显示面板的制作方法

本发明是关于一种显示面板，且特别是有关于一种窄边框显示面板。

背景技术：

随着科技的进步，液晶显示面板的技术也不断地发展。为进一步提升液晶显示面板显示区的面积，超窄边框设计(slim border design)的需求也应运而生。

一般而言，液晶显示面板主要是由一上基板、一下基板以及一夹置于上基板与下基板之间的液晶层所构成。为了接合上基板与下基板，通常会在上基板与下基板之间形成密封胶(sealant)并使密封胶环绕像素阵列，而液晶层则配置在上基板与下基板与密封胶所形的封闭空间中。此外，液晶显示面板的上基板的共通电极会与液晶显示面板的下基板的转接垫相导通。

随着科技的进步，提升液晶显示面板显示区面积的需求逐渐的提高。然而，当液晶显示面板的边框变小，转接垫区域会被配向膜所覆盖，导致上基板的共通电极无法与下基板的转接垫互相导通，造成显示异常。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种显示面板，其可在符合窄边框设计需求的同时，确保传输垫接合处能够避免受到配向膜的阻挡以顺利互相导通。

根据本发明的一实施例提供一种显示面板，包括一阵列基板以及一对向基板。阵列基板包含一第一基板、多条第一信号线、多条第二信号线以及至少一第一传输垫。第一基板具有显示区以及位于该显示区至少一侧的周边区。第一信号线设置于第一基板之上。第二信号线设置于第一基板之上，且与第一信号线交叉设置。第一传输垫设置于第一基板的周边区。对向基板包含一第二基板、至少一第二传输垫、一遮光层、一共通电极以及一第一配向膜。第二基板具有与第一基板相对应的显示区以及位于该显示区至少一侧的周边区。第二传输垫设置于第二基板的周边区，其中第二传输垫与第一传输垫电连接。遮光层至少部分对应于第一信号线与第二信号线而设置于第二基板上，其中遮光层包含至少一单元遮光部，所述单元遮光部具有狭缝。共通电极设置于遮光层之上，与第二传输垫电连接。第一配向膜设置于共通电极之上，且第一配向膜设置于狭缝内。其中单元遮光部紧邻第二基板的显示区的一边界，并且与周边区的第二传输垫对应。

在本发明的一实施例中，第二基板的显示区具有一中央部分，位于中央部分的遮光层为连续的网状结构。

在本发明的一实施例中，位于中央部分的遮光层不具有狭缝。

在本发明的一实施例中，单元遮光部于垂直于第一基板的投影方向上与部分的第一信号线和第二信号线至少部分重叠。

在本发明的一实施例中，狭缝与部分的第一信号线对应设置。

在本发明的一实施例中，第二传输垫设置于第二基板的周边区的至少一角落区域，而单元遮光部位于第二基板的显示区的至少一角落区域。

在本发明的一实施例中，更包含一遮光框体，遮光框体设置于第二基板的周边区，并与第一基板的周边区对应设置。

在本发明的一实施例中，第二传输垫位于遮光框体上。

在本发明的一实施例中，遮光框体与遮光层连接。

在本发明的一实施例中，至少一第二传输垫设置于遮光框体的至少一角落区域，而单元遮光部设置于遮光框体的内侧的至少一角落区域。

在本发明的一实施例中，第一信号线与第二信号线交叉设置定义出多个像素区域，而单元遮光部与像素区域的一部分对应设置。

在本发明的一实施例中，更包含多个像素单元设置于阵列基板的像素区域内。每一像素单元包括一主动元件以及一像素电极，主动元件与对应的第一信号线和第二信号线电性相连，以及像素电极与主动元件电性相连。

