-2’中的苯环上羟基键合于脲键的邻位，可以得到显影性优异的印刷版原版。
并且，本发明中所使用的特定高分子化合物中的连结基A-1优选为使二异氰酸酯化合物与下述二胺化合物进行反应而得到的连结基。
[化学式15]
[化学式16]
上述二胺化合物中，为了得到连结基，优选使用DADHB、1.3-DAP、DAMDH、PDABP、AHPHFP或AHPFL，更优选使用DADHB。
并且，本发明中所使用的特定高分子化合物优选为至少使下述二胺化合物与二异氰酸酯化合物进行反应而得到的聚脲。
以下示例示出为了合成特定高分子化合物而优选使用的二异氰酸酯化合物。
[化学式17]
以下例示出为了合成特定高分子化合物而优选使用的其他二胺化合物。
[化学式18]
另外，上述式中，m及n分别独立地表示1～100的整数。
在主链上具有连结基A-1的高分子化合物例如通过具有两个以上异氰酸酯基的化合物与具有两个以上氨基的化合物的逐步聚合来生成。
本发明中所使用的特定高分子化合物更优选通过二异氰酸酯化合物与二胺化合物的逐步聚合反应来生成。
连结基A-1的除脲键以外的部分优选含于二胺化合物中。
作为二异氰酸酯化合物，优选为具有两个异氰酸酯基的碳原子数20以下的脂肪族或芳香族烃，更优选为亚烷基二异氰酸酯，进一步优选为六亚甲基二异氰酸酯。
并且，也可以进一步加入二胺化合物而进行反应。
将本发明中所使用的在主链上具有连结基A-1的高分子化合物的优选具体例示于下述表1及表2。例示化合物PU-1～PU-29是指使表1及表2中所记载的二胺化合物与二异氰酸酯化合物以表1及表2中所记载的比例(摩尔比)进行反应而形成的高分子化合物。
并且，聚合物的重均分子量(Mw)是通过GPC法测定而得到的值。
本发明中所使用的含有连结基A-1的高分子化合物并不限定于下述表1及表2中所记载的具体例。
[表1]
[表2]
上述中，作为具有连结基A-1的高分子化合物，优选PU-1、PU-4、PU-5及PU-7。
作为本发明中所使用的特定高分子化合物的一例，下面记载表1中的PU-1的结构式。另外，括号的右下角数字表示摩尔比。
具有连结基A-1的高分子化合物中，连结基A-1的含量优选为10～80质量％，更优选为20～70质量％，进一步优选为40～70质量％。
若连结基A-1的含量在上述范围，则能够得到耐药品性优异的树脂组合物。
〔连结基A-9〕
本发明中所使用的在主链上具有连结基A-1的高分子化合物优选在主链上还具有式A-9所表示的连结基。
[化学式19]
式A-9中，RA9表示氢原子或一价有机基团，优选为氢原子、烷基或芳基，更优选为氢原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为氢原子或碳原子数3以下的烷基，尤其优选为氢原子。
〔连结基a-3〕
本发明中所使用的在主链上具有连结基A-1的高分子化合物优选在主链上还具有下述式a-3所表示的连结基(结构单元)。
[化学式20]
式a-3中，R’4及R’5分别独立地表示二价连结基，Q’3表示含有磺酰胺基的二价基团，n表示0以上的整数。
上述式a-3中，R’4优选为亚烷基或亚芳基，更优选为碳原子数4以下的亚烷基或碳原子数6～10的亚芳基，进一步优选为亚苯基。
并且，R’5优选为亚芳基，更优选为碳原子数6～10的亚芳基，进一步优选为亚苯基。
上述R’4及R’5优选均为亚芳基，更优选均为亚苯基。
R’4及R’5中的亚烷基或亚芳基可以被取代，作为取代基，优选碳原子数6以下的烷基、碳原子数6以下的烷氧基、卤原子，更优选碳原子数4以下的烷基。
Q’3表示含有磺酰胺基的二价基团，优选为下述式Q-1所表示的结构。
[化学式21]
式Q-1中，RQ1及RQ2分别独立地表示单键或二价连结基。
式Q-1中，RQ1优选为单键、亚烷基、亚芳基，更优选为亚烷基或亚芳基，进一步优选为碳原子数4以下的亚烷基或碳原子数6～10的亚芳基，尤其优选为亚苯基。RQ1中的亚芳基或亚烷基可以被取代，作为取代基，优选碳原子数6以下的烷基、碳原子数6以下的烷氧基、卤原子，更优选碳原子数4以下的烷基。
式Q-1中，RQ2优选为单键、亚烷基、亚芳基、羰基、醚键、酰胺键、磺酰基、或由这些连结基的组合表示的基团，更优选为单键、亚芳基、或将亚芳基和酰胺键或醚键组合而得到的基团。
当RQ2表示将亚芳基和酰胺键或醚键组合而得到的基团时，亚芳基优选与式Q-1中的磺酰胺基的硫原子直接键合。
RQ2中的亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。并且，优选为碳原子数6以下的亚烷基，RQ2中的亚烷基可以进一步被卤原子、芳基、烷氧基取代。
式a-3中，式Q-1所表示的结构可以是RQ1与式a-3中的R’5键合，也可以是RQ2与R’5键合，但优选RQ2与R’5键合。
n表示0以上的整数，优选为0或1，更优选为1。
并且，连结基a-3优选为下述式a-4所表示的连结基。
[化学式22]
式a-4中，Ra1、Ra2及Ra3分别独立地表示二价连结基。
式a-4中，Ra1及Ra3分别独立地优选为亚烷基或亚芳基，更优选为碳原子数4以下的亚烷基或碳原子数6～10的亚芳基，进一步优选为亚苯基。
上述Ra1及Ra3优选均为亚芳基，更优选均为亚苯基。
Ra1或Ra3中的亚芳基或亚烷基可以被取代，作为取代基，优选碳原子数6以下的烷基、碳原子数6以下的烷氧基、卤原子，更优选碳原子数4以下的烷基。
上述式a-4中，Ra2表示二价连结基，优选为亚芳基、或-Ra4-O-Ra5-或-Ra4-SO2-Ra5-所表示的连结基，更优选为亚芳基，进一步优选为亚苯基。Ra4及Ra5分别独立地表示亚芳基，优选为亚苯基。
Ra2中的亚芳基或亚苯基可以被取代，作为取代基，优选碳原子数6以下的烷基、碳原子数6以下的烷氧基、卤原子，更优选碳原子数4以下的烷基。
并且，本发明中所使用的特定高分子化合物中的连结基a-3优选为源自从下述例示化合物中去除两个氨基的结构的连结基。
[化学式23]
〔连结基B-1及B-2〕
特定高分子化合物优选在主链上具有下述式B-1或式B-2所表示的连结基。
[化学式24]
式B-1及式B-2中，L1表示单键或二价连结基，RB21表示氢原子或一价有机基团。
式B-1中，L1优选表示单键、亚烷基、羰基、醚键、酰胺键、亚芳基、磺酰基、或由这些连结基的组合表示的基团。
并且，式B-1中的苯环可以被取代，作为优选的取代基，可以举出碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、芳基、卤原子。
式B-2中，RB21表示氢原子或一价有机基团，优选为氢原子、烷基或芳基，更优选为氢原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为氢原子或碳原子数3以下的烷基，尤其优选表示氢原子。
上述式B-1或B-2所表示的连结基作为后述的连结基B-3～B-7的一部分而含于本发明的高分子化合物的主链中。
〔连结基B-3～B-7〕
本发明中所使用的特定高分子化合物优选在主链上具有至少一个选自由下述式B-3～B-7所表示的连结基(结构单元)构成的组中的至少一个。
[化学式25]
式B-3～B-7中，RB31、RB51、RB61及RB71分别独立地表示单键或二价连结基，RB72表示氢原子或一价有机基团，Y1～Y5分别独立地表示芳香族烃环或脂肪族烃环。
上述式B-3中，RB31优选表示单键、亚烷基或亚芳基，更优选为单键。
当RB31表示亚烷基时，上述亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。
作为上述直链状或支链状的亚烷基，优选碳原子数为1～20，更优选碳原子数为1～14，进一步优选碳原子数为1～10。上述亚烷基可以具有取代基，作为优选的取代基，可以举出卤原子、芳基、烷氧基。
当RB31表示亚芳基时，上述亚芳基优选碳原子数为6～20，更优选碳原子数为6～16。上述亚芳基可以具有取代基，作为优选的取代基，可以举出碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、卤原子。
上述式B-4中，Y1优选为芳香族烃环，更优选为苯环。
并且，当Y1表示脂肪族烃环时，优选为碳原子数4～20的脂肪族烃环，更优选为碳原子数4～10的脂肪族烃环。
Y1可以被取代，作为优选的取代基，可以举出碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、卤原子。
上述式B-5中，Y2优选为芳香族烃环，更优选为苯环。
并且，当Y2表示脂肪族烃环时，优选为碳原子数4～20的脂肪族烃环，更优选为碳原子数4～12的脂肪族烃环。
Y2可以被取代，作为优选的取代基，可以举出碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、卤原子、芳基。
上述式B-5中，RB51优选表示单键、亚烷基或亚芳基，更优选为单键。
当RB51表示亚烷基时，上述亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。
作为上述直链状或支链状的亚烷基，优选碳原子数为1～20，更优选碳原子数为1～14，进一步优选碳原子数为1～10。上述亚烷基可以具有取代基，作为优选的取代基，可以举出卤原子、芳基、烷氧基。
上述式B-6中，Y3及Y4优选均为芳香族烃环，更优选均为苯环。
Y3及Y4可以被取代，作为优选的取代基，可以举出碳原子数1～6的烃基、卤原子、碳原子数1～6的烷氧基。
上述式B-6中，RB61表示单键、亚烷基、羰基、醚键、酰胺键、亚芳基、磺酰基、或由这些连结基的组合表示的基团，更优选为单键。
上述亚烷基可以是直链状、支链状或环状中的任一种。并且，优选为碳原子数6以下的亚烷基，上述亚烷基可以进一步被卤原子、芳基、烷氧基取代。
并且，当Y3及Y4中的至少一个表示脂肪族烃环时，RB61优选含有亚芳基。
上述式B-7中，Y5优选为芳香族烃环，更优选为苯环。
Y5可以被取代，作为优选的取代基，可以举出碳原子数1～12的烃基、卤原子、碳原子数1～12的烷氧基。
上述式B-7中，RB71优选表示单键、亚烷基、亚芳基，更优选为单键。
RB72表示氢原子或一价有机基团，优选为氢原子、烷基或芳基，更优选为氢原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数6～10的芳基，进一步优选为氢原子或碳原子数3以下的烷基，尤其优选表示氢原子。
并且，从所得到的平版印刷版的耐刷性的观点考虑，本发明中所使用的特定高分子化合物优选在主链上具有式B-4或式B-7所表示的连结基。
并且，本发明中所使用的特定高分子化合物中的连结基B-3～B-7优选为使下述例示化合物与二胺化合物进行反应而得到的连结基。
[化学式26]
〔具有连结基a-3和/或连结基B-3～B-7中的至少一个的高分子化合物〕
在主链上具有连结基a-3的本发明的高分子化合物例如通过具有两个以上异氰酸酯基的化合物与具有两个以上氨基的化合物的逐步聚合来生成。
上述特定高分子化合物更优选通过二异氰酸酯化合物与二胺化合物的逐步聚合反应来生成。
连结基A-1的除脲键以外的部分及连结基a-3优选均含于二胺化合物中。
作为二异氰酸酯化合物，优选为具有两个异氰酸酯基的碳原子数20以下的脂肪族或芳香族烃，更优选为亚苯基二异氰酸酯或亚烷基二异氰酸酯，进一步优选为1，4-亚苯基二异氰酸酯、苯二甲撑二异氰酸酯、1，3-双(异氰酸酯甲基)环己烷、六亚甲基二异氰酸酯。
并且，具有连结基B-3～B-7中的至少一个的本发明的高分子化合物例如通过具有两个以上酸酐基的化合物或具有各至少一个酰卤基和酸酐基的化合物与具有一个以上氨基的化合物的缩合反应来生成。
上述特定高分子化合物优选通过具有两个酸酐基的化合物或具有各一个酰卤基和酸酐基的化合物与二胺化合物的缩合反应来生成。
连结基A-1的除脲键以外的部分优选含于二胺化合物中。
并且，还优选进一步加入异氰酸酯化合物来进行反应。作为二异氰酸酯化合物，优选为具有两个异氰酸酯基的碳原子数20以下的脂肪族或芳香族烃，更优选为亚烷基二异氰酸酯，进一步优选为1，3-双(异氰酸酯甲基)环己烷、六亚甲基二异氰酸酯。
具有连结基a-3及连结基B-3～B-7中的至少一个的本发明的高分子化合物例如通过具有两个以上酸酐基的化合物或具有各至少一个酰卤基和酸酐基的化合物与具有一个以上氨基的化合物的缩合反应来生成。
上述特定高分子化合物更优选通过具有两个以上酸酐基的化合物或具有各至少一个酰卤基和酸酐基的化合物与二胺化合物的缩合反应来生成。
连结基A-1的除脲键以外的部分及连结基a-3优选含于二胺化合物中。
并且，还优选进一步加入二异氰酸酯化合物而使其反应。作为二异氰酸酯化合物，优选为具有两个异氰酸酯基的碳原子数20以下的脂肪族或芳香族烃，更优选为亚烷基二异氰酸酯，进一步优选为六亚甲基二异氰酸酯。
将本发明中可以使用的具有连结基a-3及连结基B-3～B-7中的至少一个的高分子化合物的优选具体例示于下述表3。PX-1～PX-15是指使表2中所记载的具有酸酐基的化合物与二胺化合物以表2中所记载的比例(摩尔比)进行反应而形成的特定高分子化合物。
并且，聚合物的重均分子量(Mw)是通过GPC法测定而得到的值。
本发明中所使用的具有连结基a-3及连结基B-3～B-7中的至少一个的特定高分子化合物并不限定于下述表3中所记载的具体例。
[表3]
其中，作为本发明的特定高分子化合物，优选PX-1、PX-3、PX-4、PX-7、PX-10及PX-14，更优选PX-10及PX-14。
作为本发明中所使用的特定高分子化合物的一例，下面记载表3中的PX-4的结构式。另外，括号的右下角数字表示摩尔比。
