用于光刻设备的对准传感器的制作方法

文档序号:14575430发布日期:2018-06-02 01:53阅读:来源:国知局
技术总结
一种光刻设备包括被配置用于确定包括周期性结构的对准目标的位置的对准传感器。对准传感器包括解多路复用器(700)以解多路复用多个强度通道(一个示出为在光纤702处的输出)。解多路复用器包括串联设置的多个级以及许多解多路复用部件(706,708a,b,710a‑d,712a‑h),每个解多路复用部件可操作用于划分输入辐射束为两个辐射束部分。第一级具有设置用于接收入射辐射束作为输入辐射束的第一解多路复用部件(706)。每个后续级设置使其具有两倍于前一级的解多路复用部件的数目,在第一级之后每个级的每个解多路复用部件接收从前一级的解多路复用部件输出的辐射束部分的一个作为输入。

技术研发人员:A·波洛;S·G·J·马斯杰森;P·A·J·廷尼曼斯;S·D·克斯顿;R·J·哈弗林
受保护的技术使用者:ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
技术研发日:2016.08.23
技术公布日:2018.06.01

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