背光单元、全息显示装置及制造输入耦合器的方法与流程

本公开的示例实施方式涉及包括输入耦合器的背光单元、包括该背光单元的全息显示装置以及制造该输入耦合器的方法，更具体地，涉及通过使用具有倾斜光栅结构的输入耦合器而抑制照明光的条纹图案的背光单元、包括该背光单元的全息显示装置以及制造具有倾斜光栅结构的输入耦合器的方法。

背景技术：

眼镜型方法和无眼镜型方法作为形成三维(3d)图像的方法被广泛使用。眼镜型方法的示例包括偏振眼镜型方法和快门眼镜型方法，无眼镜型方法的示例包括柱状透镜方法和视差屏障方法。利用双目视差的这样的方法具有以下问题：由于大脑所感知到的深度与眼睛的焦点之间的差异，难以增加视点数量并且观看者会感到疲劳。

作为使大脑所感知到的深度与眼睛的焦点一致并提供全视差的3d图像显示方法，全息显示方已经逐渐在实践中使用。全息显示方法通过以下方式再现原始对象的图像：将参考光照射到其上记录了通过从原始对象反射的物光与参考光之间的干涉而获得的干涉图案的全息图案上并衍射该参考光。近来，使用导光板的背光单元已用于减小全息显示装置中的光学系统的体积。

技术实现要素：

一个或更多个示例实施方式提供了通过使用具有倾斜的光栅结构的输入耦合器而抑制照明光的条纹图案的背光单元。

一个或更多个示例实施方式还提供了包括该背光单元的全息显示装置。

一个或更多个示例实施方式还提供了制造具有倾斜的光栅结构的输入耦合器的方法。

根据一示例实施方式的一方面，提供了一种背光单元，其包括：光源，配置为产生光；导光板，包括光入射面和光发射面，由光源产生的光入射在光入射面上，并且入射在导光板的光入射面上的光通过光发射面被发射；输入耦合器，配置为使入射在导光板的光入射面上的光行进到导光板中；以及输出耦合器，配置为使在导光板中行进的光通过导光板的光发射面向外发射，其中输入耦合器包括其中多个屏障(barrier)以恒定的光栅周期彼此平行布置的二元光栅结构，并且所述多个屏障自垂直地入射在导光板的光入射面上的光的方向倾斜。

输入耦合器还可以被配置为使垂直地入射在输入耦合器上的光被衍射并相对于输入耦合器倾斜地行进、以及使倾斜地入射在输入耦合器上的光被衍射并在垂直于输入耦合器的方向上或者在与光在导光板中行进的方向相反的方向上行进。

导光板还可以包括第一表面和与第一表面相反的第二表面，输入耦合器可以被提供在导光板的第一表面的边缘部分上，并且还可以被配置为将入射在输入耦合器上的光衍射为倾斜地行进到导光板的第二表面。

所述光可以包括具有第一波长带的光和具有比第一波长带更短的第二波长带的光，其中输入耦合器的恒定的光栅周期可以被设定为使得，被输入耦合器衍射的具有第一波长带的光入射在导光板的第二表面上，被导光板的第二表面全反射，并且行进到导光板的第一表面并不再次入射于输入耦合器上。

输入耦合器的恒定的光栅周期可以被设定为使得，被输入耦合器衍射的具有第二波长带的光的一部分入射在导光板的第二表面上，被导光板的第二表面全反射，并且行进到导光板的第一表面并再次入射在输入耦合器上。

输出耦合器可以在导光板的第一表面上邻近于输入耦合器被提供。

输出耦合器可以被提供在导光板的第二表面上。

背光单元还可以包括准直透镜，准直透镜被配置为将从光源发射并入射在输入耦合器上的光准直成平行光。

背光单元还可以包括提供在输入耦合器上的反射层。

根据另一示例实施方式的一方面，提供了一种全息显示装置，其包括背光单元、以及配置为调制由背光单元提供的光并形成全息图像的空间光调制器，其中背光单元包括：光源，配置为产生光；导光板，包括光入射面和光发射面，由光源产生的光入射在光入射面上，并且入射光通过光发射面被发射；输入耦合器，配置为使入射在导光板的光入射面上的光行进到导光板中；以及输出耦合器，配置为使在导光板中行进的光通过导光板的光发射面向外发射，其中输入耦合器具有其中多个屏障以恒定的光栅周期彼此平行布置的二元光栅结构，并且所述多个屏障自垂直地入射在导光板的光入射面上的光的方向倾斜。