[化学式27]
具有连结基A-1及连结基a-3的高分子化合物中，连结基A-1与连结基a-3中所含的所有连结基的摩尔比优选为3∶1～1∶3，更优选为2∶1～1∶2，进一步优选为1.5∶1～1∶1。
具有连结基A-1及连结基B-3～B-7中的至少一个的高分子化合物中，连结基A-1与连结基B-3～B-7中所含的所有连结基的摩尔比优选为20∶1～1∶3，更优选为20∶1～1∶1，进一步优选为10∶1～2∶1。
具有连结基A-1、连结基a-3及连结基B-3～B-7中的至少一个的高分子化合物中，连结基A-1和连结基a-3的摩尔量的合计与连结基B-3～B-7中所含的所有连结基的摩尔比优选为20∶1～1∶3，更优选为20∶1～1∶1，进一步优选为10∶1～2∶1。
若连结基A-1、连结基a-3及连结基B-4～B-6的含量在上述范围，则能够得到耐药品性优异的树脂组合物。
本发明的感光性树脂组合物中的特定高分子化合物的含量相对于感光性树脂组合物的所有固体成分质量优选为10～90质量％，更优选为20～80质量％，进一步优选为40～70质量％。若含量在该范围，则显影时的图案形成性良好。另外，所谓感光性树脂组合物的所有固体成分质量表示除溶剂等挥发性成分以外的量。
本发明的感光性树脂组合物中的特定高分子化合物的重均分子量优选为5,000～300,000，更优选为10,000～200,000，进一步优选为30,000～100,000。
另外，本发明中的重均分子量或数均分子量的测定优选通过使用凝胶渗透色谱(GPC)法的标准聚苯乙烯换算法来测定。本发明中的基于凝胶渗透色谱法的测定优选使用填充有聚苯乙烯交联凝胶的柱(TSKgel SuperAWM-H；TOSOH CORPORATION制)作为GPC柱并使用N-甲基吡咯烷酮(磷酸、溴化锂各0.01mol/L)作为GPC溶剂来测定。
<红外线吸收剂>
本发明的感光性树脂组合物中含有红外线吸收剂。
作为红外线吸收剂，只要是吸收红外光并产生热的染料，则并没有限制，可以使用作为红外线吸收剂而已知的各种染料。
作为本发明中可以使用的红外线吸收剂，可以利用市售的染料及文献(例如“染料便览”有机合成化学协会编辑，昭和45年刊)中所记载的公知的染料。具体而言，可以举出偶氮染料、金属络合盐偶氮染料、吡唑酮偶氮染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓(carbonium)染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料等染料。本发明中，在这些染料中，从适合利用于发出红外光或近红外光的激光的观点考虑，优选至少吸收红外光或近红外光的染料，尤其优选花青染料。
作为这种至少吸收红外光或近红外光的染料，例如可以举出日本特开昭58-125246号、日本特开昭59-84356号、日本特开昭59-202829号、日本特开昭60-78787号等各公报中所记载的花青染料、日本特开昭58-173696号、日本特开昭58-181690号、日本特开昭58-194595号等各公报中所记载的次甲基染料、日本特开昭58112793号、日本特开昭58224793号、日本特开昭5948187号、日本特开昭59-73996号、日本特开昭60-52940号、日本特开昭60-63744号等各公报中所记载的萘醌染料、日本特开昭58-112792号公报等中所记载的方形鎓色素、英国专利434,875号说明书中所记载的花青染料等。
并且，作为染料，也优选使用美国专利第5,156,938号说明书中所记载的近红外吸收敏化剂、以及美国专利第3,881,924号说明书中所记载的被取代的芳基苯并(硫代)吡喃鎓盐、日本特开昭57-142645号公报(美国专利第4,327,169号说明书)中所记载的三次甲基吡喃鎓盐、日本特开昭58-181051号、日本特开昭58-220143号、日本特开昭59-41363号、日本特开昭59-84248号、日本特开昭59-84249号、日本特开昭59-146063号、日本特开昭59-146061号各公报中所记载的吡喃鎓类化合物、日本特开昭59-216146号公报中所记载的花青色素、美国专利第4,283,475号说明书中所记载的五次甲基硫代吡喃鎓盐等及日本特公平5-13514号、日本特公平5-19702号公报中所公开的吡喃鎓化合物等，作为市售品尤其优选使用Epolin Inc.制的Epolight III-178、Epolight III-130、Epolight III-125等。
并且，作为染料而尤其优选的其他例子可以举出美国专利第4,756,993号说明书中作为式I、II而记载的近红外吸收染料。
作为在这些染料中尤其优选的染料，可以举出花青色素、酞菁染料、氧杂菁染料、方酸菁色素、吡喃鎓盐、硫代吡喃鎓染料、镍硫醇络合物。另外，下述式a所表示的花青色素当使用于本发明中的上层时赋予较高的聚合活性且稳定性、经济性优异，因此最优选。
[化学式28]
式a中，X1表示氢原子、卤原子、二芳基氨基(-NPh2)、X2-L2或以下所示的基团。X2表示氧原子或硫原子。L2表示碳原子数1～12的烃基、具有杂原子的芳香族环或含有杂原子的碳原子数1～12的烃基。另外，在此杂原子表示N、S、O、卤原子、Se。
[化学式29]
上述式中，Xa-具有与后述的Za-相同的定义，Ra表示选自氢原子、烷基、芳基、取代或未取代的氨基、卤原子中的取代基。
R21及R22分别独立地表示碳原子数1～12的烃基。从感光层涂布液的保存稳定性考虑，R21及R22优选为碳原子数2个以上的烃基，进而尤其优选R21与R22相互键合而形成5元环或6元环。
Ar1、Ar2可以分别相同也可以不同，表示可以具有取代基的芳香族烃基。作为优选的芳香族烃基，可以举出苯环及萘环。并且，作为优选的取代基，可以举出碳原子数12个以下的烃基、卤原子、碳原子数12个以下的烷氧基。
Y11、Y12可以分别相同也可以不同，表示硫原子或碳原子数12个以下的二烷基亚甲基。R23及R24可以分别相同也可以不同，表示可以具有取代基的碳原子数20个以下的烃基。作为优选的取代基，可以举出碳原子数12个以下的烷氧基、羧基、磺基。
R25、R26、R27及R28可以分别相同也可以不同，表示氢原子或碳原子数12个以下的烃基。从原料的获得性考虑，优选为氢原子。并且，Za-表示抗衡阴离子。其中，式a所表示的花青色素在其结构内具有阴离子性取代基，当无需中和电荷时，不需要Za-。从感光层涂布液的保存稳定性考虑，优选的Za-为卤化物离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子及磺酸根离子，尤其优选为高氯酸根离子、六氟磷酸根离子及芳基磺酸根离子。
作为可以优选使用的式a所表示的花青色素的具体例，可以举出日本特开2001-133969号公报的0017～0019段落、日本特开2002-40638号公报的0012～0038段落、日本特开2002-23360号公报的0012～0023段落中所记载的花青色素。
作为上层所含有的红外线吸收剂，尤其优选为以下所示的花青染料A。
[化学式30]
花青染料A
作为在本发明的感光性树脂组合物中添加红外线吸收剂时的添加量，相对于感光性树脂组合物的所有固体成分优选为0.01～50质量％，更优选为0.1～30质量％，尤其优选为1.0～30质量％。若添加量为0.01质量％以上，则成为高灵敏度，并且若为50质量％以下，则层的均匀性良好，且层的耐久性优异。
只要不损害本发明效果，则本发明的感光性树脂组合物中可以根据需要含有其他成分。
以下，对作为本发明的感光性树脂组合物的任意成分的其他碱可溶性树脂、酸产生剂、酸增殖剂及其他添加剂进行说明。
<其他碱可溶性树脂>
本发明中，“碱可溶性”是指通过标准显影时间的处理可溶于pH8.5～13.5的碱水溶液。
作为本发明的感光性树脂组合物中所使用的特定高分子化合物以外的碱可溶性树脂，只要具有与碱性显影液接触而溶解的特性，则并没有特别限制，优选在高分子中的主链和/或侧链上具有酚性羟基、磺酸基、磷酸基、磺酰胺基、活性亚氨基等酸性官能团的碱可溶性树脂，可以举出这种含有10摩尔％以上赋予碱可溶性且具有酸性官能团的单体的树脂，更优选含有20摩尔％以上的树脂。若赋予碱可溶性的单体的共聚成分为10摩尔％以上，则可以充分得到碱可溶性，并且显影性优异。
并且，作为碱可溶性树脂，还优选举出酚醛清漆树脂。
作为本发明中可以使用的酚醛清漆树脂，优选举出苯酚甲醛树脂、间甲酚甲醛树脂、对甲酚甲醛树脂、间/对混合甲酚甲醛树脂、苯酚/甲酚(可以是间-、对-或间-/对-混合中的任一种。)混合甲醛树脂等酚醛清漆树脂、或邻苯三酚丙酮树脂。
此外，如美国专利第4,123,279号说明书中所记载，可以举出叔丁基酚甲醛树脂、辛基酚甲醛树脂等具有碳原子数3-8的烷基作为取代基的酚与甲醛的缩聚体。并且，优选其重均分子量(Mw)为500以上，更优选为1,000～700,000。并且，优选其数均分子量(Mn)为500以上，更优选为750～650,000。分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1～10。
上述其他碱可溶性树脂优选重均分子量为2,000以上且数均分子量为500以上的树脂，更优选重均分子量为5,000～300,000且数均分子量为800～250,000。并且，上述其他碱可溶性树脂的分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1～10。
本发明的感光性树脂组合物中根据需要所含的其他碱可溶性树脂可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
本发明中其他碱可溶性树脂相对于感光性树脂组合物的所有固体成分的含量优选0～98质量％，更优选为0～80质量％。并且，相对于本发明中所使用的特定高分子化合物100质量份，优选以80质量份以下的比例含有。
<酸产生剂>
从提高灵敏度的观点考虑，本发明的感光性树脂组合物优选含有酸产生剂。
在本发明中，酸产生剂是指利用光或热产生酸的化合物，是指通过红外线的照射或100℃以上的加热而分解从而产生酸的化合物。作为所产生的酸，优选磺酸、盐酸等pKa为2以下的强酸。由该酸产生剂产生的酸作为催化剂发挥功能，上述酸分解性基团中的化学键开裂而成为酸基，从而图像记录层对碱水溶液的溶解性得到进一步提高。
作为本发明中优选使用的酸产生剂，可以举出碘盐、锍盐、鏻盐、重氮盐等鎓盐。具体而言，可以举出US4,708,925号及日本特开平7-20629号中所记载的化合物。尤其优选将磺酸根离子作为抗衡离子的碘盐、锍盐、重氮盐。作为重氮盐，还优选美国专利第3,867,147号中所记载的重氮盐化合物、美国专利第2,632,703号说明书中所记载的重氮盐化合物、日本特开平1-102456号及日本特开平1-102457号的各公报中所记载的重氮树脂。并且，还优选美国专利第5,135,838号、美国专利第5,200,544号中所记载的磺酸苄酯类。另外，还优选日本特开平2-100054号、日本特开平2-100055号及日本特开平9-197671号中所记载的活性磺酸酯、二磺酰基化合物类。此外，还优选日本特开平7-271029号中所记载的被卤烷基取代的S-三嗪类。
另外，在上述日本特开平8-220752号公报中作为“酸前体”而记载的化合物、或在日本特开平9-171254号公报中作为“(a)通过活性光线的照射能够产生酸的化合物”而记载的化合物等也能够作为本发明的酸产生剂而适用。
其中，从灵敏度和稳定性的观点考虑，优选使用鎓盐化合物作为酸产生剂。以下，对鎓盐化合物进行说明。
作为本发明中可以优选使用的鎓盐化合物，可以举出作为利用红外线曝光及通过曝光由红外线吸收剂产生的热能分解而产生酸的化合物而周知的化合物。作为适合于本发明的鎓盐化合物，从灵敏度的观点考虑，可以举出具有公知的热聚合引发剂或键合解离能较小的键且具有以下描述的鎓盐结构的化合物。
作为本发明中优选使用的鎓盐，可以举出公知的重氮盐、碘盐、锍盐、铵盐、吡啶鎓盐、嗪鎓盐等，其中优选三芳基锍或二芳基碘的磺酸盐、羧酸盐、BF4-、PF6-、ClO4-等。
作为本发明中可以用作酸产生剂的鎓盐，可以举出下述式III～V所表示的鎓盐。
[化学式31]
上述式III中，Ar11和Ar12分别独立地表示可以具有取代基的碳原子数20个以下的芳基。作为该芳基具有取代基时的优选的取代基，可以举出卤原子、硝基、碳原子数12个以下的烷基、碳原子数12个以下的烷氧基、或碳原子数12个以下的芳氧基。Z11-表示选自由卤离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、磺酸根离子及全氟烷基磺酸根离子等具有氟原子的磺酸根离子构成的组中的抗衡离子，优选为高氯酸根离子、六氟磷酸根离子、芳基磺酸根离子及全氟烷基磺酸。
上述式IV中，Ar21表示可以具有取代基的碳原子数20个以下的芳基。作为优选的取代基，可以举出卤原子、硝基、碳原子数12个以下的烷基、碳原子数12个以下的烷氧基、碳原子数12个以下的芳氧基、碳原子数12个以下的烷基氨基、碳原子数12个以下的二烷基氨基、碳原子数12个以下的芳基氨基或碳原子数12个以下的二芳基氨基。Z21-表示与Z11-的含义相同的抗衡离子。
上述式V中，R31、R32及R33可以分别相同也可以不同，表示可以具有取代基的碳原子数20个以下的烃基。作为优选的取代基，可以举出卤原子、硝基、碳原子数12个以下的烷基、碳原子数12个以下的烷氧基或碳原子数12个以下的芳氧基。Z31-表示与Z11-的含义相同的抗衡离子。
