一种液晶显示面板、彩膜基板及显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，尤指一种液晶显示面板、彩膜基板及显示装置。

背景技术：

液晶显示面板(LCD，Liquid Crystal Display)，一般由彩膜基板和阵列基板对盒而成，且液晶分子层夹在彩膜基板和阵列基板之间，为了保证液晶分子层的厚度的均一性，通常需要设置支撑用的隔垫物。

由于设置隔垫物的技术的缺陷性，提出了聚合物墙技术。具体原理为：如图1a所示，在阵列基板1与彩膜基板2对盒后，采用紫外光对阵列基板1与彩膜基板2之间的液晶聚合物3进行照射，如图1b所示，液晶聚合物3在被紫外光照射到的区域形成聚合物墙4。

但是，在现有的液晶显示面板中，由于在彩膜基板2的相邻光阻层5之间上设置有黑矩阵6，因此为了能够被紫外光照射到，聚合物墙4只能形成在光阻层5对应的区域，从而降低液晶显示面板的开口率。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型实施例提供一种液晶显示面板、彩膜基板及显示装置，用以提高液晶显示面板的像素开口率。

本实用新型实施例提供的一种液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板和对向基板，位于所述阵列基板与所述对向基板之间的液晶层，位于所述对向基板面向所述液晶层一侧的黑矩阵，位于所述对向基板背离所述液晶层一侧的第一偏光片，位于所述阵列基板与所述对向基板之间用于支撑所述液晶层厚度的多个聚合物墙；

至少部分所述黑矩阵为线偏光结构，且所述线偏光结构的透光轴与所述第一偏光片的透光轴垂直；

所述线偏光结构在所述阵列基板的正投影覆盖所述聚合物墙在所述阵列基板的正投影。

较佳地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，所有所述黑矩阵均为线偏光结构。

在其中一种实施方式中，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，所述线偏光结构为间隔设置的多个遮光条组成的线栅型偏振结构；

所述遮光条的延伸方向平行于所述第一偏光片的透光轴。

较佳地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，所述遮光条的材料为金属。

较佳地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，所述遮光条的宽度为30～100nm，所述遮光条的厚度为50～200nm，相邻所述遮光条之间的间隙宽度为30～100nm。

较佳地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，所有所述黑矩阵的材质相同。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，还包括位于所述阵列基板背离所述液晶层一侧的第二偏光片；

所述第一偏光片的透光轴与所述第二偏光片的透光轴垂直。

在具体实施时，为了实现彩色显示，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，还包括位于所述对向基板面向所述液晶层一侧的光阻层；或

位于所述阵列基板面向所述液晶层一侧的光阻层。

相应地，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括本实用新型实施例提供的任一种液晶显示面板。

相应地，本实用新型实施例还提供了一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的若干光阻层，位于相邻光阻层之间的黑矩阵；至少部分所述黑矩阵为线偏光结构。

具体地，在本实用新型实施例提供的彩膜基板中，所述线偏光结构为由间隔设置的多个遮光条组成的线栅型偏振结构。

实用新型本实用新型有益效果如下：

本实用新型实施例提供的液晶显示面板、彩膜基板及显示装置，至少部分黑矩阵为线偏光结构，而线偏光结构是可以使部分光透过的，因此液晶显示面板的聚合物墙可以形成在线偏光结构下方，即由线偏光结构在阵列基板的正投影覆盖聚合物墙在阵列基板的正投影。这样聚合物墙不会占用液晶显示面板的像素区域，从而与现有的液晶显示面板相比，可以提高像素开口率。另外，虽然线偏光结构可以使光透过，但是由于线偏光结构的透光轴与后期形成的第一偏光片的透光轴垂直，这样利用第一偏光片和线偏光结构结合，可以阻挡全部的光，从而实现黑矩阵在显示时起的遮光作用。

附图说明

图1a为现有的液晶显示面板在形成聚合物墙之前的结构示意图；

图1b为现有的液晶显示面板在形成聚合物墙之后的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的液晶显示面板的结构示意图之一；