在本发明的一实施例中，更包括第二配向膜，设置于像素单元之上。

在本发明的一实施例中，更包括一导电元件，位于阵列基板以及对向基板之间，以电连接第一传输垫与第二传输垫。

在本发明的一实施例中，第一传输垫的面积为X，单元遮光部的面积为Y，Y/X的比值介于4至6之间。

在本发明的一实施例中，前述狭缝的其中之一沿着第一信号线的延伸方向的宽度是介于8至12微米(micrometer)之间。

基于上述，由于遮光层的单元遮光部具有狭缝的设计，因此可以避免配向膜覆盖住第二传输垫，使得阵列基板的第一传输垫与对向基板的第二传输垫可以保持良好的电连接。

再者，由于遮光层的单元遮光部具有狭缝的设计，第二基板邻近周边区的显示区可以确保配向膜完整覆盖，使得第二基板邻近周边区的显示区能提供有效的配向，避免显示介质层分子(例如：液晶分子)排列异常导致漏光的疑虑，可以提升显示品质。

以上关于本发明内容的说明及以下实施方式的说明是用以示范与解释本发明的原理，并且提供本发明的专利申请范围更进一步的解释。

附图说明

图1绘示本发明第一实施例的显示面板的上视示意图；

图2为沿图1的剖面线A-A’绘示的显示面板的局部剖面图；

图3为图1的显示面板中的阵列基板的上视示意图；

图4为图1的显示面板中的对向基板的上视示意图；

图5A为沿图4的剖面线B-B’绘示的对向基板的局部剖面图；

图5B为沿图4的剖面线C-C’绘示的对向基板的局部剖面图；

图6绘示本发明第一实施例的显示面板的遮光层与像素单元的相对位置的上视示意图；

图7绘示本发明第一实施例的变化实施例的显示面板的上视示意图；

图8绘示本发明第二实施例显示面板的对向基板的上视示意图；

图9A为沿图8的剖面线D-D’绘示的对向基板的局部剖面图；

图9B为沿图8的剖面线E-E’绘示的对向基板的局部剖面图；

图10绘示本发明第二实施例的变化实施例的显示面板的上视示意图。

附图标记

10：显示面板

100：阵列基板

110：第一基板

112：显示区

114：周边区

116：像素区域

120：金属转接垫

130：绝缘层

140：第二配向膜

200、200A、200B、200C：对向基板

210：第一基板

212：显示区

212c：中央部分

212p：周边部分

212S1、212S2、212S3、212S4：边界

212C1、212C2、212C3、212C4：角落区域

214：周边区

214C1、214C2、214C3、214C4：角落区域

220：遮光层

222：单元遮光部

224：狭缝

230：遮光框体

240：第一配向膜

300：显示介质层

400：导电元件

410：绝缘胶材

420：导电粒子

CE：共通电极

CH：半导体层

DE：漏极

GE：栅极

GI：栅极绝缘层

OP：像素开口区

PAD1：第一传输垫

PAD2：第二传输垫

PE：像素电极

PL：平坦层

PU：像素单元

SE：源极

SL1：第一信号线

SL2：第二信号线

SW：主动元件

W：宽度

Z：投影方向

具体实施方式

以下将以图式揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些已知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式为之。

在以下详细说明中，参考了作为详细说明的一部分的附图。在附图中，类似符号通常表示类似部件，除非上下文另行指明。具体实施方式部分、附图和权利要求书中记载的示例性实施例并不是限制性的。在不脱离在此所呈现主题的精神或范围的情况下，可以利用其他实施例，且可以进行其他改变。应当理解，在此一般性记载以及附图中图示的本公开的各方案可以按照在此明确和隐含公开的多种不同配置来设置、替换、组合、分割和设计。

至于文中的用语仅是为描述特定实施例的目的，且并非意欲限制本发明。如本文中所使用的，除非本文另外有明确指示，否则单数形式“一”以及“所述”也代表包括复数的形式或至少一个的形式。而文中使用“第一”、“第二”等来描述各种元件、区、层等，但是这样的用语仅用以将一元件、区或层区别于另一元件、区或层。因此，可在不偏离本揭示所教示的情况下，将以下讨论的第一元件、零件、区域、层和/或部分称为第二元件、零件、区域、层和/或部分。此外，本文中可使用诸如“于...下”、“于...上”、“下”、“上”及其类似的空间相对用语，来描述附图中的一元件或特征与另一元件或特征的关系。应了解，空间相对用语可涵盖使用中的元件除了附图所描绘的方位以外的不同方位。举例而言，若将图中的元件翻转，则被描述为位于其他元件或特征“下方”或“之下”的元件接着将定向成位于其他元件或特征“上方”。因此，空间相对用语“于......下”可包括上方以及下方的两方位。