输入耦合器还可以被配置为使垂直地入射在输入耦合器上的光被衍射并相对于输入耦合器倾斜地行进、以及使倾斜地入射在输入耦合器上的光被衍射并在垂直于输入耦合器的方向上或者在与光在导光板中行进的方向相反的方向上行进。

导光板还可以包括第一表面和与第一表面相反的第二表面，输入耦合器可以位于导光板的第一表面的边缘部分上，并且还可以被配置为将入射在输入耦合器上的光衍射为倾斜地行进到导光板的第二表面。

所述光可以包括具有第一波长带的光和具有比第一波长带更短的第二波长带的光，其中输入耦合器的恒定的光栅周期可以被设定为使得，被输入耦合器衍射的具有第一波长带的光入射在导光板的第二表面上，被导光板的第二表面全反射，并且行进到导光板的第一表面并不再次入射于输入耦合器上。

输入耦合器的恒定的光栅周期可以被设定为使得，被输入耦合器衍射的具有第二波长带的光的一部分入射在导光板的第二表面上，被导光板的第二表面全反射，并且行进到导光板的第一表面并再次入射于输入耦合器上。

输出耦合器可以在导光板的第一表面上邻近于输入耦合器被提供。

背光单元还可以包括提供在输入耦合器上的反射层。

根据另一示例实施方式的一方面，提供了一种制造输入耦合器的方法，该方法包括准备彼此平行并垂直地提供在第一基板上的多个弹性屏障、将所述多个弹性屏障暂时粘附到第二基板、在提供于第一基板与第二基板之间的所述多个弹性屏障之间填充热固性的或可光固化的树脂、通过使第一基板和第二基板相对于彼此移位而倾斜所述多个弹性屏障、通过经由向热固性的或可光固化的树脂施加热或光固化该热固性的或可光固化的树脂而形成树脂层、通过去除第一基板和所述多个弹性屏障而制造包括第二基板和树脂层的主模、以及通过使用该主模而复制输入耦合器，其中输入耦合器包括其中多个倾斜屏障以恒定的光栅周期彼此平行布置的二元光栅结构。

所述多个弹性屏障临时粘附到第二基板可以包括对第二基板的表面执行氧(o2)等离子体表面处理、以及将所述多个弹性屏障粘附为与第二基板的o2等离子体表面处理后的表面接触。

所述多个弹性屏障的每个可以取向在第一方向上，并且第一基板和第二基板相对于彼此的移位包括在垂直于第一方向的第二方向上移动第一基板或第二基板。

第一基板和所述多个弹性屏障的去除可以包括将所述多个弹性屏障与第二基板分离。

形成在第二基板上的树脂层可以包括彼此平行的多个倾斜空腔。

附图说明

以上和/或另外的方面将由以下结合附图的对示例实施方式的描述变得明显并且更容易理解，附图中：

图1是示出根据一示例实施方式的全息显示装置的构造的剖视图；

图2是示出根据一示例实施方式的背光单元的构造的剖视图；

图3是示出根据一示例实施方式的输入耦合器的结构的剖视图；

图4是示出根据一示例实施方式的输入耦合器的结构的剖视图；

图5示出当红光入射在导光板上时光在输入耦合器和导光板中行进的一示例路径；

图6示出当绿光入射在导光板上时光在输入耦合器和导光板中行进的一示例路径；

图7示出倾斜地入射在输入耦合器上的光被衍射的一示例衍射方向；

图8、9、10和11是每个示出根据示例实施方式的背光单元的构造的剖视图；以及

图12a、12b、12c、12d、12e和12f是用于说明根据一示例实施方式的制造输入耦合器的工艺的透视图。

具体实施方式

现在将参照附图更全面地描述示例实施方式。在附图中相同的附图标记表示相同的元件，并且为了清楚和说明的方便，附图中元件的尺寸可能被夸大。此外，描述了示例实施方式，并且可以自示例实施方式进行各种各样的修改。

