超硬远红外镀膜膜层结构的制作方法

本实用新型涉及增透膜技术领域，具体地说，涉及一种超硬远红外镀膜膜层结构。

背景技术：

光学仪器中，光学元件表面的反射，不仅影响光学元件的通光能量，而且这些反射光还会在仪器中形成杂散光，影响光学仪器的成像质量。为了解决这些问题，通常在光学元件的表面镀上一定厚度的单层或多层膜，目的是为了减小元件表面的反射光，这样的膜叫光学增透膜(或减反膜)。

对于具有超高要求的光学仪器或设备(如天文、航空或者军用等光学仪器或设备)，其对远红外相应波段有可视要求，因此需要利用光学增透膜实现增透功能。对于现有的远红外增透膜来说，其设计层数一般较多，而随着层数的增加其表面的硬度也会相应的下降。因此，现有的远红外增透膜来很难同时达到较佳的表面硬度和增透效果。

技术实现要素：

本实用新型的内容是提供一种超硬远红外镀膜膜层结构，其能够克服现有技术的某种或某些缺陷。

根据本实用新型的超硬远红外镀膜膜层结构，其包括底膜层和顶膜层，底膜层和顶膜层间设有多个中间膜层单元，中间膜层单元包括自下而上依次层叠的中间膜层组件A和中间膜层组件B；底膜层的材质为五氧化二钽，中间膜层组件A的材质为二氧化硅，中间膜层组件B的材质为四氮化三硅，顶膜层的材质为二氧化硅。

本实用新型中，底膜层、中间膜层单元和顶膜层能够自下而上的依次层叠，底膜层的材质能够采用五氧化二钽，中间膜层组件A的材质能够采用二氧化硅，中间膜层组件B的材质能够采用四氮化三硅，顶膜层的材质为二氧化硅；通过上述构造，使得本实用新型的膜层结构能够具备较佳的增透效果，且表面硬度能够达到9H以上。

作为优选，底膜层的厚度为89.52nm。

作为优选，顶膜层的厚度为84.05nm。

作为优选，所述多个中间膜层单元的数量为16个，分别为第一至第十六中间膜层单元。

作为优选，第一中间膜层单元包括第一中间膜层组件A和第一中间膜层组件B，第一中间膜层组件A的厚度为64.65nm，第一中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第二中间膜层单元包括第二中间膜层组件A和第二中间膜层组件B，第二中间膜层组件A的厚度为129.30nm，第二中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第三中间膜层单元包括第三中间膜层组件A和第三中间膜层组件B，第三中间膜层组件A的厚度为129.30nm，第三中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第四中间膜层单元包括第四中间膜层组件A和第四中间膜层组件B，第四中间膜层组件A的厚度为129.30nm，第四中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第五中间膜层单元包括第五中间膜层组件A和第五中间膜层组件B，第五中间膜层组件A的厚度为129.30nm，第五中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第六中间膜层单元包括第六中间膜层组件A和第六中间膜层组件B，第六中间膜层组件A的厚度为129.30nm，第六中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第七中间膜层单元包括第七中间膜层组件A和第七中间膜层组件B，第七中间膜层组件A的厚度为129.30nm，第七中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第八中间膜层单元包括第八中间膜层组件A和第八中间膜层组件B，第八中间膜层组件A的厚度为129.30nm，第八中间膜层组件B的厚度为82.16nm；

