图像形成装置及图像形成装置用单元的制作方法

本发明涉及一种图像形成装置及图像形成装置用单元。

背景技术：

利用电子照相法的图像的形成例如是通过以下方式进行：在使感光体表面带电之后，根据图像信息而在所述感光体表面形成静电荷像，接下来，利用包含色粉(toner)的显影剂将所述静电荷像显影而形成色粉图像，并将所述色粉图像转印及定影于记录介质表面。

这里，专利文献1中公开了“一种图像形成装置，其以感光体为中心依序配设有带电装置、图像曝光系统、显影装置、转印装置、分离装置及清洁装置，且在所述图像形成装置中，带电装置位于感光体的下侧，所述带电装置是在背面部附设着具有吸附、催化剂作用的构件的电晕放电方式的带电装置，在所述感光体的最表层形成有分散着无机粒子及电荷传输物质的被覆层，并在所述感光体的表面赋予有润滑剂”。

专利文献2中公开了“一种润滑剂供给装置，其具备：像保持体、将润滑剂涂布于所述像保持体的润滑剂涂布构件、以及将利用所述润滑剂涂布构件涂布于所述像保持体上的润滑剂整平的整平构件，且在所述润滑剂供给装置中，所述润滑剂涂布构件的涂布量是针对所述像保持体的每单位面积而设为1.2e^-7g/cm²～1.3e^-6g/cm²”。

专利文献3中公开了“一种在表面设置有以有机/无机复合材料为主成分的膜作为保护膜的有机电子照相感光体”。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2003-091143号公报

[专利文献2]日本专利特开2006-259661号公报

[专利文献3]日本专利特开平08-152730号公报

技术实现要素：

[发明所要解决的问题]

然而，在电子照相方式的图像形成装置中，利用包含色粉的显影剂将形成于电子照相感光体表面的静电荷像显影而形成色粉图像，将所述色粉图像从电子照相感光体转印到记录介质的表面之后，将色粉图像定影，由此将图像形成于记录介质上。另外，在将色粉图像转印到记录介质表面之后的电子照相感光体中，使用通过使清洁刮板(cleaningblade)与表面接触来进行表面的清扫的清扫构件。

再者，在使用在导电性基体上具备感光层且所述感光层成为最表面层的电子照相感光体来作为电子照相感光体的情况下，作为最表面层的感光层自身也通过清洁刮板而被渐渐削掉，由此实现高清扫性能。另一方面，在使用在导电性基体上具备感光层与无机表面层的电子照相感光体来作为电子照相感光体的情况下，无机表面层难以被削除，因此利用清洁刮板来实现高清扫性能并不容易。

另外，就润滑性等观点而言，对电子照相感光体表面供给脂肪酸金属盐，但在其供给量增加的情况下，有时会由于脂肪酸金属盐而发生图像形成装置内的污染。

所以，本发明的课题在于提供一种图像形成装置，其具备：电子照相感光体；清扫部件，使清洁刮板接触电子照相感光体的表面并进行清扫；及供给部件，向清洁刮板与电子照相感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐，且所述图像形成装置与具备不具有无机表面层且感光层为构成外周表面的层的电子照相感光体来作为电子照相感光体的图像形成装置相比，即便是在电子照相感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的电子照相感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上的情况下，也兼顾利用清洁刮板实现的高清扫性能与对由脂肪酸金属盐引起的装置内污染的抑制。

[解决问题的技术手段]

所述课题通过以下的本发明来解决。即，

技术方案1的发明为一种图像形成装置，具备：

电子照相感光体，依序具备导电性基体、感光层、以及含有第13族元素及氧的无机表面层；

带电部件，使所述电子照相感光体的表面带电；

静电荷像形成部件，在带电的所述电子照相感光体的表面形成静电荷像；

显影部件，供给静电荷像显影剂，并将形成于所述电子照相感光体的表面的静电荷像作为色粉图像来显影；

转印部件，将形成于所述电子照相感光体的表面的色粉图像转印到记录介质的表面；

清扫部件，使清洁刮板接触所述电子照相感光体的表面并进行清扫；及

供给部件，向所述清扫部件中的所述清洁刮板与所述电子照相感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐，且

在所述电子照相感光体的旋转方向上较所述供给部件更靠下游侧且较所述清扫部件更靠上游侧的所述电子照相感光体的表面中的、在被供给所述脂肪酸金属盐的状态下的、源于所述脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上。