单数形式“一”和“该”旨在还包括复数形式，除非上下文清楚地另行指示。还将理解，当在本说明书中使用时，术语“包含”和/或“包括”指明所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或更多个另外的特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组的存在或添加。术语“和/或”包括多个相关所列举项目中的任何组合或者多个相关所列举项目中的任何项目。当在一列元素之后时，诸如“……中的至少一个”的表述修饰整列元素，而不修饰该列中的个别元素。例如，表述“a、b和c中的至少一个”应被理解为包括仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、或a、b和c的全部。

当在层结构中第一元件“在”第二元件“上”或“之上”时，可以包括第一元件接触第二元件并直接位于第二元件顶部、底部、左侧或右侧的情况、以及第一元件不接触第二元件并位于第二元件顶部、底部、左侧或右侧且其间具有一个或更多个元件的情况。

图1是示出根据一示例实施方式的全息显示装置100的构造的剖视图。参照图1，根据一示例实施方式的全息显示装置100可以包括：背光单元110，配置为提供照明光；空间光调制器120，配置为形成用于通过调制从背光单元110入射的光而再现全息图像的全息图案；透镜130，配置为通过聚焦从空间光调制器120入射的光而在空间中形成全息图像；以及空间滤波器140，配置为仅让由透镜130聚焦的全息图像透过。

空间光调制器120可以根据施加自图像信号处理器的全息信号而形成用于衍射和调制入射光的全息图案。空间光调制器120可以是仅执行相位调制的相位调制器、仅执行振幅调制的振幅调制器、以及执行相位调制和振幅调制两者的复合调制器中的任何一个。尽管空间光调制器120在图1中是透射式空间光调制器，但是空间光调制器120可以是反射式空间光调制器。当空间光调制器120是透射式空间光调制器时，空间光调制器120的示例可以包括基于诸如镓砷化物(gaas)的化合物半导体的半导体调制器或液晶器件(lcd)。当空间光调制器120是反射式空间光调制器时，空间光调制器120的示例可以包括数字微镜器件(dmd)、硅上液晶(lcos)和半导体调制器。

因为空间光调制器120可以包括像素阵列，所以像素阵列可以用作像素光栅。因此，入射在空间光调制器120上的光可以通过空间光调制器120的包括像素阵列的像素光栅以及由空间光调制器120形成的全息图案而被衍射和干涉。此外，入射光的部分可以不被全息图案衍射并且可以直接透过空间光调制器120。结果，透镜130的在此聚焦了全息图像的焦平面上不仅可以出现全息图像而且可以出现点阵光斑(latticespot)。多个点阵光斑可作为降低全息图像质量的图像噪声，并且使得观看者看到全息图像是不舒服的。通常，为了防止或减少观看者看到多个点阵光斑，全息图像可以通过离轴方法再现，从而防止或减少全息图像与多个点阵光斑重叠。在离轴方法中，空间滤波器140位于透镜130的焦平面上，并且被配置为阻挡点阵光斑并仅让全息图像透过。因此，观看者可以仅看到全息图像。

背光单元110可以被配置为将相干的均匀照明光提供到空间光调制器120。为了减小或最小化背光单元110的光学系统的尺寸，背光单元110可以包括导光板。例如，图2是示出根据一示例实施方式的背光单元110的构造的剖视图。