如在本文中所使用的用语“大约”、“约”、“近乎”或“实质上”应大体上意指在给定值或范围的百分之二十以内，较佳为在百分之十以内，更佳为在百分之五以内。在此所提供的数量为近似，意指若无特别陈述，可以用语“大约”、“约”或“近乎”加以表示。

在附图中，为了清楚起见，放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反地，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理及/或电连接。

请参考图1至图6。图1绘示本发明第一实施例的显示面板的上视示意图，图2为沿图1的剖面线A-A’绘示的显示面板的局部剖面图，图3为图1的显示面板中的阵列基板的上视示意图，图4为图1的显示面板中的对向基板的上视示意图，图5A为沿图4的剖面线B-B’绘示的对向基板的局部剖面图，图5B为沿图4的剖面线C-C’绘示的对向基板的局部剖面图，图6绘示本发明第一实施例的显示面板的遮光层与像素单元的相对位置的上视示意图。如图1至图6所示，本实施例的显示面板10包括阵列基板100以及对向基板200。显示面板10包括多个像素开口区OP。阵列基板100包含第一基板110、多条第一信号线SL1、多条第二信号线SL2以及至少一第一传输垫PAD1。第一基板110具有显示区112以及位于显示区112至少一侧的一周边区114。第一信号线SL1与第二信号线SL2设置于第一基板110之上，且第一信号线SL1与第二信号线SL2交叉设置。第一传输垫PAD1设置于第一基板110的周边区114。对向基板200包含第二基板210、至少一第二传输垫PAD2、一遮光层220、一共通电极CE以及一第一配向膜240。第二基板210具有与第一基板110相对应的显示区212以及位于显示区212至少一侧的周边区214。第二传输垫PAD2设置于第二基板210的周边区214，其中第二传输垫PAD2与第一传输垫PAD1电连接。遮光层220至少部分对应于第一信号线SL1与第二信号线SL2而设置于第二基板210上，其中遮光层220包含至少一单元遮光部222，所述单元遮光部222具有狭缝224；在本实施例中，遮光层例如为有机不透光材料。共通电极CE设置于遮光层220之上，与第二传输垫PAD2电连接。第一配向膜240设置于共通电极CE之上，且第一配向膜240设置于狭缝224内。其中单元遮光部222紧邻第二基板210的显示区212的一边界212S1，并且与周边区214的第二传输垫PAD2对应。

在本实施例中，如图2至图3所示，阵列基板100包含第一基板110，第一基板110可为硬质基板或可挠式基板例如玻璃基板、石英基板、蓝宝石基板、塑胶基板或其它适合的基板。第一基板110具有显示区112以及位于该显示区112至少一侧的周边区114。多条第一信号线SL1与多条第二信号线SL2设置第一基板110上，第一信号线SL1与第二信号线SL2之间设置有一绝缘层(未绘示)。在本实施例中，第一信号线SL1与第二信号线SL2交叉设置定义出多个像素区域116，多个像素单元PU设置于像素区域116内。每一像素单元PU包括一主动元件SW以及一像素电极PE，其中主动元件SW与对应的第一信号线SL1以及第二信号线SL2电性相连，以及像素电极PE与主动元件SW电性相连。在本实施例中，主动元件SW例如为一薄膜晶体管元件，包含一栅极GE、一半导体层CH、一栅极绝缘层GI、一源极SE以及一漏极DE，但不以此为限。另外，第一传输垫PAD1设置于第一基板110的显示区112外围的周边区114内，在本实施例中，第一传输垫PAD1是位于阵列基板110的一侧边。此外，在本实施例中，阵列基板100还可以形成共通线(未绘示)，共通线可以与相对应的其他元件耦合产生一电容Cs。

