一种彩膜基板、显示面板和显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板、显示面板和显示装置。

背景技术：

近年来，R角设计已成为显示领域的主流产品设计方案，例如三星S8等产品，现有的R角设计主要是通过BM遮挡Pixel开口大小的不同使透过率产生差异，从而实现灰阶过渡，如图1所示，但该技术致使R/G/B sub pixel之间距离增大，在R角灰阶过渡处在宏观视觉上容易出现亮暗点以及锯齿等不良，显示效果变差。

技术实现要素：

鉴于上述问题，本申请实施例提供了一种彩膜基板、显示面板和显示装置，以更好的实现灰阶过渡，避免出现亮暗点以及锯齿等不良。

为了解决上述问题，本申请实施例公开了一种彩膜基板，所述彩膜基板划分为主显示区域和边缘显示区域，所述边缘显示区域的彩膜基板包括：

基板，以及设置在所述基板上的黑色矩阵和遮光层；其中，所述黑色矩阵具有多个开口区域；所述遮光层在所述基板上的正投影与所述开口区域在所述基板上的正投影重叠；且所述遮光层的厚度，沿所述主显示区域至所述边缘显示区域的方向，逐渐变厚；

设置在所述黑色矩阵和所述遮光层上的色阻层，所述色阻层在所述基板上的正投影覆盖所述遮光层在所述基板上的正投影。

优选地，所述边缘显示区域的边界为弧形。

优选地，所述遮光层的厚度小于黑色矩阵的厚度。

优选地，所述遮光层的光密度OD值小于4.0/μm。

优选地，所述遮光层与所述黑色矩阵的材料相同。

优选地，所述遮光层的材料为光阻树脂类材料。

为了解决上述问题，本申请实施例还公开了一种显示面板，包括上述任一项所述的彩膜基板。

为了解决上述问题，本申请实施例还公开了一种显示装置，包括上述任一项所述的显示面板。

与现有技术相比，本申请实施例包括以下优点：

本申请提供了一种彩膜基板，该彩膜基板具有主显示区域和边缘显示区域，其中边缘显示区域的彩膜基板包括基板，设置在基板上的黑色矩阵，设置在黑色矩阵开口区域的遮光层，以及设置在黑色矩阵和遮光层上的色阻层；通过在开口区域设置遮光层，且所述遮光层的厚度，沿所述主显示区域至所述边缘显示区域的方向，逐渐变厚，实现对光透过率的控制，从而更好的实现灰阶过渡，避免出现亮暗点以及锯齿等不良。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术中一种彩膜基板边缘的平面结构示意图；

图2是本申请一实施例提供的一种彩膜基板边缘显示区域的剖面结构示意图；

图3是本申请一实施例提供的一种彩膜基板边缘显示区域的平面结构示意图；

图4是本申请一实施例提供的一种彩膜基板边缘显示区域的制备方法流程图；

附图标记说明：

10-基板；11-黑色矩阵；12-遮光层；13-开口区域；14-色阻层。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本申请的一个实施例中提供了一种彩膜基板，该彩膜基板可以划分为主显示区域和边缘显示区域，参照图2，示出了一种彩膜基板边缘显示区域的剖面结构示意图，该边缘显示区域的彩膜基板可以包括基板10，以及设置在基板10上的黑色矩阵11和遮光层12；其中，黑色矩阵11具有多个开口区域13；遮光层12在基板10上的正投影与开口区域13在基板10上的正投影重叠；且遮光层12的厚度，沿主显示区域至边缘显示区域的方向，逐渐变厚；设置在黑色矩阵11和遮光层12上的色阻层14，色阻层14在基板10上的正投影覆盖遮光层12在基板10上的正投影。