参照图2，背光单元110可以包括：光源114，配置为产生照明光；导光板111，包括光入射面111a和光发射面111b，由光源114产生的照明光入射在光入射面111a上，并且照明光通过光发射面111b被发射；输入耦合器112，配置为使入射在导光板111的光入射面111a上的照明光行进到导光板111中；以及输出耦合器113，配置为使照明光通过导光板111的光发射面111b向外发射。此外，背光单元110还可以包括准直透镜115，准直透镜115被配置为将从光源114发射并入射在输入耦合器112上的照明光转换成平行光。然而，当光源114产生准直照明光时，准直透镜115可以被省略。

光源114可以是配置为发射相干光的相干光源。为了提供具有更高相干性的光，例如激光二极管(ld)可以用作光源114。然而，因为具有一些空间相干性的光可以由空间光调制器120充分地衍射和调制，所以例如发光二极管(led)也可以用作光源114，但示例实施方式不限于此，并且发射具有空间相干性的光的光源可以用作光源114。此外，尽管光源114被示为一个块，但是光源114可以包括点光源阵列。例如，光源114可以包括多个红光发射激光器、多个绿光发射激光器和多个蓝光发射激光器。

导光板111可以由透明玻璃或透明塑料形成。例如，聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)可以用作导光板111的材料。导光板111可以具有平坦的长方体形状以用作传输光的光波导。入射在导光板111的一端上的光可以通过全内反射被传输到相反端而没有光损失。

输入耦合器112可以被配置为使光被衍射并倾斜地行进到导光板111中。为了衍射光，输入耦合器112可以具有其中多个平行屏障以恒定的光栅周期布置的二元光栅结构。例如，垂直地入射在输入耦合器112上的光可以被输入耦合器112衍射，然后可以以大于临界角的角度在导光板111中倾斜地行进。该光可以被导光板111的顶表面和底表面重复地全反射，并且可以在导光板111中行进。

输出耦合器113可以被配置为使光被衍射并发射到导光板111的外部。为了衍射光，输出耦合器113可以具有其中多个平行屏障以恒定的光栅周期布置的二元光栅结构。例如，输出耦合器113可以使倾斜地入射在输出耦合器113上的光的部分被衍射并在垂直方向上或者在小于临界角的角度的方向上行进。以小于临界角的角度入射在导光板111的顶表面上的光发射面111b上的光可以穿过导光板111的光发射面111b而不被全反射。以该方式，在导光板111中行进的光可以经导光板111的光发射面111b由输出耦合器113均匀地发射到导光板111的外部。

如图2所示，光入射面111a可以位于导光板111的顶表面的边缘部分上，光发射面111b可以位于导光板111的顶表面的剩余部分上。光源114和准直透镜115可以位于导光板111的顶表面之上以面对导光板111的光入射面111a。输入耦合器112可以位于导光板111的底表面的边缘部分上以面对导光板111的光入射面111a，导光板111的底表面与导光板111的顶表面相反。输出耦合器113可以在导光板111的底表面上邻近于输入耦合器112安置以面对导光板111的光发射面111b。

由准直透镜115准直的照明光可以透过导光板111的顶表面上的光入射面111a，并且可以垂直地入射在导光板111的底表面上的输入耦合器112上。垂直地入射在输入耦合器112上的照明光可以被输入耦合器112衍射，并且可以倾斜地行进到导光板111的顶表面。接着，照明光可以被光导板111的顶表面全反射并且可以倾斜地行进到导光板111的底表面。照明光的部分可以被导光板111的底表面再次全反射并且可以行进到导光板111的顶表面，照明光的另一部分可以被输出耦合器113衍射并且可以几乎垂直地行进到导光板111的顶表面。垂直地入射在导光板111的顶表面上的照明光可以从导光板111向外发射而不被全反射。从导光板111发射的照明光可以被提供到空间光调制器120。

在使用导光板的背光单元中，从导光板发射的照明光可不具有均匀的亮度，并且具有条纹形状的明/暗图案可被形成。在根据一示例实施方式的背光单元110中，为了减少或抑制形成在从导光板111发射的照明光中的条纹图案，输入耦合器112可以具有倾斜的光栅图案。换言之，输入耦合器112的二元光栅结构的多个屏障可以自导光板的底表面的法线方向倾斜预定角度，并且自垂直地入射在导光板111的光入射面111a上的照明光的方向倾斜。

