1.一种方法，包括：
提供具有第一偏振的第一束部分和具有不同的第二偏振的第二束部分；
在所述第二束部分未被阻挡的情况下阻挡所述第一束部分，或从所述第一束部分形成具有所述第二偏振的第一束，所述第一束具有通过调制所述第一束部分而获得的第一强度分布；
在所述第一束部分未被阻挡的情况下阻挡所述第二束部分，或从所述第二束部分形成具有所述第一偏振的第二束，所述第二束具有通过调制所述第二束部分而获得的第二强度分布；和
提供包括所述第一束和/或所述第二束的输出束，其中所述输出束包括所述第一强度分布和/或所述第二强度分布并且包括所述第一偏振和/或所述第二偏振。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，提供所述第一束部分和所述第二束部分包括使用偏振分束表面分割输入束，所述偏振分束表面对所述第一偏振是反射性的且对所述第二偏振是透射性的，或者所述偏振分束表面对所述第一偏振是透射性的且对所述第二偏振是反射性的。
3.根据权利要求2所述的方法，还包括以相对于所述表面的角度大致等于布鲁斯特角提供所述输入束。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其中，提供所述输出束包括使用所述偏振分束表面以组合所述第一束和/或所述第二束。
5.根据权利要求2-4中任一项所述的方法，其中，所述偏振分束表面包括涂层。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中调制所述第一束部分由硅上液晶系统(LCoS)执行，和/或调制所述第二束部分由LCoS执行。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其中，所述第一偏振为S偏振，所述第二偏振为P偏振。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法，其中，所述第一强度分布与所述第二强度分布实质上相同。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法，其中，所述第一强度分布和/或所述第二强度分布根据规格被设置成具有任意形状。
10.一种照射器，包括：
第一调制器，配置成在具有不同的第二偏振的第二束部分未被阻挡的情况下阻挡具有第一偏振的第一束部分，或配置成从所述第一束部分形成具有所述第二偏振的第一束，所述第一束具有通过调制所述第一束部分而提供的第一强度分布；
第二调制器，配置成在所述第一束部分未被阻挡的情况下阻挡所述第二束部分，或配置成从所述第二束部分形成具有所述第一偏振的第二束，所述第二束具有通过调制所述第二束部分而提供的第二强度分布；和
偏振分束表面，配置成提供包括所述第一束和/或所述第二束的输出束，其中所述输出束包括所述第一强度分布和/或所述第二强度分布并且包括所述第一偏振和/或所述第二偏振。
11.根据权利要求10所述的照射器，包括配置成将输入辐射束分割成所述第一束部分和所述第二束部分的偏振分束表面，所述分束表面对所述第一偏振是反射性的且对所述第二偏振是透射的，或所述偏振分束表面对所述第一偏振是透射性的且对所述第二偏振是反射性的。
12.根据权利要求11所述的照射器，其中，配置成提供所述输出束和分割所述输入束的偏振分束表面为同一表面。
13.根据权利要求11或12所述的照射器，其中，所述输入束相对于所述表面的角度大致等于布鲁斯特角。
14.根据权利要求11-13中任一项所述的照射器，其中，所述偏振分束表面包括涂层。
15.根据权利要求10-14中任一项所述的照射器，其中，所述第一调制器和/或所述第二调制器为硅上液晶系统(LCoS)。
16.根据权利要求10-15中任一项所述的照射器，其中，所述第一偏振为S偏振，所述第二偏振为P偏振。
17.根据权利要求10-16中任一项所述的照射器，其中，所述第一调制器和所述第二调制器配置成提供与所述第二强度分布实质上相同的所述第一强度分布。
18.根据权利要求10-17中任一项所述的照射器，其中，所述第一调制器和所述第二调制器配置成提供所述第一强度分布和/或所述第二强度分布，所述第一强度分布和/或所述第二强度分布根据规格具有任意形状。