光刻机匹配方法与流程

技术总结
一种光刻机匹配方法，以三维空间像关键尺寸作为描述光刻机成像性能的参数，通过同步调谐光刻机的照明系统和投影物镜可调参数，利用阻尼最小二乘优化算法求解可调参数的值，实现光刻机快速匹配。本发明提高了现有方法的匹配精度，增大了工艺窗口，适用于具有自由照明系统的浸没式光刻机之间的匹配。 1

技术研发人员：李思坤;茅言杰;王向朝;杨朝兴
受保护的技术使用者：中国科学院上海光学精密机械研究所
技术研发日：2017.12.12
技术公布日：2018.06.15