技术方案2的发明为根据技术方案1所述的图像形成装置，其中

源于所述脂肪酸金属盐的金属的被覆率为45％以上。

技术方案3的发明为根据技术方案2所述的图像形成装置，其中

源于所述脂肪酸金属盐的金属的被覆率为50％以上。

技术方案4的发明为根据技术方案1至3中任一项所述的图像形成装置，其中

所述脂肪酸金属盐为硬脂酸锌。

技术方案5的发明为根据技术方案1至4中任一项所述的图像形成装置，其中

所述供给部件是与所述显影部件分开设置的部件。

技术方案6的发明为根据技术方案1至5中任一项所述的图像形成装置，其中

所述无机表面层中，所述氧与所述第13族元素的元素组成比(氧/第13族元素)为1.0以上且不足1.5。

技术方案7的发明为根据技术方案1至6中任一项所述的图像形成装置，其中

所述第13族元素为镓。

技术方案8的发明为根据技术方案1至7中任一项所述的图像形成装置，其中

所述无机表面层进而含有氢。

技术方案9的发明为根据技术方案1至8中任一项所述的图像形成装置，其中

相对于构成所述无机表面层的全部元素的、第13族元素、氧、及氢的元素构成比率的和为90原子％以上。

技术方案10的发明为根据技术方案1至9中任一项所述的图像形成装置，其中

所述带电部件是具备与所述电子照相感光体接触并使所述电子照相感光体的表面带电的带电辊的部件。

技术方案11的发明为根据技术方案1至10中任一项所述的图像形成装置，其中

所述感光层是至少构成外周表面的层相对于所述层的固体成分而含有55质量％以上且90质量％以下的二氧化硅粒子的层。

技术方案12的发明为一种图像形成装置用单元，被应用于具备使清洁刮板接触电子照相感光体的表面并进行清扫的清扫机构的图像形成装置中，且所述图像形成装置用单元具备：

电子照相感光体，依序具备导电性基体、感光层、以及含有第13族元素及氧的无机表面层；及

供给部件，向所述清洁刮板与所述电子照相感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐，

在所述电子照相感光体的旋转方向上较所述供给部件更靠下游侧且较与所述清洁刮板的接触位置更靠上游侧的所述电子照相感光体的表面中的、在被供给所述脂肪酸金属盐的状态下的、源于所述脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上。

[发明的效果]

根据技术方案1、4、5、6、7、8、9或11的发明，提供一种图像形成装置，其具备：电子照相感光体；清扫部件，使清洁刮板接触电子照相感光体的表面并进行清扫；及供给部件，向清洁刮板与电子照相感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐，且所述图像形成装置与具备不具有无机表面层且感光层为构成外周表面的层的电子照相感光体来作为电子照相感光体的图像形成装置相比，即便是在电子照相感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的电子照相感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上的情况下，也兼顾利用清洁刮板实现的高清扫性能与对由脂肪酸金属盐引起的装置内污染的抑制。

根据技术方案2或3的发明，提供一种图像形成装置，其与在电子照相感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的电子照相感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率不足45％的图像形成装置相比，具有利用清洁刮板实现的高清扫性能。

根据技术方案10的发明，提供一种图像形成装置，其具备：电子照相感光体；清扫部件，使清洁刮板接触电子照相感光体的表面并进行清扫；及供给部件，向清洁刮板与电子照相感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐，且所述图像形成装置与具备不具有无机表面层且感光层为构成外周表面的层的电子照相感光体来作为电子照相感光体的图像形成装置相比，即便是在电子照相感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的电子照相感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上的情况下，也兼顾利用清洁刮板实现的高清扫性能与对由脂肪酸金属盐引起的带电辊的污染的抑制。

根据技术方案12的发明，提供一种图像形成装置用单元，其被应用于具备使清洁刮板接触电子照相感光体的表面并进行清扫的清扫机构的图像形成装置中，且所述图像形成装置用单元具备：电子照相感光体；及供给部件，向清洁刮板与电子照相感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐，与具备不具有无机表面层且感光层为构成外周表面的层的电子照相感光体来作为电子照相感光体的图像形成装置相比，即便是在电子照相感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较与清洁刮板的接触位置更靠上游侧的电子照相感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上的情况下，也兼顾利用清洁刮板实现的高清扫性能与对由脂肪酸金属盐引起的装置内污染的抑制。

附图说明

图1是表示本实施方式的图像形成装置的一例的概略构成图。

图2是表示本实施方式的图像形成装置的另一例的概略构成图。

图3是将图1的图像形成装置中清洁刮板与感光体进行接触的位置放大显示的放大图。

图4(a)、图4(b)是表示本实施方式中的电子照相感光体的无机表面层的形成中所使用的成膜装置的一例的概略示意图。

图5是表示本实施方式中的电子照相感光体的无机表面层的形成中所使用的等离子体发生装置的示例的概略示意图。

图6是表示本实施方式的图像形成装置中的电子照相感光体的层构成的一例的示意剖面图。

图7是表示本实施方式的图像形成装置中的电子照相感光体的层构成的另一例的示意剖面图。

[符号的说明]

10：图像形成装置；

12：感光体；

14：带电构件；

15：带电装置；

16：静电荷像形成装置；

18：显影装置；

18a：显影构件；

20：转印构件；

22：清洁装置；

22a：清洁刮板；

24：除电装置；

26：定影装置；

26a：定影构件；

26b：加压构件；

27：驱动部；

28、30、32：电源；

30a：记录介质；

32a：转印区域；

31：转印装置；

34：搬送路径；

36：控制装置；

64：外部供给装置；

66a：脂肪酸金属盐；

66b：旋转刷；

101：底涂层；

102：电荷产生层；

103：电荷传输层；

104：导电性基体；

105：感光层；

106：无机表面层；

107a、107b：电子照相感光体(感光体)；

210：成膜室；

211：排气口；

212：基体旋转部；

213：基体支撑构件；

214：基体；

215、220：气体导入管；

216：簇射喷嘴；

217：等离子体扩散部；

218：高频电力供给部；

219：平板电极；

221：高频放电管部；

222：高频线圈；

223：石英管；

a、b：箭头；

l：光；

n：按压压力；

θ：角度。

具体实施方式

以下，对作为本发明的一例的实施方式进行详细说明。

<图像形成装置>

本实施方式的图像形成装置具备：电子照相感光体(以下也简称为“感光体”)；带电部件，使感光体的表面带电；静电荷像形成部件，在带电的感光体的表面形成静电荷像；显影部件，供给静电荷像显影剂，并将形成于感光体的表面的静电荷像作为色粉图像来显影；转印部件，将形成于感光体的表面的色粉图像转印到记录介质的表面；及清扫部件，对感光体的表面进行清扫。