例如，图3是示出根据一示例实施方式的输入耦合器112的结构的剖视图。参照图3，位于导光板111的底表面上的输入耦合器112可以包括以恒定周期布置的多个屏障112a。输入耦合器112的多个屏障112a可以彼此平行。此外，如图3所示，输入耦合器112的屏障112a的每个可以是倾斜的。换言之，输入耦合器112的屏障112a的每个可以安置为自输入耦合器112的表面的法线方向具有预定角度。因此，输入耦合器112的屏障112a的每个自垂直地入射在导光板111的光入射面111a上的照射角度倾斜。

图4是示出根据一示例实施方式的输入耦合器112的结构的剖视图。参照图4，为了提高光利用效率，反射层116可以被进一步提供以覆盖输入耦合器112。反射层116可以由诸如银(ag)或铝(al)的具有高反射率的金属材料形成。反射层116可以通过反射透过输入耦合器112而未被输入耦合器112衍射的照明光来减少光损失。

图5、图6和图7是用于说明根据一示例实施方式的输入耦合器112的操作的剖视图。图5示出当红光入射在导光板111上时光在输入耦合器112和导光板111中行进的一示例路径。图6示出当绿光入射在导光板111上时光在输入耦合器112和导光板111中行进的一示例路径。如上所述，光源114可以包括多个红光发射激光器、多个绿光发射激光器和多个蓝光发射激光器。因此，照明光可以包括红光、绿光和蓝光。照明光被输入耦合器112衍射的衍射角由输入耦合器112的光栅周期和照明光的波长决定，因而照明光的具有不同波长带的光分量的衍射角是不同的，所述光分量以该衍射角被输入耦合器112衍射。因此，输入耦合器112的光栅周期可以根据照明光的光分量的波长鉴于输入耦合器112的衍射特性而被确定。

例如，参照图5，红光r几乎均匀地入射在导光板111的光入射面111a上。在图5中，红光r的光束当中仅入射在光入射面111a的两个边缘上的第一光束l1和第二光束l2作为示例被示出。第二光束l2入射在输入耦合器112的邻近于输出耦合器113的一个边缘上，然后被输入耦合器112衍射并倾斜地行进到导光板111中。在这种情况下，第二光束l2远离面对光入射面111a的部分被衍射并且不入射在面对光入射面111a的部分上。入射在输入耦合器112的另一个边缘上的第一光束l1被输入耦合器112衍射，然后入射在光入射面111a的中央部分。接着，第一光束l1可以被光入射面111a全反射，并且可以入射在输出耦合器113与输入耦合器112之间的边界上。因此，即使当被输入耦合器112衍射的红光r的部分再次入射于光入射面111a上时，红光r的光束在导光板111中也不彼此重叠。因此，对于红光r，当光束在导光板111中部分重叠时形成的亮条纹可以不被形成。

输入耦合器112的光栅周期可以被选择为例如使得，由输入耦合器112衍射的红光r入射在导光板111的顶表面上，被导光板111的顶表面全反射，并行进到导光板111的底表面不再次入射于输入耦合器112上。更详细地，如图5所示，输入耦合器112的光栅周期可以被选择为使得，红光r的入射在导光板111的边缘上的第一光束l1被输入耦合器112衍射并入射在光入射面111a的中央上。在这种情况下，因为红光r的第一光束l1入射在输出耦合器113与输入耦合器112之间的边界上，所以可以减少或最小化红光r的在导光板111中重叠的光束。

参照图6，例如，绿光g几乎均匀地入射在导光板111的光入射面111a上。在图6中，绿光g的光束当中仅入射在光入射面111a的两个边缘上的第一光束l1和第二光束l2以及入射在光入射面111a的内部部分上的第三光束l3作为示例被示出。第二光束l2入射在输入耦合器112的邻近于输出耦合器113的一个边缘上，然后被输入耦合器112衍射并倾斜地行进到导光板111中。在这种情况下，像红光r中那样，绿光g的第二光束l2远离面对光入射面111a的部分被衍射并且不入射在面对光入射面111a的部分上。