另外，在本实施例中，如图2、图4、图5A与5B所示。对向基板200包含第二基板210，第二基板210可为硬质基板或可挠式基板，例如玻璃基板、石英基板、蓝宝石基板、塑胶基板或其它适合的基板。第二基板210具有显示区212以及位于该显示区212至少一侧的周边区214。其中，显示区212具有一中央部分212c以及围绕中央部分的一周边部分212p。遮光层220设置于第二基板210上，其中遮光层220位于显示区212内。在本实施例中，遮光层220包括至少一单元遮光部222，单元遮光部222具有多个狭缝224。随着设计的需求，对向基板200还可以包含一遮光框体230，遮光框体230设置于第二基板210的周边区214，与第一基板110的周边区114对应设置，遮光框体230可以与遮光层220连接，但不以此为限。另外，共通电极CE设置遮光层220之上，第二传输垫PAD2设置于第二基板210的周边区214，在本实施例中例如第二传输垫PAD2位于遮光框体230上，但不以此为限。共通电极CE与第二传输垫PAD2电连接。第一配向膜240设置于共通电极CE之上，且第一配向膜240设置于狭缝224内。如图4所示，本实施例的单元遮光部222是紧邻第二基板210的显示区212的一边界212S1设置，并且与第二传输垫PAD2对应设置。此外，在一实施例中，位于中央部分212c的遮光层220为连续的网状结构，例如在本实施例中，位于中央部分212c的遮光层220不具有狭缝，其为周期性且连续设置的网状结构，而单元遮光部222位于邻近第二传输垫PAD2的周边部分212p内。

特别说明的是，在一实施例中，单元遮光部222于垂直于第一基板110的一投影方向Z上与部分的第一信号线SL1和第二信号线SL2至少部分重叠。单元遮光部222的狭缝224与第一信号线SL1对应设置。单元遮光部222的狭缝224于沿着第一信号线SL1延伸方向的宽度W例如介于8至12微米(micrometer)之间。值得说明的是，第一信号线SL1例如为与源极SE连接的数据线，但不以此为限。第一信号线SL1例如亦可为与栅极GE连接的扫描线。详而言之，在一实施例中，单元遮光部222的狭缝224可以与数据线对应设置；在另一实施例中，单元遮光部222的狭缝224可以与扫描线对应设置；在又一变化实施例中，单元遮光部222的狭缝224可以数据线以及扫描线对应设置。此外，在一实施例中，第一传输垫PAD1的面积为X，单元遮光部222的面积为Y，其中Y/X的比值为介于4至6之间。

请再参考图2至图3，在本实施例中，阵列基板100与对向基板200相对设置，显示介质层300配置于阵列基板100与对向基板200之间。更详细而言，第一配向膜240配置于共通电极CE之上，第二配向膜140配置于像素单元PU之上，而显示介质层300是配置于第一配向膜240与第二配向膜140之间。阵列基板100的第一传输垫电性PAD1与对向基板200的第二传输垫PAD2彼此电连接。另外，在本实施例中，第一基板110的周边区112内更包含一金属转接垫120，金属转接垫120通过绝缘层130内的接触窗132与第一传输垫电性PAD1电连接：金属转接垫120在本实施例中例如可以与像素单元中的共通线电连接，藉此，共通电极CE与第二传输垫PAD2可以电连接于第一传输垫电性PAD1、金属转接垫120以及共通线，以提供一定电位。