另外，清扫部件是使清洁刮板接触感光体的表面并进行清扫的清扫部件，且具备向清扫部件中的清洁刮板与感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐的供给部件。

而且，在感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的电子照相感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上。

这里，在电子照相方式的图像形成装置中，利用包含色粉的显影剂将形成于感光体表面的静电荷像显影而形成色粉图像，将所述色粉图像从感光体转印到记录介质的表面之后，将色粉图像定影，由此将图像形成于记录介质上。再者，在转印了色粉图像之后的感光体中，为了将未转印而残留的色粉等附着物去除，利用清扫部件来进行感光体表面的清扫。另外，在图像形成装置中，有时在带电部件中产生氮氧化物(nox)或其反应产物等放电产物，在所述放电产物附着于感光体表面的情况下，也利用清扫部件将其去除。但是，放电产物的附着强度高且难以去除，因此，例如采用通过使清洁刮板接触感光体表面而以削掉的方式将表面的附着物去除的清扫部件来作为清扫部件。

再者，一直以来使用在导电性基体上具备感光层且所述感光层成为最表面层的感光体、亦即将有机物层作为最表面层的感光体来作为感光体。这种感光体中，在使清洁刮板接触并进行清扫的情况下，作为最表面层的感光层自身也通过清洁刮板而被渐渐削掉，亦即被削除而使新的表面露出并进行再生(刷新(refresh))，由此实现高清扫性能。

另一方面，还使用在导电性基体上具备感光层与无机表面层、且所述无机表面层成为最表面层的感光体来作为感光体。由于无机表面层的硬度高，即便使清洁刮板接触也难以将其削除，因此并不进行感光体表面的再生，其结果，利用清洁刮板来实现高清扫性能并不容易。

相对于此，本实施方式中具备向清扫部件中的清洁刮板与感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐的供给部件。而且，认为由所供给的脂肪酸金属盐形成的层承担通过清洁刮板而被渐渐削掉的作用。因此，残留于感光体表面的色粉或难以去除的放电产物等附着物也与所要削掉的脂肪酸金属盐一同被去除，其结果，达成了高清扫性能。

但是，在脂肪酸金属盐朝感光体表面的供给量增加，例如增加到源于脂肪酸金属盐的金属对感光体表面的被覆率成为40％以上的程度的情况下，有时由于脂肪酸金属盐而发生图像形成装置内的污染。尤其在作为带电部件而具备与感光体接触并使感光体表面带电的带电辊的情况下，有时由于脂肪酸金属盐而发生带电辊表面的污染，并由于脂肪酸金属盐的附着部位与未附着部位的带电不均而导致图像缺陷(图像的不均)。

相对于此，本实施方式中具备含有第13族元素及氧的无机表面层来作为感光体中的无机表面层。认为通过在作为感光体的最表面层的无机表面层中含有第13族元素和氧，可利用脂肪酸金属盐(其中的金属)和氧等的亲和性来抑制脂肪酸金属盐从感光体表面脱离。由此，即便是脂肪酸金属盐的供给量增加到例如源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率超过40％的程度的情况下，脂肪酸金属盐也被保持在感光体表面，且图像形成装置内的污染(尤其是作为带电部件而具备接触型的带电辊的情况下的带电辊污染)得到抑制。

根据以上，本实施方式中可兼顾利用清洁刮板实现的高清扫性能与对由脂肪酸金属盐引起的装置内污染的抑制。

-感光体表面的金属被覆率-

本实施方式中，在感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率(金属被覆率)为40％以上。再者，优选45％以上，更优选50％以上。

通过金属被覆率为40％以上，大量的脂肪酸金属盐被供给于感光体表面，并利用清洁刮板达成高清扫性能。

这里，感光体表面的金属被覆率的测定是利用以下方法来进行。通过将感光体剪切为2cm见方，并利用x射线光电子能谱仪(x-rayphotoelectronspectrometer，xps)(日本电子光学实验室(japanelectronopticslaboratory，jeol)制造的jps-9000mx)测定zn等源于脂肪酸金属盐的金属来进行。

其中，所述金属被覆率的测定是在被供给脂肪酸金属盐的状态下实施。具体来说，在图像形成装置中一面从供给部件向感光体表面进行脂肪酸金属盐的供给并且利用清洁刮板进行清扫，一面在a3用纸上形成100张半色调30％图像，之后针对较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的感光体的表面来进行金属被覆率的测定。

接下来，对本实施方式的图像形成装置的构成进行详细说明。

本实施方式的图像形成装置具备：感光体；带电部件，使感光体的表面带电；静电荷像形成部件，在带电的感光体的表面形成静电荷像；显影部件，供给静电荷像显影剂，并将形成于感光体表面的静电荷像作为色粉图像来显影；转印部件，将形成于感光体表面的色粉图像转印到记录介质的表面；清扫部件，使清洁刮板接触感光体的表面并进行清扫；及供给部件，向清扫部件中的清洁刮板与感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐。