绿光g的入射在输入耦合器112的另一个边缘上的第一光束l1被输入耦合器112衍射，然后入射在光入射面111a的内部部分上。因为绿光g具有比红光r的波长更短的波长，所以绿光g经由输入耦合器112的衍射角小于红光r的衍射角。因此，由光入射面111a全反射的第一光束l1可以再次入射于输入耦合器112上。此外，第一光束l1与第二光束l2之间的第三光束l3被输入耦合器112衍射，然后入射在光入射面111a的内部部分上。接着，第三光束l3可以被光入射面111a全反射并入射在输出耦合器113与输入耦合器112之间的边界上。

因此，绿光g的在第一光束l1与第三光束l3之间的光束可以被输入耦合器112衍射，然后可以被光入射面111a全反射并再次入射于输入耦合器112上。当再次入射于输入耦合器112上的光束再次被输入耦合器112衍射并行进到导光板111中时，绿光g中的一些光束可以在导光板111中彼此重叠，从而导致亮条纹。然而，在一示例实施方式中，因为输入耦合器112的屏障112a的每个是倾斜的，所以可以减少或最小化亮条纹。

例如，图7示出倾斜地入射在输入耦合器112上的光被衍射的一示例衍射方向。从光源114经光入射面111a直接输入的光垂直地入射在输入耦合器112上。如图5和图6所示，输入耦合器112可以使垂直地入射在输入耦合器112上的光衍射并相对于输入耦合器112倾斜地行进。因此，从光源114直接输入的光可以被输入耦合器112衍射并且可以行进到导光板111中。相反，被光入射面111a全反射并第二次入射在输入耦合器112上的光倾斜地入射在输入耦合器112上。因为输入耦合器112的屏障112a的每个如图7所示地倾斜，所以倾斜地入射在输入耦合器112上的第一光束l1中的大部分光l1'可以被输入耦合器112衍射，并且可以在小于临界角的角度的方向上行进，例如在垂直于输入耦合器112的方向上或者在与光在导光板111中行进的方向相反的方向上行进。在这种情况下，第一光束l1中较大部分的光l1'可以穿过导光板111的光入射面111a，并且可以被发射到导光板111的外部。倾斜地入射在输入耦合器112上的第一光束l1中较小部分的光l1”可以被高阶衍射并且可以行进到导光板111中。

根据一示例实施方式，因为第二次入射在输入耦合器112上的较短波长带中的光可以大部分经光入射面111a被发射到导光板111的外部，所以可以减少当光束在导光板111中彼此重叠时形成在较短波长带中的亮条纹图案。此外，如图5所示，当输入耦合器112被设计为使得，从光源114提供的光当中具有最长波长带的红光r的第一光束l1被光入射面111a全反射然后入射在输出耦合器113与输入耦合器112之间的边界上时，可以防止或减少当光不从导光板111的一部分发射时形成的暗条纹图案在较长波长带中形成。

虽然输入耦合器112和输出耦合器113两者位于导光板111的底表面上，但示例实施方式不限于此。例如，图8、图9、图10和图11是每个示出根据一示例实施方式的背光单元110的构造的剖视图。首先，如图8所示，输入耦合器112可以位于导光板111的底表面上，输出耦合器113可以位于导光板111的顶表面上。此外，如图9所示，输入耦合器112和输出耦合器113两者可以位于导光板111的顶表面上。此外，如图10所示，输入耦合器112可以位于导光板111的顶表面上，并且输出耦合器113可以位于导光板111的底表面上。

此外，光源114和准直透镜115可以不直接面对光入射面111a。例如，参照图11，反射镜117可以安置为面对光入射面111a，并且光源114和准直透镜115可以安置在导光板111的边缘处并且可以布置在水平方向上。从光源114和准直透镜115提供的照明光可以被反射镜117反射并且可以垂直地入射在光入射面111a上。

