1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上依次沉积第一材料层和第二材料层；
使用掩膜板，在所述第二材料层上制作第一刻蚀保护图形；
使用第二刻蚀液，对受第一刻蚀保护图形保护的第二材料层进行刻蚀，得到由剩余第二材料层所形成的第二刻蚀保护图形；
使用第一刻蚀液，对受第二刻蚀保护图形保护的第一材料层进行刻蚀，得到由剩余第一材料层所形成的功能图形；
其中，第二刻蚀液不能刻蚀第一材料层；
所述第二材料层被刻蚀的特征尺寸差值大于所述第一材料层被刻蚀的特征尺寸差值。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，
使用掩膜板，在所述第二材料层上制作第一刻蚀保护图形，包括：
在所述第二材料层上涂覆光刻胶层；
使用掩膜板，对所述光刻胶层进行显影和曝光，使得所述光刻胶层形成光刻胶去除区域和光刻胶保留区域，所述光刻胶保留区域作为所述第一刻蚀保护图形。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，得到由剩余第一材料层所形成的功能图形的步骤之后，所述方法还包括：
去除剩余的第二材料层。
4.根据权利要求1-3任一项所述的制作方法，其特征在于，
所述第二材料层的材料包括：钼。
5.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，
所述第一材料层的材料包括：氧化铟锡。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，
所述第二刻蚀液为磷酸、醋酸和硝酸的混合溶液。
7.一种显示基板，包括有形成在衬底基板上的功能图形，其特征在于，所述功能图形由权利要求1-6任一项所述的制作方法制成。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，
所述功能图形为信号线，所述信号线的线宽为0.8微米～2.2微米。
9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求7或8任一项所述的显示基板。