再者，在将包含脂肪酸金属盐的粒子的静电荷像显影剂应用于静电荷像显影剂(其色粉)的情况下，显影部件兼作向清洁刮板与感光体的接触部供给脂肪酸金属盐的供给部件。亦即，在将包含脂肪酸金属盐的粒子的静电荷像显影剂应用于静电荷像显影剂(其色粉)的情况下，供给部件是指显影部件。

另外，也可以不应用包含脂肪酸金属盐的粒子的静电荷像显影剂，而是设置将脂肪酸金属盐供给于感光体表面的其他供给装置(外部供给装置)来供给脂肪酸金属盐。

这里，本实施方式的图像形成装置应用如下众所周知的图像形成装置：将形成于感光体表面的色粉图像直接转印到记录介质的直接转印方式的装置；将形成于感光体表面的色粉图像一次转印到中间转印体的表面，并将转印到中间转印体表面的色粉图像二次转印到记录介质表面的中间转印方式的装置；具备将色粉图像转印之后，在带电之前朝感光体的表面照射除电光来除电的除电装置的装置等。

在中间转印方式的装置的情况下，转印装置例如应用如下构成，所述构成具有：中间转印体，表面转印有色粉图像；一次转印装置，将形成于感光体表面的色粉图像一次转印到中间转印体的表面；及二次转印装置，将转印到中间转印体表面的色粉图像二次转印到记录介质的表面。

再者，在本实施方式的图像形成装置中，至少包含感光体的部分也可为构成图像形成装置用的单元并相对于图像形成装置进行装卸的盒(cartridge)结构(处理盒(processcartridge))。

例如，也可以使用如下图像形成装置用单元，其为被应用于具备使清洁刮板接触感光体的表面并进行清扫的清扫机构的图像形成装置中的单元，且具备：感光体，依序具备导电性基体、感光层、以及含有第13族元素及氧的无机表面层；及供给部件，向清洁刮板与感光体的接触位置供给脂肪酸金属盐，在感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较与清洁刮板的接触位置更靠上游侧的感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上。

以下示出本实施方式的图像形成装置的一例，但并不限定于此。再者，对图中示出的主要部分进行说明，对其他部分省略说明。

图1是表示本实施方式的图像形成装置的一例的概略构成图。

如图1所示，在本实施方式的图像形成装置10中例如设置有感光体12。感光体12被设为圆柱状，经由齿轮等驱动力传递构件(未图示)而连结于马达等驱动部27，并由所述驱动部27围绕以黑点表示的旋转轴旋转驱动。在图1所示的例子中，沿箭头a方向被旋转驱动。

在感光体12的周边例如沿着感光体12的旋转方向依序配设有带电装置15(带电部件的一例)、静电荷像形成装置16(静电荷像形成部件的一例)、显影装置18(显影部件的一例)、转印装置31(转印部件的一例)、清洁装置22(清扫部件的一例)、及除电装置24。而且，在图像形成装置10中还配设有定影装置26，定影装置26具有：定影构件26a、及与定影构件26a接触地配置的加压构件26b。另外，图像形成装置10具有对各装置(各部)的动作进行控制的控制装置36。再者，包含感光体12、带电装置15、静电荷像形成装置16、显影装置18、转印装置31、清洁装置22的单元相当于图像形成单元。

在图像形成装置10中，也可至少具备感光体12来作为与其他装置一体化而成的处理盒。

以下，对图像形成装置10的各装置(各部)的详细情况进行说明。

[电子照相感光体]

本实施方式的图像形成装置中的感光体在导电性基体上依序具有感光层及无机表面层。感光层可为在同一感光层中含有电荷产生材料与电荷传输材料并将功能一体化而成的单层型感光层，也可为具有电荷产生层与电荷传输层的、功能分离的层叠型感光层。在感光层为层叠型感光层的情况下，电荷产生层与电荷传输层的顺序并无特别限定，但感光体优选在导电性基体上依序具有电荷产生层、电荷传输层及无机表面层的构成。另外，感光体也可以包含这些层以外的层。

图6是表示本实施方式的图像形成装置中的感光体的层构成的一例的示意剖面图。感光体107a具有在导电性基体104上设置有底涂层101、并在其上方依次形成有电荷产生层102、电荷传输层103及无机表面层106的结构。在感光体107a中构成了功能被分离至电荷产生层102与电荷传输层103的感光层105。

另外，图7是表示本实施方式的图像形成装置中的感光体的层构成的另一例的示意剖面图。图7所示的感光体107b具有在导电性基体104上设置有底涂层101、并依次形成有感光层105及无机表面层106的结构。在感光体107b中构成了在同一感光层105中含有电荷产生材料与电荷传输材料并将功能一体化而成的单层型感光层。

再者，本实施方式中的感光体可设置底涂层101，或者也可以不设置。

以下，对本实施方式中的感光体的详细情况进行说明，但省略符号来说明。

(导电性基体)

作为导电性基体，例如可列举包含金属(铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等)或合金(不锈钢等)的金属板、金属鼓、及金属带等。另外，作为导电性基体，例如还可列举将导电性化合物(例如导电性聚合物、氧化铟等)、金属(例如铝、钯、金等)或合金涂布、蒸镀或层压而成的纸、树脂膜、带等。这里，所谓“导电性”，是指体积电阻率不足10¹³ωcm。

在将电子照相感光体用于激光打印机中的情况下，优选对导电性基体的表面进行粗糙化，使得其中心线平均粗糙度ra为0.04μm以上且0.5μm以下，以便抑制在照射激光光时所产生的干涉条纹。再者，在将非相干光用于光源中的情况下，并不特别需要用于防止干涉条纹的表面粗糙化，但其抑制由导电性基体的表面凹凸引起的缺陷的产生，因此适合更长寿命化。

