1.一种光场调控光刻中的涡旋光剪切干涉调焦方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：
(1)、写入光束(6)和涡旋光束(4)经合束器(5)合束后，依次经分束器(3)和物镜(2)，入射到基片(1)。
(2)、涡旋光束(4)经基片(1)反射后，经物镜(2)透射，分束器(3)反射，入射到光学平行平板(8)上，并在其表面产生剪切干涉，然后在面阵探测器(7)上形成干涉图案。
(3)、若干涉图案呈现成对的分叉条纹且左支分叉开口向上、右支分叉开口向下时，减小基片(1)和物镜(2)之间的距离；若干涉图案呈现成对的分叉条纹且左支分叉开口向下、右支分叉开口向上时，增大基片(1)和物镜(2)之间的距离；若干涉图案呈现完全对称的双月形图案，表明基片(1)的表面位于物镜(2)的焦点处，实现光场调控光刻中的涡旋光剪切干涉调焦。