以下，举出本发明中可以优选使用的式III所表示的鎓盐(OI-1～OI-10)、式IV所表示的鎓盐(ON-1～ON-5)及式V所表示的鎓盐(OS-1～OS-6)的具体例。
[化学式32]
[化学式33]
[化学式34]
[化学式35]
并且，作为上述式III～式V所表示的化合物的另一例，可以将该日本特开2008-195018号公报的0036～0045段落中作为自由基聚合引发剂的例子而记载的化合物优选用作本发明中的酸产生剂。
作为优选作为本发明中所使用的酸产生剂的鎓盐的另一例，可以举出下述式VI所表示的嗪鎓盐化合物。
[化学式36]
式VI中，R41、R42、R43、R44、R45及R46可以分别相同也可以不同，表示氢原子、卤原子或一价取代基。
作为一价取代基，例如可以举出卤原子、氨基、取代的氨基、取代的羰基、羟基、取代的氧基、硫醇基、硫醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、烷基、烯基、芳基、杂环基、磺基、取代的磺酰基、磺酸根合基(sulfonato group)、取代的亚磺酰基、膦酰基(phosphono group)、取代的膦酰基、膦酸根合基(phosphonato group)、取代的膦酸根合基等，当能够导入时可以进一步具有取代基。
作为式VI所表示的化合物，也包含式VI所表示的化合物中的特定结构的骨架(阳离子部)经由R41键合且在分子中含有2个以上阳离子部的化合物(多聚物型)，这种化合物也是优选使用的。
Z41-表示与Z11-的含义相同的抗衡离子。
作为上述式VI所表示的嗪鎓盐化合物的具体例，可以举出日本特开2008-195018公报的0047～0056段落中所记载的化合物。
并且，日本特开昭63-138345号、日本特开昭63-142345号、日本特开昭63-142346号、日本特开昭63-143537号及日本特公昭46-42363号的各公报中所记载的具有N-O键的化合物组也优选用作本发明中的酸产生剂。
作为本发明中可以使用的酸产生剂的更优选的例子，可以举出下述化合物(PAG-1)～(PAG-5)。
[化学式37]
当本发明的感光性树脂组合物中含有这些酸产生剂时，这些化合物可以单独使用，并且也可以组合使用两种以上。
酸产生剂的优选添加量相对于感光性树脂组合物的所有固体成分为0.01～50质量％，优选为0.1～40质量％，更优选为0.5～30质量％的范围。添加量在上述范围时呈现添加酸产生剂的效果即提高灵敏度，并且非图像部中的残膜的产生得到抑制。
<酸增殖剂>
本发明的图像记录层中可以添加酸增殖剂。本发明中的酸增殖剂是指被比较强酸的残基取代的化合物，是在酸催化剂的存在下轻松脱离而重新产生酸的化合物。即，通过酸催化剂反应分解而再次产生酸(以下，式中记为ZOH。)。在1反应中增加一个以上的酸，随着反应的进行，酸浓度加速增加，由此灵敏度大幅提高。该产生的酸的强度作为酸解离常数(pKa)为3以下，进一步优选为2以下。若为比其弱的酸，则无法引起基于酸催化剂的脱离反应。
作为这种酸催化剂中所使用的酸，可以举出二氯乙酸、三氯乙酸、甲磺酸、乙磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、萘磺酸、苯基磺酸等。
关于酸增殖剂，可以将国际公开第95/29968号、国际公开第98/24000号、日本特开平8-305262号、日本特开平9-34106号、日本特开平8-248561号、日本特表平8-503082号、美国专利第5,445,917号、日本特表平8-503081号、美国专利第5,534,393号、美国专利第5,395,736号、美国专利第5,741,630号、美国专利第5,334,489号、美国专利第5,582,956号、美国专利第5,578,424号、美国专利第5,453,345号、美国专利第5,445,917号、欧洲专利第665,960号、欧洲专利第757,628号、欧洲专利第665,961号、美国专利第5,667,943号、日本特开平10-1598号等各公报中所记载的酸增殖剂使用一种或者组合使用两种以上。
作为本发明中的酸增殖剂的优选具体例，例如可以举出日本特开2001-66765号公报的0056～0067段落中所记载的化合物。其中，可以优选使用作为例示化合物(ADD-1)、(ADD-2)、(ADD-3)而记载的下述化合物。
[化学式38]
作为在上层中添加这些酸增殖剂时的添加量，以固体成分换算为0.01～20质量％，优选0.01～10质量％，更优选0.1～5质量％的范围。酸增殖剂的添加量在上述范围时，可以充分得到添加酸增殖剂的效果，并可以实现灵敏度的提高，并且可以抑制图像部的膜强度下降。
<其他添加剂>
本发明的感光性树脂组合物中可以含有显影促进剂、表面活性剂、印相剂/着色剂、增塑剂、蜡剂等作为其他添加剂。
〔显影促进剂〕
以提高灵敏度为目的，本发明的感光性树脂组合物中可以添加酸酐类、酚类、有机酸类。
作为酸酐类优选环状酸酐，具体而言，作为环状酸酐，可以使用美国专利第4,115,128号说明书中所记载的邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、3，6-内氧(endoxy)四氢邻苯二甲酸酐、四氯邻苯二甲酸酐、马来酸酐、氯马来酸酐、α-苯基马来酸酐、琥珀酸酐、均苯四酸酐等。作为非环状的酸酐，可以举出乙酸酐等。
作为酚类，可以举出双酚A、2，2’-二羟基砜、对硝基苯酚、对乙氧基苯酚、2，4，4’-三羟基二苯甲酮、2，3，4-三羟基二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、4，4’，4”-三羟基三苯基甲烷、4，4’，3”，4”-四羟基-3，5，3’，5’-四甲基三苯基甲烷等。
作为有机酸类，记载于日本特开昭60-88942号公报、日本特开平2-96755号公报等中，具体而言，可以举出对甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、对甲苯苯亚磺酸、硫酸乙酯、膦酸苯酯、次膦酸苯酯、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、苯甲酸、间苯二甲酸、己二酸、对甲基苯甲酸、3，4-二甲氧基苯甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、4-环己烯-1，2-二羧酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸、抗坏血酸等。上述酸酐、酚类及有机酸类在感光性树脂组合物的所有固体成分中所占的比例优选0.05～20质量％，更优选0.1～15质量％，尤其优选0.1～10质量％。
〔表面活性剂〕
为了使涂布性良好并且增加对显影条件的处理稳定性，本发明的感光性树脂组合物中可以添加如日本特开昭62-251740号公报及日本特开平3-208514号公报中所记载的非离子表面活性剂、如日本特开昭59-121044号公报、日本特开平4-13149号公报中所记载的两性表面活性剂、如日本特开昭62-170950号公报、日本特开平11-288093号公报、日本特开2003-57820号公报中所记载的含有氟的单体共聚物。
作为非离子表面活性剂的具体例，可以举出脱水山梨糖醇三硬脂酸酯、脱水山梨糖醇单棕榈酸酯、脱水山梨糖醇三油酸酯、硬脂酸单甘油酯、壬基酚聚氧乙烯醚等。
作为两性活性剂的具体例，可以举出烷基二(氨基乙基)甘氨酸、烷基聚氨基乙基甘氨酸盐酸盐、2-烷基-N-羧基乙基-N-羟基乙基咪唑啉鎓甜菜碱及N-十四烷基-N，N-甜菜碱型(例如，商品名“AMOGEN K”：DKS Co.Ltd.制)等。
表面活性剂在感光性树脂组合物的所有固体成分中所占的比例优选0.01～15质量％，更优选0.01～5质量％，进一步优选0.05～2.0质量％。
〔印相剂/着色剂〕
本发明的感光性树脂组合物中可以加入用于在基于曝光的加热后立即得到可见像的印相剂、作为图像着色剂的染料或颜料。
作为印相剂及着色剂，例如详细记载于日本特开2009-229917号公报的0122～0123段落中，在此所记载的化合物也可以适用于本发明中。
相对于感光性树脂组合物的所有固体成分，这些染料优选以0.01～10质量％的比例进行添加，更优选以0.1～3质量％的比例进行添加。
〔增塑剂〕
为了赋予涂膜的柔软性等，本发明的感光性树脂组合物中可以添加增塑剂。例如，可以使用邻苯二甲酸丁酯、聚乙二醇、柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二己酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氢糠酯、丙烯酸或甲基丙烯酸的低聚物及聚合物等。
相对于感光性树脂组合物的所有固体成分，这些增塑剂优选以0.5～10质量％的比例进行添加，更优选以1.0～5质量％的比例进行添加。
〔蜡剂〕
以赋予对划痕的抵抗性为目的，本发明的感光性树脂组合物中还可以添加降低表面的静摩擦系数的化合物。具体而言，可以举出如美国专利第6,117,913号说明书、日本特开2003-149799号公报、日本特开2003-302750号公报或日本特开2004-12770号公报中所记载的具有长链烷基羧酸的酯的化合物等。
关于优选的添加量，在感光性树脂组合物的固形分中所占的比例优选为0.1～10质量％，更优选为0.5～5质量％。
<各成分的组成比>
相对于本发明的感光性树脂组合物的所有固体成分质量，特定高分子化合物的含量优选为10～90质量％，红外线吸收剂的含量优选为0.01～50质量％，其他碱可溶性树脂的含量优选为0～80质量％，酸产生剂的含量优选为0～30质量％，酸增殖剂的含量优选为0～20质量％，显影促进剂的含量优选为0～20质量％，表面活性剂的含量优选为0～5质量％，印相剂/着色剂的含量优选为0～10质量％，增塑剂的含量优选为0～10质量％，蜡剂的含量优选为0～10质量％。
上述本发明的感光性树脂组合物可以适用于需要形成耐久性优异的树脂图案的各种领域例如抗蚀剂、显示器、平版印刷版原版等各种领域，由于能够以高灵敏度进行记录、图像形成性优异、所形成的图像部的耐久性良好，因此可以说通过适用于以下详述的红外线感应性正型平版印刷版原版，本发明的效果非常显著。
(平版印刷版原版)
本发明的平版印刷版原版具有含有本发明的感光性树脂组合物的图像记录层。
并且，本发明的平版印刷版原版优选为正型的平版印刷版原版。
另外，本发明的平版印刷版原版为具有图像记录层而成的正型平版印刷版原版，所述图像记录层在具有亲水性表面的支撑体上依次配设有下层及上层，并且优选在下层和/或上层含有上述感光性树脂组合物，更优选在下层或上层含有，进一步优选仅在下层含有。
<图像记录层>
本发明中所使用的图像记录层能够通过将上述感光性树脂组合物的各成分溶解于溶剂中并涂布于适当的支撑体上来形成。
作为在此使用的溶剂，可以举出二氯乙烷、环己酮、甲乙酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、环丁砜、γ-丁内酯、甲苯、1，3-二甲基-2-咪唑啶酮等，但并不限定于此。这些溶剂可以单独使用或者混合使用。
〔下层及上层的形成〕
并且，本发明的图像记录层优选为在支撑体上依次配设有下层及上层的图像记录层(以下，也称为“双层结构的平版印刷版原版”。)。
下层及上层原则上优选将两个层分离而形成。
作为将两个层分离而形成的方法，例如如日本特开2011-209343号公报的0068-0069段落中所记载，可以举出利用下层中所含的成分与上层中所含的成分的溶剂溶解性差异的方法、或者对上层进行涂布之后快速干燥去除溶剂的方法等。通过并用后者方法，可以进一步良好地进行层间的分离，因此优选。
本发明的感光性树脂组合物优选含于上述上层和/或下层，更优选仅含于下层。
本发明的上层和/或下层所含的感光性树脂组合物中的特定高分子化合物的含量相对于感光性树脂组合物的所有固体成分质量优选为10～100质量％，更优选为50～98质量％，进一步优选为60～95质量％。若含量在该范围，则显影时的图案形成性良好。另外，感光性树脂组合物的所有固体成分质量是表示除溶剂等挥发性成分以外的量。
涂布于本发明的平版印刷版原版的支撑体上的下层成分的干燥后的涂布量优选在0.5～4.0g/m2的范围，更优选在0.6～2.5g/m2的范围。若为0.5g/m2以上，则耐刷性优异，若为4.0g/m2以下，则图像再现性及灵敏度优异。
并且，上层成分的干燥后的涂布量优选在0.05～1.0g/m2的范围，更优选在0.08～0.7g/m2的范围。若为0.05g/m2以上，则显影宽容度及耐划擦性优异，若为1.0g/m2以下，则灵敏度优异。
作为合计下层与上层的干燥后的涂布量，优选在0.6～4.0g/m2的范围，更优选在0.7～2.5g/m2的范围。若为0.6g/m2以上，则耐刷性优异，若为4.0g/m2以下，则图像再现性及灵敏度优异。
<上层>
本发明中的双层结构的平版印刷版原版的上层也能够使用本发明的感光性树脂组合物来形成，但优选使用本发明的感光性树脂组合物以外的树脂组合物来形成。
本发明中的双层结构的平版印刷版原版的上层优选为利用热而对碱水溶液的溶解性得到提高的红外线感应性的正型记录层。
上层中的利用热而对碱水溶液的溶解性得到提高的机理并没有特别限制，只要含有粘结剂树脂且所加热的区域的溶解性得到提高，则均可以使用。作为图像形成中所利用的热，可以举出含有红外线吸收剂的下层被曝光时所产生的热。