具体的，图2中所示的边缘显示区域的右侧可以是主显示区域(未示出)，左侧可以是非显示区域，图中箭头所示方向即上述沿主显示区域至边缘显示区域的方向。边缘显示区域一般设置在显示面板的四角，位于显示区域和非显示区域的交界处，归属于显示区域，其边界一般为弧形，有时呈C型，参照图3，示出了一种彩膜基板边缘显示区域的平面结构示意图。边缘显示区域的尺寸范围可以根据实际应用中显示面板的尺寸或显示效果等确定，本申请不作具体限定。

遮光层的厚度一般要求小于黑色矩阵的厚度，例如，当黑色矩阵的厚度为1.15μm时，遮光层的厚度小于1.15μm。具体的遮光层厚度可以根据以下关系式计算，如黑色矩阵的遮光性能一般用公式OD＝-Log(Iout/Iin)，其中Iout是出射光强度，Iin是入射光强度，其中OD是一个无量纲的量，指的是optical density光密度，其数值越大，遮光性越强；黑色矩阵的OD值一般在4.0/μm以上，则遮光层的OD值可以小于4.0/μm。在实际应用中，遮光层厚度还可以结合模拟实验的结果来具体确定。

遮光层的材料可以与黑色矩阵的材料相同，例如可以是光阻树脂类材料，其成分为混合物，主要有溶剂、颜料、分散剂、单体、聚合体、光引发剂等。在实际应用中，遮光层可以与黑色矩阵同步形成。

本实施例提供了一种彩膜基板，该彩膜基板具有主显示区域和边缘显示区域，边缘显示区域的彩膜基板包括基板，设置在基板上的黑色矩阵，设置在黑色矩阵开口区域的遮光层，以及设置在黑色矩阵和遮光层上的色阻层；通过在开口区域设置遮光层，且所述遮光层的厚度，沿所述主显示区域至所述边缘显示区域的方向，逐渐变厚，实现对光透过率的控制，从而更好的实现灰阶过渡，避免出现亮暗点以及锯齿等不良。

在本申请的另一实施例中，提供了一种上述边缘显示区域的彩膜基板的制备方法，参照图4，该制备方法可以包括：

步骤401：提供基板10。

步骤402：在基板10上形成黑色矩阵11和遮光层12，其中，黑色矩阵11具有多个开口区域13；遮光层12在基板10上的正投影与开口区域13在基板10上的正投影重叠；且遮光层12的厚度，沿主显示区域至边缘显示区域的方向，逐渐变厚。

步骤403：在黑色矩阵11和遮光层12上形成色阻层14，色阻层14在基板10上的正投影覆盖遮光层12在基板10上的正投影。

具体的，可以首先在基板上沉积黑色矩阵材料，然后再通过构图工艺在基板10上形成黑色矩阵11和遮光层12；其中构图工艺可以使用HalftoneMask掩膜版，以对不同位置的黑色矩阵材料进行不同程度的遮挡或者曝光，再进行显影，从而同时形成黑色矩阵和厚度渐变的遮光层，通过设置厚度渐变的遮光层来控制进光量的大小，从而满足实际应用中灰阶过渡的需求，并且可以避免亮暗点以及锯齿等不良。色阻层的形成方式有多种，本申请不作具体限定。

在本申请的另一个实施例中提供了一种显示面板，该显示面板包括上述实施例中任一项所述的彩膜基板。

在本申请的另一个实施例中提供了一种显示装置，该显示装置包括上述任一项所述的显示面板。

本实施例提供了一种彩膜基板、显示面板和显示装置，该彩膜基板具有主显示区域和边缘显示区域，边缘显示区域的彩膜基板包括基板，设置在基板上的黑色矩阵，设置在黑色矩阵开口区域的遮光层，以及设置在黑色矩阵和遮光层上的色阻层；通过在开口区域设置遮光层，且所述遮光层的厚度，沿所述主显示区域至所述边缘显示区域的方向，逐渐变厚，实现对光透过率的控制，从而更好的实现灰阶过渡，避免出现亮暗点以及锯齿等不良。

尽管已描述了本申请实施例的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本申请实施例范围的所有变更和修改。

最后，还需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。