一种基于多重防护结构的TAC偏光镜片的制作方法

本实用新型属于光学镜片技术领域，尤其涉及一种基于多重防护结构的TAC偏光镜片。

背景技术：

随着生活水平的提高，人们驾驶汽车、进行户外娱乐活动越来越多，然而出行通常需要面对强烈阳光的照射，这样会直接刺激眼睛，使眼睛感到眩目、疲劳、不能持久视物，不仅会影响我们的娱乐情绪，甚至影响我们对物象的判断力而造成危险；长期经受阳光的直接照射，还会导致视力的极速下降，形成近视、远视、散光、白内障等。

中国专利申请号为201320373538.8，发明创造的名称为一种TAC偏光镜片，属于光学镜片技术领域，包括上、下两层光学镜片，上、下两层光学镜片之间设置有一偏光膜片及一有色膜片，偏光膜片、有色膜片及上、下两层光学镜片之间通过粘合剂或胶粘剂粘连为一整体，偏光膜片是由TAC加强层、PVA偏光膜、TAC加强层粘合构成的复合膜片，有色膜片为TAC有色片。

现有的TAC偏光镜片存在着防护效果差，容易损坏和使用不方便的问题。

因此，发明一种基于多重防护结构的TAC偏光镜片显得非常必要。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种基于多重防护结构的TAC偏光镜片，以解决现有的TAC偏光镜片存在的防护效果差，容易损坏和使用不方便的问题，一种基于多重防护结构的TAC偏光镜片，包括上光学镜片，防护层结构，偏光膜，涂色层结构和耐磨层，所述的防护层结构上部与上光学镜片粘接，下部与偏光膜粘接；所述的涂色层结构上部与偏光膜粘接，下部与耐磨层粘接；所述的防护层结构包括防腐蚀层，防静电层和防辐射层，所述的防静电层粘接在防腐蚀层与防辐射层的中间位置。

本实用新型还可以采用如下技术措施。

所述的涂色层结构包括白普层，色膜层和下光学镜片，所述的色膜层粘接在白普层与下光学镜片的中间位置。

所述的防腐蚀层呈弧形片状，所述的防腐蚀层采用无镀膜树脂镜片层，有利于提高防腐蚀性，不易损坏。

所述的防静电层呈弧形片状，所述的防静电层采用PC双面透光镜片层，有利于提高防静电效果，且透明度高方便观察。

所述的防辐射层呈弧形片状，所述的防辐射层采用电镀膜层，有利于减少辐射对使用者眼睛造成的伤害，使用更方便。

所述的耐磨层呈弧形片状，所述的耐磨层采用GSB透明耐磨镜片，有利于提高耐磨性，使得防护效果更佳。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型具有的优点和积极效果是：本实用新型通过防腐蚀层的设置，有利于提高防腐蚀性，不易损坏，通过防静电层的设置，有利于提高防静电效果，且透明度高方便观察，通过防辐射层的设置，有利于减少辐射对使用者眼睛造成的伤害，使用更方便，通过防静电层、防腐蚀层、防辐射层和耐磨层的配合设置，有利于提高对偏光镜片的防护效果。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的防护层结构的结构示意图。

图3是本实用新型的涂色层结构的结构示意图。

图中：

1-上光学镜片；2-防护层结构；21-防腐蚀层；22-防静电层；23-防辐射层；3-偏光膜；4-涂色层结构；41-白普层；42-色膜层；43-下光学镜片；5-耐磨层。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步描述：

实施例：

如图1至图3所示

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种基于多重防护结构的TAC偏光镜片，包括上光学镜片1，防护层结构2，偏光膜3，涂色层结构4和耐磨层5，所述的防护层结构2上部与上光学镜片1粘接，下部与偏光膜3粘接；所述的涂色层结构4上部与偏光膜3粘接，下部与耐磨层5粘接；所述的防护层结构2包括防腐蚀层21，防静电层22和防辐射层23，所述的防静电层22粘接在防腐蚀层21与防辐射层23的中间位置。

本实用新型还可以采用如下技术措施。

所述的涂色层结构4包括白普层41，色膜层42和下光学镜片43，所述的色膜层42粘接在白普层41与下光学镜片43的中间位置。

所述的防腐蚀层21呈弧形片状，所述的防腐蚀层21采用无镀膜树脂镜片层，有利于提高防腐蚀性，不易损坏。

所述的防静电层22呈弧形片状，所述的防静电层22采用PC双面透光镜片层，有利于提高防静电效果，且透明度高方便观察。

所述的防辐射层23呈弧形片状，所述的防辐射层23采用电镀膜层，有利于减少辐射对使用者眼睛造成的伤害，使用更方便。

所述的耐磨层5呈弧形片状，所述的耐磨层5采用GSB透明耐磨镜片，有利于提高耐磨性，使得防护效果更佳。

工作原理

本实用新型在工作过程中，通过防腐蚀层21的设置可防止偏光镜片腐蚀损坏，通过防静电层22的设置，可提高防静电效果，且透明度高方便观察，通过防辐射层23的设置，有利于能够减少辐射对使用者眼睛造成的伤害，通过防静电层22、防腐蚀层21、防辐射层23和耐磨层5的配合设置，有利于提高对偏光镜片的防护效果。

利用本实用新型所述的技术方案，或本领域的技术人员在本实用新型技术方案的启发下，设计出类似的技术方案，而达到上述技术效果的，均是落入本实用新型的保护范围。