作为利用热而对碱水溶液的溶解性得到提高的上层，例如优选举出含有酚醛清漆、氨基甲酸酯等具有氢键能的碱可溶性树脂的层、含有水不溶性且碱可溶性树脂和具有溶解抑制作用的化合物的层、含有可烧蚀的化合物的层等。
并且，通过在上层中还添加红外线吸收剂，上层中所产生的热也能够利用于图像形成。作为含有红外线吸收剂的上层的构成，例如优选举出含有红外线吸收剂、水不溶性且碱可溶性树脂及具有溶解抑制作用的化合物的层、含有红外线吸收剂、水不溶性且碱可溶性树脂及酸产生剂的层等。
〔水不溶性且碱可溶性树脂〕
本发明所涉及的上层中优选含有水不溶性且碱可溶性树脂。通过含有水不溶性且碱可溶性树脂，在红外线吸收剂与水不溶性且碱可溶性树脂所具有的极性基团之间形成相互作用，从而形成具有正型感光性的层。
以下，对一般的水不溶性且碱可溶性树脂进行详述，其中例如可以优选举出聚酰胺树脂、环氧树脂、聚甲醛树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚苯乙烯类树脂、酚醛清漆型苯酚类树脂等。
作为本发明中可以使用的水不溶性且碱可溶性树脂，只要具有与碱性显影液接触而溶解的特性，则并没有特别限制，优选为在高分子中的主链和/或侧链上含有酸性基的均聚物、它们的共聚物或它们的混合物。
作为这种具有酸性基的水不溶性且碱可溶性树脂，优选具有酚性羟基、羧基、磺酸基、磷酸基、磺酰胺基、活性亚氨基等官能团。因此，这种树脂能够通过使含有一个以上具有上述官能团的烯属不饱和单体的单体混合物共聚来适当地生成。具有上述官能团的烯属不饱和单体除了丙烯酸、甲基丙烯酸以外，还可以优选例示出下式所表示的化合物及其混合物。另外，下式中，R40表示氢原子或甲基。
[化学式39]
作为本发明中可以使用的水不溶性且碱可溶性树脂，优选为除了上述聚合性单体以外，还使其他聚合性单体共聚而得到的高分子化合物。作为此时的共聚比，优选含有10摩尔％以上如具有酚性羟基、羧基、磺酸基、磷酸基、磺酰胺基、活性亚氨基等官能团的单体之类的赋予碱可溶性的单体，更优选含有20摩尔％以上。若赋予碱可溶性的单体的共聚成分为10摩尔％以上，则可以充分得到碱可溶性，并且显影性优异。
作为可使用的其他聚合性单体，可以例示出下面举出的化合物。
丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯等丙烯酸烷基酯及甲基丙烯酸烷基酯。丙烯酸2-羟基乙酯或甲基丙烯酸2-羟基乙酯等具有脂肪族羟基的丙烯酸酯类及甲基丙烯酸酯类。丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺等丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺。乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等乙烯基酯类。苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯等苯乙烯类。N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、丙烯腈、甲基丙烯腈等其他含氮原子单体。N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-丙基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-2-甲基苯基马来酰亚胺、N-2，6-二乙基苯基马来酰亚胺、N-2-氯苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺、N-羟基苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺类。
在这些其他烯属不饱和单体中，优选使用的是(甲基)丙烯酸酯类、(甲基)丙烯酸酰胺类、马来酰亚胺类、(甲基)丙烯腈。
并且，作为碱可溶性树脂，还优选举出作为在本发明的感光性树脂组合物的任意成分中举出的其他碱可溶性树脂而举出的酚醛清漆树脂。
并且，也可以将上述水不溶性且碱可溶性树脂使用于本发明的树脂组合物。
另外，本发明中的上层中可以在不损害本发明效果的范围并用其他树脂。上层本身尤其在非图像部区域要求显现碱可溶性，因此需选择不损害该特性的树脂。从该观点考虑，作为可并用的树脂，可以举出水不溶性且碱可溶性树脂。以下，对一般的水不溶性且碱可溶性树脂进行详述，其中，例如可以优选举出聚酰胺树脂、环氧树脂、聚甲醛树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚苯乙烯类树脂、酚醛清漆型苯酚类树脂等。
并且，作为混合量，相对于上述水不溶性且碱可溶性树脂优选为50质量％以下。
上述水不溶性且碱可溶性树脂优选重均分子量为2,000以上且数均分子量为500以上，更优选重均分子量为5,000～300,000且数均分子量为800～250,000。并且，上述碱可溶性树脂的分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1～10。
本发明的感光性树脂组合物的其他树脂组合物中的碱可溶性树脂可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
关于本发明中的碱可溶性树脂相对于其他树脂组合物的所有固体成分的含量，在所有固体成分中优选为2.0～99.5质量％，更优选为10.0～99.0质量％，进一步优选为20.0～90.0质量％。若碱可溶性树脂的添加量为2.0质量％以上，则记录层(感光层)的耐久性优异，并且若为99.5质量％以下，则灵敏度及耐久性这两者优异。
〔红外线吸收剂〕
上述其他树脂组合物中可以含有红外线吸收剂。
作为红外线吸收剂，只要是吸收红外光并产生热的染料，则并没有特别限制，同样地可以使用前述的本发明的树脂组合物中所使用的红外线吸收剂。
尤其优选的染料为上述式a所表示的花青染料。
通过在上层含有红外线吸收剂，灵敏度变得良好。
作为上层中的红外线吸收剂的添加量，相对于上层所有固体成分优选为0.01～50质量％，更优选为0.1～30质量％，尤其优选为1.0～10质量％。通过添加量为0.01质量％以上，灵敏度得到改良，并且，若为50质量％以下，则层的均匀性良好，且层的耐久性优异。
〔其他成分〕
此外，双层结构的平版印刷版原版中的上层可以含有酸产生剂、酸增殖剂、显影促进剂、表面活性剂、印相剂/着色剂、增塑剂、蜡剂等。
就这些成分而言，同样地可以使用前述的本发明的树脂组合物中所使用的各种成分，优选方式也相同。
<下层>
本发明中的双层结构的平版印刷版原版的下层优选通过涂布本发明的感光性树脂组合物来形成。
通过将本发明的感光性树脂组合物使用于下层，能够得到图像形成性及耐刷性优异的印刷版。
并且，通过将本发明的感光性树脂组合物使用于下层，尤其在使用低品质油墨、纸等材料时耐刷性得到提高。
得到如上所述的效果的详细机理虽然不明确，但推测对于印刷中的耐刷性而言，下层中所使用的树脂的膜强度非常重要，由此推断通过将因粘结剂间的相互作用较强而膜强度较高的本发明的感光性树脂组合物使用于下层，耐刷性得到提高。
当将本发明的感光性树脂组合物使用于上层时，优选下层也由本发明的感光性树脂组合物形成，但也可以使用本发明的感光性树脂组合物以外的树脂组合物来形成下层。此时的下层的优选方式与上述中说明的上层的优选方式相同。
<支撑体>
作为本发明的感光性树脂组合物中所使用的支撑体，只要是具备所需强度和耐久性的尺寸方面稳定的板状物，则并没有特别限制，例如可以举出将纸、塑料(例如，聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯等)层合而得到的纸、金属板(例如，铝、锌、铜等)、塑料膜(例如，二乙酸纤维素、三乙酸纤维素、丙酸纤维素、丁酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、硝酸纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚乙烯醇缩醛等)、如上述那样将金属层合或蒸镀而得到的纸或塑料膜等。
另外，作为将本发明的感光性树脂组合物适用于平版印刷版原版时的支撑体，优选聚酯薄膜或铝板，其中，尤其优选尺寸稳定性良好且比较廉价的铝板。优选的铝板为纯铝板及以铝为主成分且含有微量杂元素的合金板，进而也可以是将铝层合或蒸镀而得到的塑料膜。铝合金中所含的杂元素有硅、铁、锰、铜、镁、铬、锌、铋、镍、钛等。合金中的杂元素的含量优选为10质量％以下。
本发明中尤其优选的铝为纯铝，但完全纯的铝从精炼技术考虑是很难制造的，因此可以含有微量的杂元素。
如此，适用于本发明中的铝板，其组成并不是特定的，可以适当利用一直以来公知公用的材料的铝板。本发明中所使用的铝板的厚度优选为0.1～0.6mm，更优选为0.15～0.4mm，尤其优选为0.2～0.3mm。
这种铝板根据需要可以进行粗糙化处理、阳极氧化处理等表面处理。关于铝支撑体的表面处理，例如可以适当地实施如详细记载于日本特开2009-175195号公报的0167～0169段落中的表面活性剂、基于有机溶剂或碱性水溶液等的脱脂处理、表面的粗糙化处理、阳极氧化处理等。
实施了阳极氧化处理的铝表面根据需要实施亲水化处理。
作为亲水化处理，使用如日本特开2009-175195号公报的0169段落中所公开的碱金属硅酸盐(例如硅酸钠水溶液)法、用氟化锆酸钾或聚乙烯基膦酸处理的方法等。
并且，还优选使用日本特开2011-245844号公报中所记载的支撑体。
<底涂层>
当将本发明的感光性树脂组合物适用于平版印刷版原版时，根据需要可以在支撑体与下层之间设置底涂层。
作为底涂层成分可以使用各种有机化合物，例如优选举出羧甲基纤维素、糊精等具有氨基的膦酸类、有机膦酸、有机磷酸、有机次膦酸、氨基酸类、以及具有羟基的胺的盐酸盐等。并且，这些底涂层成分可以单独使用一种，也可以混合使用两种以上。底涂层中所使用的化合物的详细内容、底涂层的形成方法记载于日本特开2009-175195号公报的0171～0172段落中，它们的记载也适用于本发明。
有机底涂层的涂覆量优选为2～200mg/m2，更优选为5～100mg/m2。若涂覆量在上述范围，则可以得到充分的耐刷性能。
<背涂层>
在本发明的平版印刷版原版的支撑体内面根据需要设置背涂层。作为这种背涂层，优选使用日本特开平5-45885号公报中所记载的有机高分子化合物及日本特开平6-35174号公报中所记载的由使有机或无机金属化合物水解及缩聚而得到的金属氧化物构成的涂覆层。这些涂覆层中，Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等硅的烷氧基化合物廉价且易获得，从中得到的金属氧化物的涂覆层的耐显影液优异，因此尤其优选。
(平版印刷版的制作方法)
本发明的平版印刷版的制作方法依次包含对上述平版印刷版原版进行图像曝光的曝光工序及使用显影液进行显影的显影工序。
根据本发明的平版印刷版的制作方法，可显影性改变变得良好，所得到的平版印刷版不会产生起因于非图像部的残膜的污染，图像部的强度、耐久性优异。
以下，对本发明的制作方法的各工序进行详细说明。
<曝光工序>
本发明的平版印刷版的制作方法包含对本发明的平版印刷版原版以图像模样进行曝光的曝光工序。另外，上述平版印刷版原版优选为正型的平版印刷版原版。
作为本发明的平版印刷版原版的图像曝光中所使用的活性光线的光源，优选从近红外至红外区域具有发光波长的光源，更优选固体激光、半导体激光。其中，在本发明中，尤其优选通过发射波长750～1,400nm的红外线的固体激光或半导体激光进行图像曝光。
激光的输出优选100mW以上，为了缩短曝光时间，优选使用多束激光器件。并且，每个像素的曝光时间优选为20μ秒以内。
对平版印刷版原版照射的能量优选为10～300mJ/cm2。若在上述范围，则能够抑制激光烧蚀而防止图像损坏。
本发明中的曝光中可以将光源的光束重叠而进行曝光。重叠是指副扫描间隙宽度小于光束直径。就重叠而言，例如将射束直径以射束强度的半宽度(FWHM)表示时，能够以FWHM/副扫描间隙宽度(重叠系数)定量地表示。本发明中，优选该重叠系数为0.1以上。
本发明中可以使用的曝光装置的光源的扫描方式并没有特别限定，可以使用圆筒外面扫描方式、圆筒内面扫描方式、平面扫描方式等。并且，光源的通道可以是单通道也可以是多通道，但在圆筒外面方式的情况下优选使用多通道。
<显影工序>
本发明的平版印刷版的制作方法包含使用pH8.5～13.5的碱水溶液(以下，也称为”显影液”。)进行显影的显影工序。
显影工序中所使用的显影液优选为pH12.5～13.5。
并且，上述显影液优选含有表面活性剂，更优选至少含有阴离子性表面活或非离子性表面活性剂。表面活性剂有助于提高处理性。
上述显影液中所使用的表面活性剂可以使用阴离子性、非离子性、阳离子性及两性表面活性剂中的任一种，但如已叙述那样，优选阴离子性、非离子性的表面活性剂。
作为本发明中的显影液中所使用的阴离子性、非离子性、阳离子性及两性表面活性剂，可以使用日本特开2013-134341号公报的0128～0131段落中所记载的物质。
并且，从对水的稳定的溶解性或混浊性的观点考虑，优选HLB值为6以上，更优选为8以上。
作为上述显影液中所使用的表面活性剂，优选阴离子性表面活性剂及非离子性表面活性剂，尤其优选含有磺酸或磺酸盐的阴离子性表面活性剂及具有芳香环和环氧乙烷链的非离子性表面活性剂。
表面活性剂可以单独使用或者组合使用。
表面活性剂在显影液中的含量优选0.01～10质量％，更优选0.01～5质量％。
