静止平台LDI曝光机的制作方法

本实用新型涉及一种曝光机，具体涉及一种静止平台LDI曝光机。

背景技术：

直写式曝光技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式曝光技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式曝光机大多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式曝光机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。

技术实现要素：

针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种静止平台LDI曝光机，曝光简便、高效，大大提高曝光速度和曝光质量。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种静止平台LDI曝光机，包括曝光平台和曝光光路，曝光光路设置在曝光平台的两侧面，曝光光路由若干子光路组成，子光路包括支撑板、二维震镜、激光器和f-theta镜，二维震镜、激光器和f-theta镜均设置在支撑板上，两个二维震镜设置在支撑板的一侧，激光器设置在其中一个二维震镜的上方，f-theta镜设置在支撑板的一侧，位置与另一个二维震镜对应。

所述曝光平台两侧设置的曝光光路位置对称，结构相同。

所述曝光光路由m*n个子光路矩阵组成，m为行，n为列。

本实用新型的有益效果为：激光器发出的光束通过二维震镜的扫描和f-theta镜的聚焦最终打在曝光平台的被曝光物品上，所有的子光路进行一次曝光，就能完成被曝光物品正反两面全部的曝光。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型子光路的结构示意图；

图中：1、曝光平台，2、曝光光路，3、子光路，31、二维震镜，32、激光器，33、f-theta镜，34、支撑板。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1和图2所示，本静止平台LDI曝光机，包括曝光平台1和曝光光路2，曝光光路2设置在曝光平台1的两侧面，曝光光路2由若干子光路3组成，子光路3包括支撑板34、二维震镜31、激光器32和f-theta镜33，二维震镜31、激光器32和f-theta镜33均设置在支撑板34上，两个二维震镜31设置在支撑板34的一侧，激光器32设置在其中一个二维震镜31的上方，f-theta镜33设置在支撑板34的一侧，位置与另一个二维震镜31对应。

曝光平台1两侧透光，曝光前，先将PCB板进行固定，利用二维震镜31将激光器32发出的激光反射，反射光随着两个二维震镜31相互配合震动，完成二维扫描，经过二维震镜31的光最后由f-theta镜33汇聚到曝光平台1上的被曝光的PCB板的表面，完成曝光，所有的子光路3进行一次曝光，就能完成被曝光物品正反两面全部的曝光，无需移动曝光平台1或是曝光光路2。

为了进一步提高曝光质量和效率，曝光平台1两侧设置的曝光光路2位置对称，结构相同，曝光光路2由m*n个子光路矩阵组成，m为行，n为列，根据需要可以灵活设置曝光光路2的尺寸结构。