图3为本实用新型实施例提供的液晶显示面板的结构示意图之二；

图4为本实用新型实施例提供的液晶显示面板的结构示意图之三；

图5为本实用新型实施例提供的液晶显示面板中线偏光结构与第一偏光片的结构示意图；

图6为本实用新型实施例提供的彩膜基板的结构示意图；

图7为本实用新型实施例提供的液晶显示面板的制备方法的流程图；

图8a至图8d分别为本实用新型实施例提供的液晶显示面板的制备方法在执行各步骤后对应的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本实用新型内容。

本实用新型实施例提供的一种液晶显示面板，如图2所示，包括相对设置的阵列基板01和对向基板02，位于阵列基板01与对向基板02之间的液晶层03，位于对向基板02面向液晶层03一侧的黑矩阵04，位于对向基板02背离液晶层03一侧的第一偏光片05，位于阵列基板01与对向基板02之间用于支撑液晶层厚度的多个聚合物墙06；其中，

至少部分黑矩阵04为线偏光结构041，且线偏光结构041的透光轴与第一偏光片05的透光轴垂直；

线偏光结构041在阵列基板01的正投影覆盖聚合物墙06在阵列基板01的正投影。

本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，至少部分黑矩阵为线偏光结构，而线偏光结构是可以使部分光透过的，因此液晶显示面板的聚合物墙可以形成在线偏光结构下方，即线偏光结构在阵列基板的正投影覆盖聚合物墙在阵列基板的正投影。这样聚合物墙不会占用液晶显示面板的像素区域，从而与现有的液晶显示面板相比，可以提高像素开口率。另外，虽然线偏光结构可以使光透过，但是由于线偏光结构的透光轴与后期形成的第一偏光片的透光轴垂直，这样利用第一偏光片和线偏光结构结合，可以阻挡全部的光，从而实现黑矩阵在显示时起的遮光作用。

在具体实施时，在液晶显示面板中，一般聚合物墙的分布密度是小于黑矩阵的分布密度的，因此聚合物墙只需要设置在部分黑矩阵的下方。

具体地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，如图2所示，还包括位于对向基板02面向液晶层03一侧的光阻层07。

当然，在具体实施时，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，光阻层也可以位于阵列基板面向液晶层一侧，在此不作限定。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，如图2所示，黑矩阵04设置在相邻光阻层07之间。

具体地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，由于制作线偏光结构的工艺成本较高，因此，如图2所示，可以仅将需要在下方设置聚合物墙06的黑矩阵04设置为线偏光结构041。

或者，在具体实施时，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，如图3所示，所有黑矩阵04均为线偏光结构041。这样在液晶显示面板中形成聚合物墙06时，可以在任意黑矩阵04下方形成。

具体地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，如图2和图3所示，还包括位于阵列基板01背离液晶层03一侧的第二偏光片08；

第一偏光片05的透光轴与第二偏光片08的透光轴垂直。

具体地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，如图4所示，还包括位于对向基板02面向液晶层03一侧且覆盖光阻层07和黑矩阵04的保护层09，保护层09还可以起平坦化的作用。

具体地，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，如图5所示，线偏光结构041为由间隔设置的多个遮光条001组成的线栅型偏振结构；

遮光条001的延伸方向平行于第一偏光片05的透光轴S。

具体地，线栅型偏振结构中，遮光条的延伸方向与线栅型偏振结构的透光轴垂直，因此为了使线栅型偏振结构透光轴与第一偏光片的透光轴垂直，遮光条的延伸方向平行于第一偏光片的透光轴。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，为了实现线偏光的作用，遮光条的宽度为30～100nm，遮光条的厚度为50～200nm，相邻遮光条之间的间隙宽度为30～100nm。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，由于线栅型偏振结构中，遮光条的宽度以及遮光条之间的间隙宽度均比较小，从工艺上容易实现的角度考虑，遮光条的材料为金属为佳。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的液晶显示面板中，所有黑矩阵的材质相同，这样所有黑矩阵可以通过一次构图工艺形成，从而减少制作工艺，降低成本。