图12a、图12b、图12c、图12d、图12e和图12f是用于说明根据一示例实施方式的制造输入耦合器112的工艺的透视图。

首先，参照图12a，准备彼此平行并垂直地置于第一基板201上的多个弹性屏障203。例如，第一基板201和弹性屏障203的每个可以由诸如聚二甲基硅氧烷(pdms)树脂或硅树脂的弹性材料形成。多个弹性屏障203可以通过在第一基板201上整体地涂覆弹性材料并执行蚀刻而形成。弹性屏障203的每个可以具有拥有较大宽度和较小厚度的平板形状，并且可以具有例如约30μm的厚度。

接着，多个弹性屏障203可以暂时地粘附到第二基板202。例如，第二基板202也可以由诸如pdms树脂或硅树脂的弹性材料形成。对于暂时粘附，可以对第二基板202的表面执行表面处理，例如氧(o2)等离子体表面处理。在对第二基板202执行表面处理之后，当使多个弹性屏障203与第二基板202的表面处理后的表面接触时，第二基板202可以自然地粘附到多个弹性屏障203。因此，弹性屏障203的每个的第一端部可以接触第一基板201，并且弹性屏障203的每个的第二端部可以接触第二基板202。

参照图12b，热固性的或可光固化的树脂204可以填充在第一基板201与第二基板202之间。例如，热固性的或可光固化的树脂204可以完全地填充在位于第一基板201与第二基板202之间的多个弹性屏障203之间。

此外，参照图12c，第一基板201和第二基板202可以相对于彼此移位。例如，第一基板201和第二基板202可以在与多个弹性屏障203的每个取向的方向垂直的方向上或者在与弹性屏障203的宽度方向垂直的方向上相对于彼此移位。因为多个弹性屏障203的每个的第一端部与移位的第一基板201一起移动，并且多个弹性屏障203的每个的第二端部与移位的第二基板202一起移动，所以多个弹性屏障203自第一基板201和第二基板202的表面的法线方向倾斜。因为第一基板201、第二基板202和弹性屏障203的每个由弹性材料形成，所以弹性屏障203在该工艺中可以不被损坏。

接着，参照图12d，通过向热固性的或可光固化的树脂204施加热或光(例如紫外线)，热固性的或可光固化的树脂204可以被固化。热固性的或可光固化的树脂204可以被固化以形成树脂层205，并且多个弹性屏障203可以倾斜地固定在树脂层205中。

参照图12e，第一基板201和多个弹性屏障203可以被去除。因为弹性屏障203通过图12a的表面处理的粘附不是永久的，所以第一基板201和多个弹性屏障203可以通过施加物理力而容易地与第二基板202分离。一旦第一基板201和多个弹性屏障203被去除，可以在树脂层205中形成多个平行的倾斜空腔206取代弹性屏障203。第二基板202和树脂层205可以用作用于制造输入耦合器112的主模。

例如，参照图12f，当热固性的或可光固化的树脂被涂覆于树脂层205上、被固化、然后被分离时，包括彼此平行的多个倾斜屏障的输入耦合器112可以被形成。因此，输入耦合器112可以通过使用包括图12e的第二基板202和树脂层205的主模而被大量复制。

虽然已经参照本公开的示例实施方式显示和描述了根据本公开的包括输入耦合器的背光单元、包括该背光单元的全息显示装置以及制造该输入耦合器的方法，但是示例实施方式和术语仅用于说明本公开，并且不应被解释为限制如由所附权利要求限定的本公开的范围。示例实施方式应仅在描述性的意义上被考虑并且不是为了限制的目的。因此，本公开的范围不是由本公开的详细描述限定，而是由所附权利要求限定，并且该范围内的所有差异将被解释为被包括在本公开中。

本申请要求享有2017年8月30日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0110345号的优先权，其公开通过引用全文合并于此。