作为表面粗糙化的方法，例如可列举：通过使研磨剂悬浮于水中并喷附于支撑体上而进行的湿式珩磨(honing)、将导电性基体压接于旋转的磨石并连续进行磨削加工的无心磨削、阳极氧化处理等。

作为表面粗糙化的方法，还可列举如下方法：不对导电性基体的表面进行粗糙化，而使导电性或半导电性粉体分散于树脂中，在导电性基体的表面上形成层，并利用分散于所述层中的粒子进行表面粗糙化。

利用阳极氧化进行的表面粗糙化处理是通过将金属制(例如铝制)的导电性基体作为阳极并在电解质溶液中进行阳极氧化而在导电性基体的表面形成氧化膜。作为电解质溶液，例如可列举硫酸溶液、草酸溶液等。但是，通过阳极氧化而形成的多孔阳极氧化膜在维持原样的状态下有化学活性，且容易被污染，由环境引起的电阻变动也大。所以，优选对多孔阳极氧化膜进行封孔处理：在加压水蒸气或沸水中(也可以添加镍等金属盐)，利用由水合反应引起的体积膨胀将氧化膜的微细孔堵塞，从而变为更稳定的水合氧化物。

阳极氧化膜的膜厚例如优选0.3μm以上且15μm以下。若所述膜厚处于所述范围内，则有发挥相对于注入而言的阻隔性的倾向，另外存在抑制因反复使用所引起的残余电位上升的倾向。

也可以对导电性基体实施利用酸性处理液的处理或者勃姆石(boehmite)处理。

利用酸性处理液的处理例如以如下方式实施。首先，制备包含磷酸、铬酸及氢氟酸的酸性处理液。关于酸性处理液中的磷酸、铬酸及氢氟酸的调配比例，例如磷酸为10质量％以上且11质量％以下的范围、铬酸为3质量％以上且5质量％以下的范围、氢氟酸为0.5质量％以上且2质量％以下的范围，这些酸整体的浓度宜为13.5质量％以上且18质量％以下的范围。处理温度例如优选42℃以上且48℃以下。被膜的膜厚优选0.3μm以上且15μm以下。

关于勃姆石处理，例如是将所述导电性基体在90℃以上且100℃以下的纯水中浸渍5分钟至60分钟、或者使其与90℃以上且120℃以下的加热水蒸气接触5分钟至60分钟来进行。被膜的膜厚优选0.1μm以上且5μm以下。也可以进一步对其使用己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等被膜溶解性低的电解质溶液进行阳极氧化处理。

(底涂层)

底涂层例如为包含无机粒子与粘结树脂的层。

作为无机粒子，例如可列举粉体电阻(体积电阻率)10²ωcm以上且10¹¹ωcm以下的无机粒子。

这些无机粒子中，作为具有所述电阻值的无机粒子，例如宜为氧化锡粒子、氧化钛粒子、氧化锌粒子、氧化锆粒子等金属氧化物粒子，尤其优选氧化锌粒子。

无机粒子的利用吸附比表面测试法(brunauer-emmett-tellermethod，betmethod)所得的比表面积例如宜为10m2/g以上。

无机粒子的体积平均粒径例如宜为50nm以上且2000nm以下(优选60nm以上且1000nm以下)。

无机粒子的含量例如相对于粘结树脂而优选10质量％以上且80质量％以下，更优选40质量％以上且80质量％以下。

无机粒子也可以实施表面处理。关于无机粒子，也可以将表面处理不同者或粒径不同者混合两种以上来使用。

作为表面处理剂，例如可列举：硅烷偶联剂、钛酸酯系偶联剂、铝系偶联剂、表面活性剂等。尤其优选硅烷偶联剂，更优选具有氨基的硅烷偶联剂。

作为具有氨基的硅烷偶联剂，例如可列举：3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n，n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等，但并不限定于这些。

硅烷偶联剂也可以混合两种以上来使用。例如也可以将具有氨基的硅烷偶联剂与其他硅烷偶联剂并用。作为所述其他硅烷偶联剂，例如可列举：乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n，n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等，但并不限定于这些。

利用表面处理剂的表面处理方法只要是公知的方法，则可为任意方法，可为干式法或湿式法中的任一者。

表面处理剂的处理量例如相对于无机粒子而优选0.5质量％以上且10质量％以下。

这里，就提高电气特性的长期稳定性、载流子阻隔性的观点而言，宜为底涂层含有无机粒子及电子接受性化合物(受体化合物)。

作为电子接受性化合物，例如可列举：氯醌、溴醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2，4，7-三硝基芴酮、2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物；2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-双(4-萘基)-1，3，4-噁二唑、2，5-双(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑等噁二唑系化合物；呫吨酮系化合物；噻吩化合物；3，3′，5，5′-四-叔丁基联苯醌等联苯醌化合物；等电子传输性物质等。

尤其，作为电子接受性化合物，优选具有蒽醌结构的化合物。作为具有蒽醌结构的化合物，例如优选羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物、氨基羟基蒽醌化合物等，具体来说，例如优选蒽醌、茜素(alizarin)、醌茜(quinizarin)、蒽绛酚(anthrarufin)、红紫素(purpurin)等。