具体地，本实用新型实施例提供的液晶显示面板，对向基板与阵列基板可以均为柔性基板，在此不作限定。

基于同一实用新型构思，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括本实用新型实施例提供的任一种液晶显示面板。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施例，重复之处不再赘述。

基于同一实用新型构思，本实用新型实施例还提供了一种彩膜基板，如图6所示，包括衬底基板021，位于衬底基板021上的若干光阻层07，位于相邻光阻层07之间的黑矩阵04；

至少部分黑矩阵04为线偏光结构041。

这样当该彩膜基板应用于液晶显示面板时，由于线偏光结构是透光的，因此可以在线偏光结构下方形成聚合物墙。这样聚合物墙不会占用液晶显示面板的像素区域，从而与现有的液晶显示面板相比，可以提高像素开口率。另外，虽然线偏光结构可以使光透过，但是只要使线偏光结构的透光轴与后期形成在彩膜基板上的偏光片的透光轴垂直，这样利用偏光片和线偏光结构结合，可以阻挡全部的光，从而实现黑矩阵在显示时起的遮光作用。

具体地，在本实用新型实施例提供的彩膜基板中，线偏光结构为由间隔设置的多个遮光条组成的线栅型偏振结构。线栅型偏振结构的具体实施方法可以参见上述液晶显示面板，在此不再赘述。

基于同一实用新型构思，本实用新型实施例还提供了一种液晶显示面板的制备方法，如图7所示，包括：

S701、提供阵列基板01和对向基板02；其中对向基板02上设置有黑矩阵04，且至少部分黑矩阵04为线偏光结构041，如图8a所示；

S702、对盒阵列基板01和对向基板02，并在阵列基板01和对向基板02之间设置液晶聚合物30以形成面板，如图8a所示；

S703、采用掩膜板40从对向基板02一侧对面板进行紫外光照射，液晶聚合物30在与掩膜板40的透光区域401对应的区域形成聚合物墙06；其中掩膜板40的透光区域401对应线偏光结构041所在的区域，如图8b所示；

S704、在对向基板02背离阵列基板01一侧形成第一偏光片05，且线偏光结构041的透光轴与第一偏光片05的透光轴垂直,如图8c所示。

具体地，在本实用新型实施例提供的制备方法中，在步骤S704之后，如图7所示，还包括S705、在阵列基板01背离对向基板02一侧形成第二偏光片08，其中第二偏光片08的透光轴与第一偏光片05的透光轴垂直，如图8d所示。

在具体实施时，可以先形成第一偏光片再形成第二偏光片，当然也可以先形成第二偏光片再形成第一偏光片，在此不作限定。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的制备方法中，对阵列基板和对向基板的形成顺序不作具体限定，可以是先形成阵列基板后形成对向基板，也可以先形成对向基板后形成阵列基板，或者两者同时形成。

进一步地，在本实用新型实施例提供的制备方法中，液晶聚合物可以在对向基板和阵列基板对盒后进行灌注，当然也可以在对向基板和阵列基板对盒之前先滴注在其中一个基板上，在此不作限定。

本实用新型实施例提供的上述液晶显示面板、彩膜基板及显示装置，至少部分黑矩阵为线偏光结构，而线偏光结构是可以使部分光透过的，因此液晶显示面板的聚合物墙可以形成在线偏光结构下方，即线偏光结构在阵列基板的正投影覆盖聚合物墙在阵列基板的正投影。这样聚合物墙不会占用液晶显示面板的像素区域，从而与现有的液晶显示面板相比，可以提高像素开口率。另外，虽然线偏光结构可以使光透过，但是由于线偏光结构的透光轴与后期形成的第一偏光片的透光轴垂直，这样利用第一偏光片和线偏光结构结合，可以阻挡全部的光，从而实现黑矩阵在显示时起的遮光作用。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。