此外，在本实施例中，一导电元件400配置于阵列基板100与对向基板200之间，并且环绕显示介质层300。第一传输垫电性PAD1通过导电框胶400与第二传输垫PAD2电连接。在本实施例中，导电元件400例如是由绝缘胶材410与掺杂于绝缘胶材410中的导电粒子420所构成，导电粒子420是随机地分散于绝缘胶材410中，其中绝缘胶材410的材质例如为树脂，而导电粒子420例如为金球(Au balls)。由于导电粒子420是事先掺杂于绝缘胶材420中，故在导电框胶420涂布之后，第一传输垫电性PAD1与第二传输垫PAD2电连接。

在本实施例中，第一配向膜240与第二配向膜140可以一喷墨印刷(inkjet)工艺技术制作而成。第二配向膜140的制作方法例如为在形成有像素单元PU与第一传输垫电性PAD1等元件的第一基板110上喷涂一配向材料溶液，然后进行一固化工艺，以使配向材料溶液固化成第二配向膜140。同样地，第一配向膜240的制作方法例如为在形成有遮光层220与第二传输垫电性PAD2等元件的的第二基板210上喷涂一配向材料溶液，然后进行一固化工艺，以使配向材料溶液固化成第一配向膜240。前述的固化工艺例如为热固化工艺、紫外线固化工艺或是其他适当的固化工艺。值得说明的是，本实施例中的显示面板的对向基板，其遮光层220的单元遮光部222具有多个狭缝224，因此利用喷墨印刷工艺在对向基板的第二基板上喷涂一配向材料溶液时，邻近单元遮光部222的第二传输垫PAD2可以避免被配向材料溶液所覆盖，而且可以同时满足对向基板的显示区覆盖满配向材料。本发明实施利的第一配向膜240与第二配向膜140不限于一喷墨印刷(inkjet)技术制成，本实施例的第一配向膜240也可以涂布技术制作形成于共通电极CE之上以及第二配向膜140也可以涂布技术制作形成于像素单元PU之上。

在本实施例中，并不限定显示面板10的型态，其中随着显示介质层300的不同，显示面板10具有不同的作用机制。举例而言，显示介质层300可为液晶材料或是其他同样具有配向需求的材料。当显示介质层300为液晶材料时，则显示面板100称为液晶显示面板。举例而言，液晶显示面板可以是垂直电场型液晶显示面板，例如为垂直配向(VA)型液晶显示面板，液晶显示面板也可以是水平电场型液晶显示面板，例如为平面切换型(IPS)液晶显示面板或边缘电场切换型(FFS)液晶显示面板。当然，本领域技术人员应能理解本实施例的设计概念仍可被合理地应用于其他类型的显示面板中。

此外，在本实施例中，阵列基板100例如是薄膜晶体管阵列基板。在其它实施例中，阵列基板100也可以进一步包含彩色滤光层(未绘示)于平坦层PL与像素电极PE之间，也就是整合彩色滤光层于阵列基板100中的COA(Color Filter on Array)基板。

承上所述，在本实施例的显示面板中，由于遮光层的单元遮光部具有狭缝的设计，单元遮光部内部可以形成一彼此连通的容置空间，当配向材料溶液喷涂邻近第二传输垫的单元遮光部时，配向材料溶液便可通过狭缝而流通于单元遮光部内部的空间，并且均匀地分布于单元遮光部内部的空间内，以对于喷墨印刷工艺的精度控制具有较大的容许度。藉此，可以避免第一配向膜覆盖住第二传输垫，使得阵列基板的第一传输垫与对向基板的第二传输垫可以保持良好的电连接。

再者，由于遮光层的单元遮光部具有狭缝的设计，第二基板邻近周边区的显示区可以确保配向膜完整覆盖，使得第二基板邻近周边区的显示区能提供有效的配向，避免显示介质层分子(例如：液晶分子)排列异常导致漏光的疑虑，可以提升显示品质

根据本发明第一实施例的显示面板10，其第二传输垫PAD2以及单元遮光部222为配置于一边界212S1。然而，第二传输垫PAD2可以随着设计需求而有所不同，举例而言，如图7所示，在一变化实施例中，对向基板200A的第二传输垫PAD2可以配置于边界212S1、边界212S2、边界212S3以及边界212S4的周边区214，而单元遮光部222相对于第二传输垫PAD2对应设置于紧邻边界212S1、边界212S2、边界212S3以及边界212S4的显示区212。对向基板200A的四个第二传输垫PAD2与阵列基板100的四个第一传输垫PAD1电连接。