电子接受性化合物可与无机粒子一同分散并包含于底涂层中，或者也可以在附着于无机粒子表面的状态下包含于底涂层中。

作为使电子接受性化合物附着于无机粒子表面的方法，例如可列举干式法、或者湿式法。

干式法例如为如下方法：一面利用剪切力大的搅拌机等搅拌无机粒子，一面直接滴加电子接受性化合物或者滴加溶解于有机溶媒中的电子接受性化合物，并将其与干燥空气或氮气一同喷雾，从而将电子接受性化合物附着于无机粒子的表面。在电子接受性化合物的滴加或喷雾时，宜为在溶剂的沸点以下的温度下进行。也可以在将电子接受性化合物滴加或喷雾后进一步在100℃以上进行焙烤。关于焙烤，只要为可获得电子照相特性的温度、时间，则无特别限制。

湿式法例如为如下方法：利用搅拌、超声波、砂磨机、磨碎机(attritor)、球磨机等将无机粒子分散于溶剂中，并且添加电子接受性化合物，进行搅拌或分散后，将溶剂去除，从而将电子接受性化合物附着于无机粒子的表面。关于溶剂去除方法，例如通过过滤或蒸馏将溶剂蒸馏去除。在去除溶剂之后，也可以进一步在100℃以上进行焙烤。关于焙烤，只要为可获得电子照相特性的温度、时间，则无特别限定。湿式法中，也可以在添加电子接受性化合物之前将无机粒子所含的水分去除，其例子可列举：一面在溶剂中对无机粒子进行搅拌加热一面去除水分的方法、使无机粒子与溶剂共沸而去除水分的方法。

再者，电子接受性化合物的附着可以在对无机粒子实施利用表面处理剂的表面处理之前或之后进行，也可以使电子接受性化合物的附着和利用表面处理剂的表面处理同时进行。

电子接受性化合物的含量例如相对于无机粒子而宜为0.01质量％以上且20质量％以下，优选0.01质量％以上且10质量％以下。

作为用于底涂层的粘结树脂，例如可列举：缩醛树脂(例如，聚乙烯缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等公知的高分子化合物；锆螯合化合物；钛螯合化合物；铝螯合化合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；硅烷偶联剂等公知的材料。

作为用于底涂层的粘结树脂，例如还可列举：具有电荷传输性基的电荷传输性树脂、导电性树脂(例如，聚苯胺等)等。

这些之中，作为用于底涂层的粘结树脂，适宜为不溶于上层的涂布溶剂的树脂，尤其适宜为脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等热固化性树脂；利用选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇树脂及聚乙烯缩醛树脂所组成的群组中的至少一种树脂与固化剂的反应而获得的树脂。

在将这些粘结树脂的两种以上组合使用的情况下，视需要对其混合比例进行设定。

为了提升电气特性、提升环境稳定性、提升画质，也可以在底涂层中包含各种添加剂。

作为添加剂，可列举：多环缩合系、偶氮系等电子传输性颜料、锆螯合化合物、钛螯合化合物、铝螯合化合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等公知的材料。如上所述，硅烷偶联剂被用于无机粒子的表面处理，但也可以作为添加剂进一步添加于底涂层中。

关于作为添加剂的硅烷偶联剂，例如可列举：乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n，n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等。

作为锆螯合化合物，例如可列举：锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺合锆、乙酰丙酮锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆丁醇盐、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯锆丁醇盐、硬脂酸酯锆丁醇盐、异硬脂酸酯锆丁醇盐等。

作为钛螯合化合物，例如可列举：钛酸四异丙基酯、钛酸四正丁基酯、钛酸丁基酯二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺合钛、多羟基硬脂酸钛等。

作为铝螯合化合物，例如可列举：异丙醇铝、单丁氧基二异丙醇铝、丁醇铝、二乙酰乙酸乙酯二异丙醇铝、三(乙酰乙酸乙酯)铝等。

这些添加剂可单独使用，或者也可以作为多种化合物的混合物或缩聚物来使用。

底涂层的维氏硬度宜为35以上。

为了抑制云纹(moire)像，宜将底涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)调整为所使用的曝光用激光波长λ的1/(4n)(n为上层的折射率)至1/2。

为了调整表面粗糙度，也可以在底涂层中添加树脂粒子等。作为树脂粒子，可列举硅酮树脂粒子、交联型聚甲基丙烯酸甲酯树脂粒子等。另外，为了调整表面粗糙度，也可以对底涂层的表面进行研磨。作为研磨方法，可列举：软皮(buff)研磨、喷砂处理、湿式珩磨、磨削处理等。

底涂层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加到溶剂中所得的底涂层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂，可列举公知的有机溶剂，例如：醇系溶剂、芳香族烃溶剂、卤化烃溶剂、酮系溶剂、酮醇系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂等。

具体来说，这些溶剂例如可列举：甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等通常的有机溶剂。

作为制备底涂层形成用涂布液时的无机粒子的分散方法，例如可列举：辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨机、油漆搅拌器等公知的方法。

作为将底涂层形成用涂布液涂布于导电性基体上的方法，例如可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布(beadcoating)法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

底涂层的膜厚例如设定于优选15μm以上、更优选20μm以上且50μm以下的范围内。

(中间层)

图示虽省略，但也可以在底涂层和感光层之间进一步设置中间层。

中间层例如为包含树脂的层。作为用于中间层的树脂，例如可列举：缩醛树脂(例如，聚乙烯缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂等高分子化合物。