第九中间膜层单元包括第九中间膜层组件A和第九中间膜层组件B，第九中间膜层组件A的厚度为148.70nm，第九中间膜层组件B的厚度为106.81nm；

第十中间膜层单元包括第十中间膜层组件A和第十中间膜层组件B，第十中间膜层组件A的厚度为168.09nm，第十中间膜层组件B的厚度为106.81nm；

第十一中间膜层单元包括第十一中间膜层组件A和第十一中间膜层组件B，第十一中间膜层组件A的厚度为168.09nm，第十一中间膜层组件B的厚度为106.81nm；

第十二中间膜层单元包括第十二中间膜层组件A和第十二中间膜层组件B，第十二中间膜层组件A的厚度为168.09nm，第十二中间膜层组件B的厚度为106.81nm；

第十三中间膜层单元包括第十三中间膜层组件A和第十三中间膜层组件B，第十三中间膜层组件A的厚度为168.09nm，第十三中间膜层组件B的厚度为106.81nm；

第十四中间膜层单元包括第十四中间膜层组件A和第十四中间膜层组件B，第十四中间膜层组件A的厚度为168.09nm，第十四中间膜层组件B的厚度为106.81nm；

第十五中间膜层单元包括第十五中间膜层组件A和第十五中间膜层组件B，第十五中间膜层组件A的厚度为168.09nm，第十五中间膜层组件B的厚度为106.81nm；

第十六中间膜层单元包括第十六中间膜层组件A和第十六中间膜层组件B，第十六中间膜层组件A的厚度为168.09nm，第十六中间膜层组件B的厚度为106.81nm。

本实用新型中，第二～第八中间膜层单元的单体构造完全相同，在实际应用中，能够对该处的具体数量进行增减。

本实用新型中，第十～第十六中间膜层单元的单体构造完全相同，在实际应用中，能够对该处的具体数量进行增减。

附图说明

图1为实施例1中的一种超硬远红外镀膜膜层结构；

图2为实施例1中的超硬远红外镀膜膜层结构的波长与透过率间的关系。

图2中，横轴为波长(nm)，纵轴为透过率(％)。

具体实施方式

为进一步了解本实用新型的内容，结合附图和实施例对本实用新型作详细描述。应当理解的是，实施例仅仅是对本实用新型进行解释而并非限定。

实施例1

如图1所示，本实施例提供了一种超硬远红外镀膜膜层结构，其包括底膜层110和顶膜层120，底膜层110和顶膜层120间设有多个中间膜层单元，中间膜层单元包括自下而上依次层叠的中间膜层组件A和中间膜层组件B；底膜层110的材质为五氧化二钽，中间膜层组件A的材质为二氧化硅，中间膜层组件B的材质为四氮化三硅，顶膜层120的材质为二氧化硅。

本实施例中，底膜层110的厚度为89.52nm，顶膜层120的厚度为84.05nm，中间膜层单元的数量为16个，分别为第一至第十六中间膜层单元。

第一中间膜层单元包括第一中间膜层组件A131a和第一中间膜层组件B132a，第一中间膜层组件A131a的厚度为64.65nm，第一中间膜层组件B132a的厚度为82.16nm。

第二中间膜层单元包括第二中间膜层组件A131b和第二中间膜层组件B132b，第二中间膜层组件A131b的厚度为129.30nm，第二中间膜层组件B132b的厚度为82.16nm。

第三中间膜层单元包括第三中间膜层组件A131c和第三中间膜层组件B132c，第三中间膜层组件A131c的厚度为129.30nm，第三中间膜层组件B132c的厚度为82.16nm。

第四中间膜层单元包括第四中间膜层组件A131d和第四中间膜层组件B132d，第四中间膜层组件A131d的厚度为129.30nm，第四中间膜层组件B132d的厚度为82.16nm。

第五中间膜层单元包括第五中间膜层组件A131e和第五中间膜层组件B132e，第五中间膜层组件A131e的厚度为129.30nm，第五中间膜层组件B132e的厚度为82.16nm。

第六中间膜层单元包括第六中间膜层组件A131f和第六中间膜层组件B132f，第六中间膜层组件A131f的厚度为129.30nm，第六中间膜层组件B132f的厚度为82.16nm。

第七中间膜层单元包括第七中间膜层组件A131g和第七中间膜层组件B132g，第七中间膜层组件A131g的厚度为129.30nm，第七中间膜层组件B132g的厚度为82.16nm。

第八中间膜层单元包括第八中间膜层组件A131h和第八中间膜层组件B132h，第八中间膜层组件A131h的厚度为129.30nm，第八中间膜层组件B132h的厚度为82.16nm。

第九中间膜层单元包括第九中间膜层组件A131i和第九中间膜层组件B132i，第九中间膜层组件A131i的厚度为148.70nm，第九中间膜层组件B132i的厚度为106.81nm。

第十中间膜层单元包括第十中间膜层组件A131j和第十中间膜层组件B132j，第十中间膜层组件A131j的厚度为168.09nm，第十中间膜层组件B132j的厚度为106.81nm。

第十一中间膜层单元包括第十一中间膜层组件A131k和第十一中间膜层组件B132k，第十一中间膜层组件A131k的厚度为168.09nm，第十一中间膜层组件B132k的厚度为106.81nm。

第十二中间膜层单元包括第十二中间膜层组件A131l和第十二中间膜层组件B132l，第十二中间膜层组件A131l的厚度为168.09nm，第十二中间膜层组件B132l的厚度为106.81nm。

第十三中间膜层单元包括第十三中间膜层组件A131m和第十三中间膜层组件B132m，第十三中间膜层组件A131m的厚度为168.09nm，第十三中间膜层组件B132m的厚度为106.81nm。

第十四中间膜层单元包括第十四中间膜层组件A131n和第十四中间膜层组件B132n，第十四中间膜层组件A131n的厚度为168.09nm，第十四中间膜层组件B132n的厚度为106.81nm。

第十五中间膜层单元包括第十五中间膜层组件A131o和第十五中间膜层组件B132o，第十五中间膜层组件A131o的厚度为168.09nm，第十五中间膜层组件B132o的厚度为106.81nm。

第十六中间膜层单元包括第十六中间膜层组件A131p和第十六中间膜层组件B132p，第十六中间膜层组件A131p的厚度为168.09nm，第十六中间膜层组件B132p的厚度为106.81nm。

如图2所示，本实施例中的一种超硬远红外镀膜膜层结构，对波长在0～30000nm间的光线均具有较佳的增透效果，透过率均可达到约97％。此外，本实施例中的一种超硬远红外镀膜膜层结构的表面硬度能够达到9H。

以上示意性的对本实用新型及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本实用新型的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。