图8为本发明第二实施例的显示面板的对向基板的上视示意图。图9A为沿图8的剖面线D-D’绘示的对向基板的局部剖面图。图9B为沿图8的剖面线E-E’绘示的对向基板的局部剖面图。图8的对向基板200B与图4的对向基板200类似，因此相同或相对应的元件以相同或相对应的标号表示。二者的差异在于：对向基板200B的第二传输垫PAD2以及单元遮光部222设置的位置与对向基板200的第二传输垫PAD2以及单元遮光部222设置的位置不同。以下就二者相异处做说明，二者相同处可依照图8中的标号对应地参照上述对图4的说明，于此便不再对重复部分进行赘述。

在对向基板200B中，第二传输垫PAD2设置在第二基板210的周边区214的一角落区域214C1，而单元遮光部222位于第二基板210的显示区212的至少一角落区域212C1。对向基板B的第二传输垫PAD2与阵列基板100的第一传输垫PAD1电连接。在一实施例中，第二传输垫PAD2可以配置于遮光框体230的至少一角落区域214C1上，而单元遮光部222配置于遮光框体230的内侧的至少一角落区域212C1。换言之，第二传输垫PAD2与单元遮光部222不设置在显示区212的边界212S，如此一来，单元遮光部222的狭缝224位于角落区域212C1，可以提升显示区的对比，让使用者观看到更佳的显示效果。

更进一步说明的是，在本实施例中，第二传输垫PAD2配置于一角落区域214C1以及单元遮光部222为配置于一角落区域212C1。然而，第二传输垫PAD2可以随着设计需求而有所不同，举例而言，如图10所示，在一变化实施例中，对向基板200C的第二传输垫PAD2可以配置于角落区域214C1、角落区域214C2、角落区域214C3以及角落区域214C4，而单元遮光部222相对于第二传输垫PAD2可以对应设置于角落区域212C1、角落区域212C2、角落区域212C3以及角落区域212C4。对向基板200C的四个第二传输垫PAD2与阵列基板100的四个第一传输垫PAD1电连接。

另外，在其他变化实施例中，第二传输垫PAD2可以既配置于四个边界212S1、边界212S2、边界212S3以及边界212S4的周边区214，也配置于四个角落区域214C1、角落区域214C2、角落区域214C3以及角落区域214C4，而单元遮光部222也对应配置于四个边界212S1、边界212S2、边界212S3以及边界212S4的显示区212以及四个角落区域212C1、角落区域212C2、角落区域212C3以及角落区域212C4，藉此，可以提供显示面板，特别是中大尺寸的显示面板，更均匀化的电位。

综上所述，在本发明实施例的显示面板的对向基板中，遮光层具有一单元遮光部，而单元遮光部具有多个狭缝。因此，可以避免第一配向膜覆盖住第二传输垫，而且第二基板邻近周边区的显示区可以确保配向膜覆盖完整。如此一来，阵列基板的第一传输垫与对向基板的第二传输垫可以保持良好的电连接，第二基板邻近周边区的显示区也能提供有效的配向，避免显示介质层分子排列异常导致漏光的疑虑，可以提供较佳的显示品质。

虽然本发明的实施例及其优点已揭露如上，但应该了解的是，任何所属技术领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作更动、替代与润饰。此外，本发明的保护范围并未局限于说明书内所述特定实施例中的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，任何所属技术领域技术人员可从本发明揭示内容中理解现行或未来所发展出的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，只要可以在此处所述实施例中实施大抵相同功能或获得大抵相同结果皆可根据本发明使用。因此，本发明的保护范围包括上述工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤。另外，每一权利要求构成各自的实施例，且本发明的保护范围也包括各个权利要求及实施例的组合。