为了将上述显影液保持为pH8.5～13.5，使碳酸离子、碳酸氢离子作为缓冲剂而存在，由此，即使长时间使用显影液也能够抑制pH的变动，并能够抑制由pH的变动引起的显影性下降、显影气体的产生等。为了使碳酸离子、碳酸氢离子存在于显影液中，可以将碳酸盐和碳酸氢盐加入到显影液中，也可以通过加入碳酸盐或碳酸氢盐之后调整pH来产生碳酸离子和碳酸氢离子。碳酸盐及碳酸氢盐并没有特别限定，优选为碱金属盐。作为碱金属，可以举出锂、钠、钾，尤其优选钠。它们可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
碳酸盐及碳酸氢盐的总量相对于显影液的总质量优选0.3～20质量％，更优选0.5～10质量％，尤其优选1～5质量％。若总量为0.3质量％以上，则显影性、处理能力不会下降，若为20质量％以下，则难以产生沉淀、晶体，进而在显影液的废液处理时、中和时难以凝胶化，不会妨碍废液处理。
并且，以辅助碱浓度的微调整、非图像部感光层的溶解为目的，可以补充地并用其他碱剂例如有机碱剂。作为有机碱剂，可以举出单甲胺、二甲胺、三甲胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺、三异丙胺、正丁胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、乙亚胺、乙二胺、吡啶、四甲基氢氧化铵等。这些其他碱剂可以单独使用或者组合使用两种以上。
上述显影液中除了上述以外，还可以含有湿润剂、防腐剂、螯化物、消泡剂、有机酸、有机溶剂、无机酸、无机盐等。其中，若添加水溶性高分子化合物，则尤其在显影液疲劳时版面容易发粘，因此优选不添加。
作为湿润剂，可以优选使用日本特开2013-134341号公报的0141段落中所记载的湿润剂。湿润剂可以单独使用，但也可以并用两种以上。湿润剂相对于显影剂的总质量优选以0.1～5质量％的量进行使用。
作为防腐剂，可以优选使用日本特开2013-134341号公报的0142段落中所记载的防腐剂。优选并用两种以上的防腐剂以对各种霉、杀菌有效力。关于防腐剂的添加量，为对细菌、霉、酵母等稳定地发挥效力的量，根据细菌、霉、酵母的种类而不同，相对于显影液的总质量优选0.01～4质量％的范围。
作为螯化物，可以优选使用日本特开2013-134341号公报的0143段落中所记载的螯化物。螯合剂可以选用稳定地存在于显影液组成中且不会阻碍印刷性的螯合剂。添加量相对于显影液总质量优选0.001～1.0质量％。
作为消泡剂，可以优选使用日本特开2013-134341号公报的0144段落中所记载的消泡剂。消泡剂的含量相对于显影液的总重量优选0.001～1.0质量％的范围。
作为有机酸，可以优选使用日本特开2013-134341号公报的0145段落中所记载的消泡剂。有机酸的含量相对于显影液的总质量优选0.01～0.5质量％。
作为有机溶剂，例如可以举出脂肪族烃类(己烷、庚烷、“Isopar E、H、G”(Esso Chemical Co.，Ltd.制)，汽油或煤油等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)或卤化烃(二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烯、单氯苯等)、以及极性溶剂。
作为极性溶剂，可以举出醇类(甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、苄醇、乙二醇单甲醚、2-乙氧基乙醇等)、酮类(甲乙酮、环己酮等)、酯类(乙酸乙酯、乳酸甲酯、丙二醇单甲醚乙酸酯等)、其他(磷酸三乙酯、磷酸三甲苯酯、N-苯基乙醇胺、N-苯基二乙醇胺等)等。
并且，当上述有机溶剂不溶于水时，也可以使用表面活性剂等使其可溶于水来使用。当显影液含有有机溶剂时，从安全性、可燃性的观点考虑，溶剂的浓度优选小于40质量％。
作为无机酸及无机盐，可以举出磷酸、偏磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢钠、磷酸氢二钠、磷酸二氢钾、磷酸氢二钾、三聚磷酸钠、焦磷酸钾、六偏磷酸钠、硝酸镁、硝酸钠、硝酸钾、硝酸铵、硫酸钠、硫酸钾、硫酸铵、亚硫酸钠、亚硫酸铵、硫酸氢钠、硫酸镍等。无机盐的含量相对于显影液的总质量优选0.01～0.5质量％。
显影温度只要能够进行显影，则并没有特别限制，优选为60℃以下，更优选为15～40℃。在使用自动显影机的显影处理中，根据处理量，显影液有时变疲劳，因此可以使用补充液或新鲜的显影液来恢复处理能力。并且，也可以使用如日本特开平9-96910号公报中所记载的自动显影装置，考虑处理疲劳与碳酸气体疲劳之比将确定补充显影补充液的定时的基准电导率自动设定为适当的值，由此使显影液的活性度经长期维持在良好的状态。
作为显影及显影后的处理的一例，可以例示出进行碱显影、通过后水洗工序去除碱、通过涂胶工序进行胶处理、通过干燥工序进行干燥的方法。并且，作为其他例，可以优选例示出通过使用含有碳酸离子、碳酸氢离子及表面活性剂的水溶液来同时进行前水洗、显影及涂胶的方法。由此，可以不必特别进行前水洗工序，优选仅使用一液、进而通过一浴进行前水洗、显影及涂胶之后，进行干燥工序。显影后，优选使用挤压辊等去除剩余的显影液之后进行干燥。当在所得到的平版印刷版上存在不必要的图像部时，消除该不必要的图像部。进行这种消除时，例如优选如日本特公平2-13293号公报中所记载的通过将消除液涂布于不必要图像部并以该状态放置规定的时间之后水洗来进行的方法，但也可以利用如日本特开平5-174842号公报中所记载的向不必要图像部照射由光纤引导的活性光线之后进行显影的方法。
显影工序可以通过具备擦拭部件的自动处理机来优选实施。作为自动处理机，例如可以举出一边搬运图像曝光后的平版印刷版原版一边进行擦拭处理的日本特开平2-220061号公报、日本特开昭60-59351号公报中所记载的自动处理机；对于设置于缸体上的图像曝光后的平版印刷版原版，一边使缸体旋转一边进行擦拭处理的美国专利5148746号、美国专利5568768号、英国专利2297719号中所记载的自动处理机等。其中，作为擦拭部件，尤其优选使用旋转刷辊的自动处理机。
本发明中所使用的旋转刷辊可以考虑图像部的损伤难度以及平版印刷版原版的支撑体中的强度等而适当选择。作为旋转刷辊，可以使用将刷材料植入到塑料或金属的辊中而形成的公知的刷辊。例如，可以使用日本特开昭58-159533号公报、日本特开平3-100554号公报中所记载的刷辊、如日本实公昭62-167253号公报中所记载的将刷材料以列状植入的金属或塑料的槽型材料无间隙地放射状卷绕到芯的塑料或金属的辊上的刷辊。
作为刷材料，可以使用塑料纤维(例如，聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯等聚酯类、尼龙6.6、尼龙6.10等聚酰胺类、聚丙烯腈、聚(甲基)丙烯酸烷基酯等聚丙烯酸类、聚丙烯、聚苯乙烯等聚烯烃类合成纤维)，例如可以优选使用纤维的毛的直径为20～400μm、毛的长度为5～30mm的纤维。
旋转刷辊的外径优选30～200mm，擦拭版面的刷的前端的圆周速度优选0.1～5m/sec。优选使用多根旋转刷辊。
关于旋转刷辊的旋转方向，相对于平版印刷版原版的搬运方向，可以是相同方向，也可以是相反方向，当使用两根以上的旋转刷辊时，优选至少一根旋转刷辊沿相同方向旋转、至少一根旋转刷辊沿相反方向旋转。由此，可以进一步可靠地去除非图像部的感光层。进而，还有效地使旋转刷辊沿刷辊的旋转轴方向摆动。
显影工序之后，优选连续地或不连续地设置干燥工序。利用热风、红外线、远红外线等进行干燥。
在本发明的平版印刷版的制作方法中，也可以使用如下自动处理机：在显影槽中对平版印刷版原版进行显影和涂胶，然后在干燥部进行干燥而得到平版印刷版。
并且，以提高耐刷性等为目的，也可以在非常强的条件下对显影后的印刷版进行加热。加热温度优选在200～500℃的范围。若温度较低，则无法得到充分的图像强化作用，当过高时有可能产生支撑体的劣化、图像部的热分解等问题。
对于如此得到的平版印刷版，安装于胶版印刷机上，优选使用于多张印刷。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行详细说明，但本发明并不限定于这些。另外，本实施例中，“份”、“％”只要没有特别说明，则指“质量份”、“质量％”。
(合成例)
<含有磺酰胺基的二胺(SA-1)的合成>
向安装有冷凝器及搅拌机的三口烧瓶中秤取氯磺酸350.0g，接着，在冰浴冷却中添加甲苯(Wako Pure Chemical Industries，Ltd.制)46.1g，并在冰浴冷却下搅拌1小时。将反应液升温至60℃，并搅拌3小时。将本反应液一边搅拌一边冷却至室温，并滴加到1L的冰水与1L的氯仿混合液中，搅拌30分钟之后，将其移到分液漏斗中，并取出有机层(氯仿层)。将本氯仿溶液再次移到分液漏斗中，利用饱和碳酸氢钠水溶液清洗之后，利用纯水分液清洗两次，接着，利用饱和食盐水分液清洗。将有机层(氯仿层)移到三角烧瓶中，添加硫酸镁30g并进行搅拌，通过过滤去除固形物之后，使用蒸发器蒸馏除去氯仿，在室温下真空干燥24小时，得到目标物的前体S-1(4-甲基苯-1，3-二磺酰氯体)70.0g。根据NMR谱来确认是前体(S-1)。对于前体S-1进行了基于1NMR的分析。以下示出其结果。
1H-NMR数据(重氯仿、400MHz、内标：四甲基硅烷)
δ(ppm)＝2.95(s，3H)、7.73-7.75(d，1H)、8.24-8.27(d，1H)、8.70(s，1H)
向安装有冷凝器及搅拌机的三口烧瓶中秤取1，4-亚苯基二胺(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)97.3g及乙腈400g，一边冷却至0～5℃一边进行搅拌。将上述所得到的前体(S-1)43.4g溶解于四氢呋喃400g之后，移到滴液漏斗中，经1小时滴加到搅拌中的上述三口烧瓶内，接着搅拌1小时。使本反应液恢复至室温，搅拌2小时之后，添加1M氢氧化钠水溶液615g及纯水500g并进行溶解。将本反应液移到分液漏斗中，用乙酸乙酯500mL分液清洗3次，回收水层。向5L的烧杯中秤取氯化铵(Kanto Chemical Co.，Inc.制)33.7g，溶解于纯水2L中，并在室温下进行搅拌。将上述水层滴加到5L烧杯中，滤取所析出的晶体，用纯水1L对晶体进行再浆化清洗之后，滤取晶体，接着，用氯仿500mL对晶体进行再浆化清洗之后，滤取晶体，并在40℃下真空干燥24小时，得到目标物(SA-1)56.5g。根据NMR谱来确认是目标物。
对于目标物(SA-1)进行了基于1NMR的分析。以下示出其结果。
1H-NMR数据(重DMSO、400MHz、内标：四甲基硅烷)
δ(ppm)＝2.55(s，3H)、5.00(s，4H)、6.35-6.38(t，4H)、6.55-6.57(d，2H)、6.60-6.62(d，2H)、7.46-7.48(d，1H)、7.58-7.61(d，1H)、8.10(s，1H)、9.61(s，1H)、9.75(s，1H)
能够以相同的方式合成SA-2～7。
<聚脲树脂(PU-1)的合成例>
向安装有冷凝器及搅拌机的三口烧瓶中秤取3，3’-二羟基联苯胺(DADHB，Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)4.32g、环己胺(Tokyo ChemicalIndustry Co.，Ltd.制)0.0083g及N，N-二甲基乙酰胺(Kanto ChemicalCo.，Inc.制)33.6g，将反应液设为室温而制成均匀溶液。
将六亚甲基二异氰酸酯(HDI，Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)3.36g溶解于N，N-二甲基乙酰胺(Kanto Chemical Co.，Inc.制)10.00g中，在室温下使用滴液漏斗经15分钟进行滴加，其后，在室温下搅拌30分钟而使其反应之后，添加环己胺(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)0.30g并搅拌15分钟。接着，将甲醇15mL加入到反应液中，在65℃下反应2小时之后，冷却至室温并使其溶解。
向纯水0.3L与甲醇0.3L的混合液中倾倒上述反应液，使聚合物析出。将其滤取、清洗、干燥，得到重均分子量56，000的粘结剂聚合物(PU-1)7.01g。
根据NMR谱、IR谱、GPC(聚苯乙烯换算)来确认是目标物。能够以相同的方式合成PU-2～29。
<含有磺酰胺基的聚脲树脂(PX-1)的合成例>
向安装有冷凝器及搅拌机的三口烧瓶中秤取利用与上述合成法相同的方法得到的SA-13.24g、3，3’-二羟基联苯胺(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)1.62g、利用N，N-二甲基乙酰胺稀释成1质量％的邻氨基苯酚(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)0.5g及N，N-二甲基乙酰胺27.54g，并在室温下进行搅拌，制成均匀溶液。
在室温下，将1.4-亚苯基二异氰酸酯(Tokyo ChemicaL IndustryCo.，Ltd.制)2.40g添加到反应液中，并在60℃下搅拌2小时而使其反应之后，添加邻氨基苯酚(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)0.3g，并搅拌15分钟。接着，将甲醇20mL加入到反应液中，并在65℃下反应3小时。向纯水0.1L与甲醇0.2L的混合液中倾倒反应液，使聚合物析出。将其滤取、清洗、干燥，得到重均分子量65，000的粘结剂聚合物(PX-1)7.2g。
