技术领域本发明涉及基于相位振幅调制的可实现声学全息的超材料，属于声学领域。
背景技术：
光学全息成像是一个众所周知的技术，声学全息成像类比于光学全息，可以操控声场在特定成像平面形成预设置的形状。这个全新的技术可能用于声场重分布，超声治疗和建筑声学领域。声学全息技术上和光学类似，需要同时调制波的相位和振幅，而传统声学超材料或超表面往往只能单一地调声波的相位。
技术实现要素：
发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种基于相位振幅调制的可实现声学全息的超材料，通过调整中间通道的边长和中间通道的位置，可以同时调制波的相位和振幅，用于声学全息成像。技术方案：为解决上述技术问题，本发明的一种基于相位振幅调制的可实现声学全息的超材料，包括基板，所述基板上设有n×m个贯穿基板的单元，n表示n行，n为正整数，m表示m列，m为正整数，每个单元包含设有同轴的第一外通道、中间通道和第二外通道，中间通道位于第一外通道和第二外通道之间，所述第一外通道、中间通道和第二外通道的横截面形状均为正方形，第一外通道和第二外通道横截面的边长均为λ/5，中间外通道横截面的边长范围为0到λ/5，所述基板的厚度为λ，所述第一外通道的高度范围为λ/10到3λ/5，λ为入射声波的波长。作为优选，所述基板的声学阻抗至少为100倍的空气的声学阻抗。作为优选，相邻两个单元的中心位置距离为p＝λ/4。作为优选，所述入射声波的传播方向与基板表面的夹角为45°。有益效果：本发明的基于相位振幅调制的可实现声学全息的超材料，中间通道的内半径在0到λ/5变化，来实现不同的反射振幅，改变中间通道的位置来实现不同的反射相位，可以同时调制波的相位和振幅，用于声学全息成像。附图说明图1为本发明的结构示意图。图2为图1的的俯视图。图3为图1中单元的结构示意图。图4为图1中单元的纵截面示意图。图5为单元中中间通道的位置与反射相位关系。图6为单元中中间通道的边长w与反射振幅关系。图7为声学全息成像原理图。图8全息成像实现“N”“J”“U”三个字母的数值模拟结果。具体实施方式如图1至图4所示，本发明的一种基于相位振幅调制的可实现声学全息的超材料，包括基板1，所述基板1的声学阻抗至少为100倍的空气的声学阻抗，所述基板1上设有n×m个贯穿基板1的单元，n表示n行，n为正整数，m表示m列，m为正整数，本发明优选为m＝n＝19，基板1中的单元均匀分布，相邻两个单元中心位置的距离为p＝λ/4，每个单元包含设有同轴的第一外通道、中间通道和第二外通道，中间通道位于第一外通道和第二外通道之间，所述第一外通道、中间通道和第二外通道的横截面形状均为正方形，第一外通道和第二外通道横截面的边长均为d＝λ/5，中间外通道横截面的边长w范围为0到λ/5，所述基板1的厚度为h＝λ，所述第一外通道的高度h1范围为λ/10到3λ/5，λ为入射声波的波长。图5显示了中间通道的位置(中间通道上表面到第一外通道上表面距离h1)与反射相位关系，此图为λ＝2cm的结果，因此h1的范围为0.2cm到1.2cm，另外可以看出，当调整参数w时，并不影响相位。图6显示了中间通道的边长w与反射振幅关系，此图为λ＝2cm的结果，因此w的范围为0.1cm到0.4cm，另外可以看出，当调整h1时，基本不影响振幅。通过图5和图6证明了反射相位和振幅都可以通过调一个参数来单独控制。图7显示声学全息成像的原理图，超材料的表面所在平面称为全息平面，扬声器3放在远场入射，入射角度与全息平面成45度，成像平面2正对全息平面，距离为11λ。图8显示了数值模拟的全息成像结果，成像设计为三个大写字母“N”“J”“U”。以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。