中间层也可为包含有机金属化合物的层。作为用于中间层的有机金属化合物，可列举含有锆、钛、铝、锰、硅等金属原子的有机金属化合物等。

这些用于中间层的化合物可单独使用，或者也可以作为多种化合物的混合物或缩聚物来使用。

这些之中，中间层优选为包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层。

中间层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加到溶剂中所得的中间层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为形成中间层的涂布方法，可使用浸渍涂布法、上推涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、刮板涂布法、刮刀涂布(knifecoating)法、幕式涂布法等通常方法。

中间层的膜厚例如优选设定于0.1μm以上且3μm以下的范围内。再者，也可以将中间层用作底涂层。

(电荷产生层)

电荷产生层例如为包含电荷产生材料与粘结树脂的层。另外，电荷产生层也可为电荷产生材料的蒸镀层。电荷产生材料的蒸镀层适合于使用发光二极管(lightemittingdiode，led)、有机电致发光(electro-luminescence，el)图像阵列等非相干性光源的情形。

作为电荷产生材料，可列举：双偶氮、三偶氮等偶氮颜料；二溴蒽嵌蒽醌等稠环芳香族颜料；苝颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；三方晶系硒等。

这些之中，为了应对近红外区域的激光曝光，电荷产生材料优选使用金属酞菁颜料或无金属酞菁颜料。具体来说，例如更优选：日本专利特开平5-263007号公报、日本专利特开平5-279591号公报等所公开的羟基镓酞菁；日本专利特开平5-98181号公报等所公开的氯镓酞菁；日本专利特开平5-140472号公报、日本专利特开平5-140473号公报等所公开的二氯锡酞菁；日本专利特开平4-189873号公报等所公开的氧钛酞菁。

另一方面，为了应对近紫外区域的激光曝光，电荷产生材料优选：二溴蒽嵌蒽醌等稠环芳香族颜料；硫靛系颜料；紫菜嗪化合物；氧化锌；三方晶系硒；日本专利特开2004-78147号公报、日本专利特开2005-181992号公报所公开的双偶氮颜料等。

当使用在450nm以上且780nm以下存在发光的中心波长的led、有机el图像阵列等非相干性光源的情况下，也可以使用所述电荷产生材料，但就分辨率的观点而言，当在20μm以下的薄膜中使用感光层时，感光层中的电场强度变高，容易发生自基体的电荷注入所引起的带电降低、被称作所谓黑点的图像缺陷。所述情况在使用三方晶系硒、酞菁颜料等容易在p-型半导体中产生暗电流的电荷产生材料时变得显著。

相对于此，在使用作为电荷产生材料的稠环芳香族颜料、苝颜料、偶氮颜料等的n-型半导体的情况下，难以产生暗电流，即便制成薄膜，也能抑制被称作黑点的图像缺陷。作为n-型的电荷产生材料，例如可列举日本专利特开2012-155282号公报的段落[0288]～段落[0291]中记载的化合物(cg-1)～化合物(cg-27)，但并不限定于此。

再者，n-型的判定可利用通常所使用的飞行时间(timeofflight)法并根据流动的光电流的极性来判定，将相比空穴而更容易使电子作为载流子流动者设为n-型。

作为用于电荷产生层的粘结树脂，可自广泛的绝缘性树脂中选择，另外，作为粘结树脂，也可以自聚-n-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷等有机光导电性聚合物中选择。

作为粘结树脂，例如可列举：聚乙烯缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(双酚类与芳香族二价羧酸的缩聚物等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂、聚乙烯吡咯烷酮树脂等。这里，所谓“绝缘性”，是指体积电阻率为10¹³ωcm以上。

这些粘结树脂可单独使用一种或者混合使用两种以上。

再者，电荷产生材料与粘结树脂的调配比优选以质量比计为10∶1至1∶10的范围内。

此外，在电荷产生层中也可以包含众所周知的添加剂。

电荷产生层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加到溶剂中所得的电荷产生层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。再者，电荷产生层的形成也可以通过电荷产生材料的蒸镀来进行。电荷产生层的利用蒸镀的形成尤其适合于利用稠环芳香族颜料、苝颜料作为电荷产生材料的情形。

作为用于制备电荷产生层形成用涂布液的溶剂，可列举：甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂单独使用一种或者混合使用两种以上。

作为使粒子(例如，电荷产生材料)分散于电荷产生层形成用涂布液中的方法，例如利用球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、卧式砂磨机等介质分散机；或者搅拌、超声波分散机、辊磨机、高压均质机等无介质分散机。作为高压均质机，例如可列举：在高压状态下使分散液进行液-液碰撞或液-壁碰撞并分散的碰撞方式、或者在高压状态下使分散液贯穿微细流路并分散的贯穿方式等。

再者，当进行所述分散时，有效的是将电荷产生层形成用涂布液中的电荷产生材料的平均粒径设为0.5μm以下、优选0.3μm以下、进而优选0.15μm以下。

作为将电荷产生层形成用涂布液涂布在底涂层上(或中间层上)的方法，例如可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

电荷产生层的膜厚例如设定于优选0.1μm以上且5.0μm以下、更优选0.2μm以上且2.0μm以下的范围内。

(电荷传输层)