根据NMR谱、IR谱、GPC(聚苯乙烯换算)来确认是目标物。
能够以相同的方式合成PX-2～9。
<含有亚胺基的聚脲树脂(PX-10)的合成例>
向安装有冷凝器及搅拌机的三口烧瓶中秤取3，3’-二羟基联苯胺(DADHB，Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)2.16g、N-甲基吡咯烷酮26.2g及三乙胺0.22g，一边冰浴冷却一边搅拌，制成均匀溶液。依次添加偏苯三酸酐酰氯(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)0.42g及六亚甲基二异氰酸酯(HDI、Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)1.35g，并在室温下反应3小时。接着，依次添加吡啶3.2g及乙酸酐2.2g，并在80℃下反应3小时。向纯水0.4L与甲醇0.4L的混合液中倾倒反应液，析出聚脲树脂。将其滤取、清洗、干燥，得到平均分子量59,000的粘结剂聚合物(PX-10)3.54g。根据NMR谱、IR谱、GPC(聚苯乙烯换算)来确认是目标物。能够以相同的方式得到PX-11～15。
(实施例1～31、比较例1～2)
<支撑体的制作>
对厚度0.3mm的材质1S的铝合金板实施下述(A)至(F)中下述表4所示的处理来制造出平版印刷版用支撑体。另外，在所有的处理工序之间实施水洗处理，水洗处理之后用轧辊进行了除液。
〔处理A〕
(A-a)机械粗糙化处理(刷粒法(brush grain method))
将研磨剂的悬浮液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液，一边向铝板的表面供给，一边利用旋转的硬毛束刷进行机械粗糙化处理。
将研磨材料的中位直径(μm)设为30μm，将刷根数设为4根，将刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6/10尼龙，刷毛的直径为0.3mm，毛长为50mm。关于刷，在φ300mm的不锈钢制筒上开孔并密集地植毛。硬毛束刷下部的两根支撑辊(φ200mm)的距离为300mm。硬毛束刷被按压直至使刷旋转的驱动马达的负荷相对于将硬毛束刷按压至铝板上之前的负荷增加10kW。刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。
(A-b)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为10g/m2。
(A-c)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使用用于下一工序的电化学粗糙化的硝酸的废液。其液温为35℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(A-d)电化学粗糙化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。此时的电解液使用在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空(duty)比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2，使从电源流过的电流的5％分流到辅助阳极。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为185C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(A-e)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.5g/m2。
(A-f)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液使用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(A-g)电化学粗糙化处理
使用盐酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。电解液使用在液温35℃、盐酸6.2g/L的水溶液中添加氯化铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。
电流密度以电流的峰值计为25A/dm2，盐酸电解中的电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为63C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(A-h)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(A-i)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。具体而言，使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5g/L)，在液温35℃下进行4秒钟去污处理。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(A-j)阳极氧化处理
使用两级供电电解处理法的阳极氧化装置(第一及第二电解部长度各为6m、第一及第二供电部长度各为3m、第一及第二供电极部长度各为2.4m)进行阳极氧化处理。使用硫酸作为向第一及第二电解部供给的电解液。电解液的硫酸浓度均为50g/L(含有铝离子0.5质量％。)，温度均为20℃。其后，通过喷射进行水洗。
(A-k)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔处理B〕
(B-a)机械粗糙化处理(刷粒法)
将研磨剂的悬浮液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液，一边向铝板的表面供给，一边利用旋转的硬毛束刷进行机械粗糙化处理。
将研磨材料的中位直径(μm)设为30μm，刷根数设为4根，刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6/10尼龙，刷毛的直径为0.3mm，毛长为50mm。关于刷，在φ300mm的不锈钢制筒上开孔并密集地植毛。硬毛束刷下部的两根支撑辊(φ200mm)的距离为300mm。硬毛束刷被按压直至使刷旋转的驱动马达的负荷相对于将硬毛束刷按压至铝板上之前的负荷增加10kW。刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。
(B-b)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为10g/m2。
(B-c)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使用用于下一工序的电化学粗糙化的硝酸的废液。其液温为35℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(B-d)电化学粗糙化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。此时的电解液使用在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2，使从电源流过的电流的5％分流到辅助阳极。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为185C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(B-e)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.5g/m2。
(B-f)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液使用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(B-g)电化学粗糙化处理
使用盐酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。电解液使用在液温35℃、盐酸6.2g/L的水溶液中添加氯化铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。
电流密度以电流的峰值计为25A/dm2，盐酸电解中的电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为63C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(B-h)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(B-i)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。具体而言，使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5g/L)，在液温35℃下进行4秒钟去污处理。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(B-j)第1阶段的阳极氧化处理
使用基于直流电解的阳极氧化装置进行第1阶段的阳极氧化处理。使用在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子7g/L的溶液作为电解浴，在液温43℃、电流密度30A/dm2的条件下进行阳极氧化处理。微孔的深度为27μm，所得到的覆膜量为0.13g/m2。
(B-k)扩孔(pore wide)处理
将进行上述阳极氧化处理的铝板在温度35℃、苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中浸渍1秒钟来进行扩孔处理。其后，通过喷射进行水洗。
(B-1)第2阶段的阳极氧化处理
使用基于直流电解的阳极氧化装置进行第2阶段的阳极氧化处理。使用在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子7g/L的溶液作为电解浴，在液温55℃、电流密度20A/dm2的条件下进行阳极氧化处理。所得到的覆膜量为2.6g/m2。
(B-m)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔处理(C)〕
(C-a)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。之后实施电化学粗糙化处理的面的铝溶解量为1.0g/m2。
(C-b)酸性水溶液中的去污处理(第1去污处理)
接着，在酸性水溶液中进行去污处理。用于去污处理的酸性水溶液使用硫酸150g/L的水溶液。其液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。其后，进行水洗处理。
(C-c)盐酸水溶液中的电化学粗糙化处理
接着，使用盐酸浓度14g/L、铝离子浓度13g/L、硫酸浓度3g/L的电解液，使用交流电流进行电解粗糙化处理。电解液的液温为30℃。铝离子浓度通过添加氯化铝来进行调整。
交流电流的波形为正与负的波形对称的正弦波，频率为50Hz，交流电流1周期中的阳极反应时间与阴极反应时间为1∶1，电流密度以交流电流波形的电流峰值计为75A/dm2。并且，电量以铝板参与阳极反应的电量总和计为450C/dm2，关于电解处理，隔开4秒钟的通电间隔，以125C/dm2分4次进行。铝板的对电极使用碳电极。其后，进行水洗处理。
(C-d)碱蚀刻处理
在温度35℃下，利用喷管对电化学粗糙化处理后的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。实施了电化学粗糙化处理的面的铝的溶解量为0.1g/m2。其后，进行水洗处理。
(C-e)酸性水溶液中的去污处理
接着，进行酸性水溶液中的去污处理。用于去污处理的酸性水溶液使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5.0g/L)。液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(C-f)阳极氧化处理
使用两级供电电解处理法的阳极氧化装置(第一及第二电解部长度各为6m、第一及第二供电部长度各为3m、第一及第二供电极部长度各为2.4m)进行阳极氧化处理。使用硫酸作为向第一及第二电解部供给的电解液。电解液的硫酸浓度均为50g/L(含有铝离子0.5质量％。)，温度均为20℃。其后，通过喷射进行水洗。
(C-g)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔处理(D)〕
