掩模板、薄膜晶体管的制造方法和薄膜晶体管与流程

文档序号:11385581阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开一种SSM掩模板,用于制作薄膜晶体管,该掩模板包括第一图案和第二图案,第一图案包括两个侧壁和分别连接两个侧壁的第一端的连接部,以使两个侧壁和连接部形成一端开口另一端封闭的图案;第二图案位于第一图案形成的半包围结构中以在第一图案和第二图案之间形成狭缝;第一图案还包括延长部分,延长部分位于连接部的远离侧壁的一侧。本发明还公开一种薄膜晶体管的制造方法,包括形成导电材料层和位于所述导电材料层上方的光刻胶层;形成图案化的光刻胶层,该图案化的光刻胶层包括对应于上述掩模板的第一图案和第二图案;对光刻胶层进行热烘,使延长部分的光刻胶流动至第一图案的底部;利用图案化的光刻胶层形成图案化的导电材料层。

技术研发人员:姜涛;宋博韬;韩领;唐新阳
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
技术研发日:2017.05.09
技术公布日:2017.09.05
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