(D-a)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。之后实施电化学粗糙化处理的面的铝溶解量为5g/m2。
(D-b)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使用用于下一工序的电化学粗糙化的硝酸的废液。其液温为35℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(D-c)电化学粗糙化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。此时的电解液使用在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2，使从电源流过的电流的5％分流到辅助阳极。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为250C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(D-d)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.2g/m2。
(D-e)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液使用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(D-f)电化学粗糙化处理
使用盐酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。电解液使用在液温35℃、盐酸6.2g/L的水溶液中添加氯化铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为25A/dm2，盐酸电解中的电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为63C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(D-g)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(D-h)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。具体而言，使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5g/L)，在液温35℃下进行4秒钟去污处理。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(D-i)阳极氧化处理
使用两级供电电解处理法的阳极氧化装置(第一及第二电解部长度各为6m、第一及第二供电部长度各为3m、第一及第二供电极部长度各为2.4m)进行阳极氧化处理。使用硫酸作为向第一及第二电解部供给的电解液。电解液的硫酸浓度均为50g/L(含有铝离子0.5质量％。)，温度均为20℃。其后，通过喷射进行水洗。
(D-j)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔处理(E)〕
(E-a)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。之后实施电化学粗糙化处理的面的铝溶解量为5g/m2。
(E-b)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使用用于下一工序的电化学粗糙化的硝酸的废液。其液温为35℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(E-c)电化学粗糙化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。此时的电解液使用在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2，使从电源流过的电流的5％分流到辅助阳极。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为250C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(E-d)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.2g/m2。
(E-e)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液使用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(E-f)电化学粗糙化处理
使用盐酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。电解液使用在液温35℃、盐酸6.2g/L的水溶液中添加氯化铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为25A/dm2，盐酸电解中的电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为63C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(E-g)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(E-h)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。具体而言，使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5g/L)，在液温35℃下进行4秒钟去污处理。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(E-i)第1阶段的阳极氧化处理
使用基于直流电解的阳极氧化装置进行第1阶段的阳极氧化处理。
使用在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子7g/L的溶液作为电解浴，在液温43℃、电流密度30A/dm2的条件下进行阳极氧化处理。微孔的深度为27μm，所得到的覆膜量为0.13g/m2。
(E-j)扩孔处理
将进行了上述阳极氧化处理的铝板在温度35℃、苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液中浸渍1秒钟来进行扩孔处理。其后，通过喷射进行水洗。
(E-k)第2阶段的阳极氧化处理
使用基于直流电解的阳极氧化装置进行第2阶段的阳极氧化处理。使用在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子7g/L的溶液作为电解浴，在液温40℃、电流密度20A/dm2的条件下进行阳极氧化处理。所得到的覆膜量为2.6g/m2。
(E-1)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔处理(F)〕
(F-a)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。之后实施电化学粗糙化处理的面的铝溶解量为5g/m2。
(F-b)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使用用于下一工序的电化学粗糙化的硝酸的废液。其液温为35℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(F-c)电化学粗糙化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。此时的电解液使用在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2，使从电源流过的电流的5％分流到辅助阳极。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为250C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(F-d)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.2g/m2。
(F-e)酸性水溶液中的去污处理
接着，使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5g/L)，在液温35℃下进行4秒钟去污处理。在硫酸水溶液中进行去污处理。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(F-f)阳极氧化处理
使用两级供电电解处理法的阳极氧化装置(第一及第二电解部长度各为6m、第一及第二供电部长度各为3m、第一及第二供电极部长度各为2.4m)进行阳极氧化处理。使用硫酸作为向第一及第二电解部供给的电解液。电解液的硫酸浓度均为50g/L(含有铝离子0.5质量％。)，温度均为20℃。其后，通过喷射进行水洗。
(F-g)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔处理(G)〕
(G-a)机械粗糙化处理(刷粒法)
将研磨剂的悬浮液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液，一边向铝板的表面供给一边利用旋转的硬毛束刷进行机械粗糙化处理。
在机械粗糙化处理中，将研磨材料的中位直径(μm)设为30μm，将刷根数设为4根，将刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6/10尼龙，刷毛的直径为0.3mm，毛长为50mm。关于刷，在φ300mm的不锈钢制筒上开孔并密集地植毛。硬毛束刷下部的两根支撑辊(φ200mm)的距离为300mm。硬毛束刷被按压直至使刷旋转的驱动马达的负荷相对于将硬毛束刷按压至铝板上之前的负荷增加10kW。刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。
(G-b)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为10g/m2。
(G-c)酸性水溶液中的去污处理
接着，进行酸性水溶液中的去污处理。用于去污处理的酸性水溶液使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5.0g/L)。液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(G-d)阳极氧化处理
使用两级供电电解处理法的阳极氧化装置(第一及第二电解部长度各为6m、第一及第二供电部长度各为3m、第一及第二供电极部长度各为2.4m)进行阳极氧化处理。使用硫酸作为向第一及第二电解部供给的电解液。电解液的硫酸浓度均为50g/L(含有铝离子0.5质量％。)，温度均为20℃。其后，通过喷射进行水洗。
(G-e)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔处理(H)〕
(H-a)机械粗糙化处理(刷粒法)
将研磨剂的悬浮液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液，一边向铝板的表面供给，一边利用旋转的硬毛束刷进行机械粗糙化处理。
在机械粗糙化处理中，将研磨材料的中位直径(μm)设为30μm，将刷根数设为4根，将刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6/10尼龙，刷毛的直径为0.3mm，毛长为50mm。关于刷，在φ300mm的不锈钢制筒上开孔并密集地植毛。硬毛束刷下部的两根支撑辊(φ200mm)的距离为300mm。硬毛束刷被按压直至使刷旋转的驱动马达的负荷相对于将硬毛束刷按压至铝板上之前的负荷增加10kW。刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。
(H-b)碱蚀刻处理
在温度70℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度26质量％、铝离子浓度6.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为10g/m2。
(H-c)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硝酸水溶液中进行去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使用用于下一工序的电化学粗糙化的硝酸的废液。其液温为35℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(H-d)电化学粗糙化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压连续进行电化学粗糙化处理。此时的电解液使用在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形，使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1∶1的梯形的矩形波交流，并将碳电极作为对电极来进行电化学粗糙化处理。辅助阳极使用铁素体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2，使从电源流过的电流的5％分流到辅助阳极。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为185C/dm2。其后，通过喷射进行水洗。
(H-e)碱蚀刻处理
在温度50℃下，利用喷管对上述所得到的铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的苛性钠水溶液来进行蚀刻处理。其后，通过喷射进行水洗。铝溶解量为0.5g/m2。
(H-f)酸性水溶液中的去污处理
接着，在硫酸水溶液中进行去污处理。用于附着物去污处理的硫酸水溶液使用硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的溶液。其液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行3秒钟去污处理。
(H-g)阳极氧化处理
使用两级供电电解处理法的阳极氧化装置(第一及第二电解部长度各为6m、第一及第二供电部长度各为3m、第一及第二供电极部长度各为2.4m)进行阳极氧化处理。使用硫酸作为向第一及第二电解部供给的电解液。电解液的硫酸浓度均为50g/L(含有铝离子0.5质量％。)，温度均为20℃。其后，通过喷射进行水洗。
(H-h)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性，使用使用2.5质量％3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒钟来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。其后，通过喷射进行水洗。
〔底涂层的形成〕
在如上述那样制作出的支撑体〔A〕～〔H〕上涂布以下所示的底涂层涂布液1之后，在80℃下干燥15秒钟来设置底涂层，并作为支撑体〔A-1〕～〔H-1〕。干燥后的涂覆量为15mg/m2。
(底涂层涂布液1)
·重均分子量2.8万的下述共聚物0.3份
·甲醇100份
·水1份
[化学式40]
<图像记录层的形成>
利用绕线棒，将下述组成的下层形成用涂布液组合物(I)涂布于所得到的支撑体〔A-1〕～〔H-1〕之后，在150℃的干燥烘箱中干燥40秒钟而使涂布量成为1.0g/m2来设置下层。设置下层之后，利用绕线棒涂布下述组成的上层形成用涂布液组合物(II)来设置上层。涂布后，在150℃下进行40秒钟干燥，得到合计下层与上层的涂布量为1.2g/m2的平版印刷版原版。
(下层形成用涂布液组合物(I))
·表4中所记载的特定高分子化合物：3.5份
·间、对-甲酚酚醛清漆(间/对比＝6/4，重均分子量6，000)：0.6份
·红外线吸收剂(IR色素(1)：下述结构)：0.2份
·4，4’-双羟基苯基砜：0.3份
·四氢邻苯二甲酸：0.4份
·对甲苯磺酸：0.02份
·3-甲氧基-4-重氮二苯基胺六氟磷酸盐：0.06份
·将乙基紫的抗衡离子改变为6-羟基萘磺酸的化合物：0.15份
·氟类表面活性剂(Megafac F-780，DIC Corporation制)：0.07份
·甲乙酮：30份
·1-甲氧基-2-丙醇：15份
·N，N二甲基乙酰胺：15份
[化学式41]
(上层形成用涂布液组合物(II))
·酚醛清漆树脂(间甲酚/对甲酚/苯酚＝3/2/5，Mw8，000)：0.68份
·红外线吸收剂(IR色素(1)：上述结构)：0.045份
·氟类表面活性剂(Megafac F-780，DIC Corporation制)：0.03份
·甲乙酮：15.0份
·1-甲氧基-2-丙醇：30.0份
·1-(4-甲基苄基)-1-苯基哌啶鎓的5-苯甲酰基-4-羟基-2-甲氧基苯磺酸盐：0.01份
使用所得到的平版印刷版原版进行了以下评价，将结果示于下述表4。
<非图像部显影时间的评价>
对于平版印刷版原版，利用Creo公司制Trendsetter VX改变曝光能量，在图像上描刻测试图案。其后，浸渍于装入有FUJIFILM Co.，Ltd.制显影液XP-D(进行稀释而将电导率设为43mS/cm的显影液，pH13.1)的显影浴中，在显影温度30℃下测定非图像部的显影所需的时间。将图像浓度成为与A1支撑体的图像浓度相等的浸渍时间作为非图像部显影时间。将结果示于表4。
非图像部显影时间越短，碱水溶液显影性越良好。将结果示于表4。
<耐刷性的评价>
对于平版印刷版原版，利用Creo公司制Trendsetter以射束强度9W、滚筒转速150rpm在图像上描刻测试图案。其后，使用装入有FUJIFILM Co.，Ltd.制显影液XP-D(进行稀释而将电导率设为43mS/cm的显影液，pH13.1)的FUJIFILM Co.，Ltd.制PS处理器LP940H，以显影温度30℃、显影时间12秒进行显影。使用KOMORI Corporation制印刷机LITHRONE，对其进行连续印刷。就油墨而言，使用含有碳酸钙的东洋特制墨水油墨作为低品质材料的模型。此时，目视测定有多少张数能够保持充分的油墨浓度而进行印刷，并评价了耐刷性。张数越多，评价为耐刷性越优异。将结果示于表4。
并且，代替PS处理器LP940H而使用PS处理器XP-940R，一边管理电导率一边进行显影，除此以外，在与上述相同的条件下评价了耐刷性的结果，在所有的实施例及比较例中，结果与使用PS处理器LP940H的情况相比未发生变化。
<耐药品性的评价>
对于实施例的平版印刷版原版，与上述耐刷性的评价同样地进行了曝光/显影及印刷。此时，加入每印刷5，000张时用含有清洁剂(FUJIFILM Co.，Ltd.制，MC-E)的PS海绵往复擦拭5次版面的工序，评价了耐药品性。关于此时的耐刷性，将前述耐刷张数的95％以上且100％以下的设为1，将为80％以上且小于95％的设为2，将为60％以上且小于80％的设为3，将小于60％的设为4。即使在加入利用清洁剂擦拭版面的工序的情况下，也是耐刷指数的变化越小，评价为耐药品性越优异。将结果示于以下表4。
[表4]
<CP-1的合成例>
向安装有冷凝器、搅拌机的三口圆底烧瓶中放入下述化合物CP-1-162.53g、1，4-亚苯基二异氰酸酯(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)48.0g、异佛尔酮二异氰酸酯(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)44.45g、下述化合物CP-1-2(82.08g)、N，N-二甲基乙酰胺(800g，Wako Pure Chemical Industries，Ltd.制)及二月桂酸二正丁基锡(5滴，Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)，并在100℃下加热8小时。其后，利用甲醇(100ml)和N，N-二甲基乙酰胺(800g)进行稀释。将反应溶液一边在水(4L)中搅拌一边投入，使白色的聚合物析出。滤出该聚合物，利用水清洗之后进行真空干燥，由此得到聚氨酯树脂(CP-1)(51.35g)。
通过凝胶渗透色谱法测定了所得到的聚氨酯树脂(CP-1)的重均分子量的结果，以聚苯乙烯换算为5.1万，酸值为0.72meq/g。
[化学式42]
向带有搅拌机及加热装置的烧瓶中投入甲醇30g及N，N-二甲基乙酰胺5g。接着，添加邻苯二酚13.87g(0.126摩尔)及N，N’-二羟甲基脲13.76g(0.115摩尔)。将其在室温下一边搅拌一边加入浓盐酸6g(12当量)之后，开始进行加热，在达到55℃之后，以该状态保持温度，在55～60℃下反应5小时。若将该反应溶液一边搅拌一边注入到400ml的水中，则淡黄色的固形物会析出。将其滤出之后进行干燥，得到20g的CP-2。此时的产率为72％。通过凝胶渗透色谱法测定了所得到的聚脲树脂(CP-2)的重均分子量的结果，以聚苯乙烯换算为4.7万。
[化学式43]
由表4的结果明确可知，当使用本发明的感光性树脂组合物时，显影性及耐刷性得到提高。
(实施例32～62、比较例3～4)
<支撑体的制作>
与实施例1～31及比较例1～2同样地制作出支撑体〔A〕～〔H〕。
<底涂层的形成>
在如上述那样制作出的支撑体〔A〕～〔H〕上涂布以下所示的底涂层涂布液2之后，在80℃下干燥15秒钟来设置底涂层，作为支撑体〔A-1〕～〔H-1〕。干燥后的涂覆量为15mg/m2。
(底涂层涂布液2)
·β-丙氨酸：0.5份
·甲醇：95份
·水：5份
<记录层的形成>
利用绕线棒，将下述组成的下层形成用涂布液组合物(V)以涂布量成为1.5g/m2的方式涂布于所得到的支撑体〔A-1〕～〔H-1〕之后，在160℃的干燥烘箱中干燥40秒钟，并立即利用17～20℃的冷风冷却至支撑体的温度成为35℃来设置下层。设置下层之后，利用绕线棒，将下述组成的上层形成用涂布液组合物(VI)以涂布量成为0.5g/m2的方式涂布之后，在130℃下干燥40秒钟，进而利用20～26℃的风缓慢冷却来设置上层，从而得到平版印刷版原版。
(下层形成用涂布液组合物(V))
·表5中所记载的特定高分子化合物：0.8份
·红外线吸收剂(IR色素(1)：上述结构)：0.017份
·结晶紫(HODOGAYA CHEMICAL CO.，LTD.制)：0.017份
·Megafac F-177(DIC Corporation制，氟类表面活性剂)：0.015份
·N，N-二甲基乙酰胺：10份
·甲乙酮：10份
·1-甲氧基-2-丙醇：8份
(上层形成用涂布液组合物(VI))
·苯乙烯/丙烯腈/甲基丙烯酸共聚物(组成比69mol％/25mol％/6mol％，重均分子量45，000)：20份
·碱可溶性树脂：下述聚氨酯1：10份
·乙基紫：0.03份
·Megafac F-177(DIC Corporation制，氟类表面活性剂)：0.05份
·3-戊酮：60份
·丙二醇单甲醚-2-乙酸酯：8份
(聚氨酯1)
使下述式所表示的二异氰酸酯化合物与二醇化合物以成为1∶1的摩尔比的方式进行了聚合(重均分子量36,000)。
[化学式44]
对于所得到的平版印刷版原版，在显影处理中使用装入有Kodak公司制显影液Goldstar Premium Plate Developer(pH13.0)的FUJIFILM Co.，Ltd.制PS处理器FLH 85P，将液温保持为23℃，并将显影时间设为40秒，除此以外，在与实施例1相同的条件下进行了评价。
[表5]
由表5的结果明确可知，当使用本发明的感光性树脂组合物时，显影性、耐刷性得到提高。
(实施例63～93、比较例5～6)
<支撑体的制作>
与实施例1～31及比较例1～2同样地制作出支撑体〔A〕～〔H〕。
<底涂层的形成>
与实施例1～31同样地制作出具有底涂层的支撑体〔A-1〕～〔H-1〕。
<记录层的形成>
利用绕线棒，在所得到的支撑体〔A-1〕～〔H-1〕上涂布下述组成的涂布液组合物(IX)之后，在140℃的干燥烘箱中干燥50秒钟而得到涂布量为1.0g/m2的平版印刷版原版。
(涂布液组合物(IX))
·间、对-甲酚酚醛清漆(间/对比＝6/4，重均分子量5,000)：0.474份
·表6中所记载的特定高分子化合物：2.37份
·红外线吸收剂(上述IR色素(1))：0.155份
·2-甲氧基-4-(N-苯基氨基)苯重氮盐六氟磷酸盐：0.03份
·四氢邻苯二甲酸酐：0.19份
·将乙基紫抗衡离子设为6-羟基-β-萘磺酸的化合物：0.11份
·氟类表面活性剂(Megafac F-780，DIC Corporation制)：0.07份
·对甲苯磺酸：0.008份
·双-对羟基苯基砜：0.13份
·3，3’-硫代二丙酸二肉豆蔻基酯：0.04份
·硬脂酸月桂酯：0.02份
·N，N-二甲基乙酰胺：13份
·甲乙酮：24份
·1-甲氧基-2-丙醇：11份
对于所得到的平版印刷版原版，在显影处理中使用FUJIFILM Co.，Ltd.制显影液LH-DS(pH13.5)，除此以外，在与实施例1相同的条件下进行了评价，将结果示于下述表6。
[表6]
由表6的结果明确可知，当使用本发明的感光性树脂组合物时，显影性、耐刷性得到提高。
(实施例94～124、比较例7～8)
将下层形成用涂布液组合物(I)的N，N’-二甲基乙酰胺改变为二甲基亚砜，除此以外，与实施例1～31及比较例1～2同样地进行了平版印刷版原版的制作及评价。将评价结果记载于表7。
[表7]
由表7的结果明确可知，当使用本发明的感光性树脂组合物时，显影性、耐刷性得到提高。
(实施例125～155、比较例9～10)
将下层形成用涂布液组合物(V)的N，N’-二甲基乙酰胺改变为二甲基亚砜，除此以外，与实施例32～62及比较例3～4同样地进行了平版印刷版原版的制作及评价。将评价结果记载于表8。
[表8]
由表8的结果明确可知，当使用本发明的感光性树脂组合物时，显影性、耐刷性得到提高。
(实施例156～186、比较例11～12)
将涂布液组合物(IX)的N，N’-二甲基乙酰胺改变为二甲基亚砜，除此以外，与实施例63～93及比较例5～6同样地进行了平版印刷版原版的制作及评价。将评价结果记载于表9。
[表9]
由表9的结果明确可知，当使用本发明的感光性树脂组合物时，显影性、耐刷性得到提高。