电荷传输层例如为包含电荷传输材料与粘结树脂的层。电荷传输层也可为包含高分子电荷传输材料的层。

作为电荷传输材料，可列举：对苯醌、氯醌、溴醌、蒽醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2，4，7-三硝基芴酮等芴酮化合物；呫吨酮系化合物；二苯甲酮系化合物；氰基乙烯基系化合物；乙烯系化合物等电子传输性化合物。作为电荷传输材料，还可列举：三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、芳基烷烃系化合物、芳基取代乙烯系化合物、二苯乙烯系化合物、蒽系化合物、腙系化合物等空穴传输性化合物。这些电荷传输材料可单独使用一种或者使用两种以上，但并不限定于这些。

作为电荷传输材料，就电荷迁移率的观点而言，优选由下述结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物、及由下述结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物。

[化1]

结构式(a-1)中，ar^t1、ar^t2及ar^t3分别独立地表示经取代或未经取代的芳基、-c6h4-c(r^t4)＝c(r^t5)(r^t6)、或-c6h4-ch＝ch-ch＝c(r^t7)(r^t8)。r^t4、r^t5、r^t6、r^t7、及r^t8分别独立地表示氢原子、经取代或未经取代的烷基、或者经取代或未经取代的芳基。

作为所述各基团的取代基，可列举：卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、碳数1以上且5以下的烷氧基。另外，作为所述各基团的取代基，还可列举经碳数1以上且3以下的烷基取代而成的取代氨基。

[化2]

结构式(a-2)中，r^t91及r^t92分别独立地表示氢原子、卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、或者碳数1以上且5以下的烷氧基。r^t101、r^t102、r^t111及r^t112分别独立地表示卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、碳数1以上且5以下的烷氧基、经碳数1以上且2以下的烷基取代而成的氨基、经取代或未经取代的芳基、-c(r^t12)＝c(r^t13)(r^t14)、或-ch＝ch-ch＝c(r^t15)(r^t16)，r^t12、r^t13、r^t14、r^t15及r^t16分别独立地表示氢原子、经取代或未经取代的烷基、或者经取代或未经取代的芳基。tm1、tm2、tn1及tn2分别独立地表示0以上且2以下的整数。

作为所述各基团的取代基，可列举：卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、碳数1以上且5以下的烷氧基。另外，作为所述各基团的取代基，还可列举经碳数1以上且3以下的烷基取代而成的取代氨基。

这里，在由结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物及由所述结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物中，就电荷迁移率的观点而言，尤其优选具有“-c6h4-ch＝ch-ch＝c(r^t7)(r^t8)”的三芳基胺衍生物、及具有“-ch＝ch-ch＝c(r^t15)(r^t16)”的联苯胺衍生物。

作为高分子电荷传输材料，可使用聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等具有电荷传输性的公知者。尤其优选日本专利特开平8-176293号公报、日本专利特开平8-208820号公报等所公开的聚酯系的高分子电荷传输材料。再者，高分子电荷传输材料可单独使用，但也可以与粘结树脂并用。

用于电荷传输层的粘结树脂可列举：聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等。这些之中，作为粘结树脂，适宜为聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂。这些粘结树脂单独使用一种或者使用两种以上。

再者，电荷传输材料与粘结树脂的调配比以质量比计优选10∶1至1∶5。

所述粘结树脂中，就更容易使电荷传输层的表面粗糙度降低、并进一步抑制像流失的发生的方面而言，优选聚碳酸酯树脂(双酚a、双酚z、双酚c、双酚tp等均聚型、或其共聚型)。聚碳酸酯树脂可单独使用一种，也可以并用两种以上。另外，就同样的方面而言，在聚碳酸酯树脂中，更优选包含双酚z的均聚型聚碳酸酯树脂。

电荷传输层除电荷传输材料及粘结树脂以外，视需要也可以包含无机粒子。

通过电荷传输层(即，有机感光层的最外层)包含无机粒子而无机表面层的破裂得以抑制。具体来说，认为通过使构成有机感光层的表面的层中含有无机粒子，而无机粒子发挥作为有机感光层的增强材的功能，由此，有机感光层难以变形，且无机表面层的破裂得以抑制。另外，通过电荷传输层(即，有机感光层)包含无机粒子，即便电场强度变高，也难以引起电荷传输层(即，有机感光层)的绝缘破坏。

作为用于电荷传输层的无机粒子，可列举：二氧化硅粒子、氧化铝粒子、氧化钛粒子、钛酸钾粒子、氧化锡粒子、氧化锌粒子、氧化锆粒子、硫酸钡粒子、氧化钙粒子、碳酸钙粒子、氧化镁粒子等。

无机粒子可单独使用一种，或者也可以并用两种以上。

这些之中，就介质损耗因数高而难以使感光体的电气特性降低的方面、另外抑制无机表面层的破裂的发生的观点而言，尤其优选二氧化硅粒子。

以下，对适合于电荷传输层的二氧化硅粒子进行详细说明。

作为二氧化硅粒子，例如可列举：干式二氧化硅粒子、湿式二氧化硅粒子。

作为干式二氧化硅粒子，可列举：使硅烷化合物燃烧而获得的燃烧法二氧化硅(气相二氧化硅(fumedsilica))、使金属硅粉急剧燃烧而获得的爆燃法二氧化硅等。

作为湿式二氧化硅粒子，可列举：利用硅酸钠与无机酸(mineralacids)的中和反应而获得的湿式二氧化硅粒子(在碱性条件下进行合成、凝聚的沉淀法二氧化硅、在酸性条件下进行合成、凝聚的凝胶法二氧化硅粒子等)、通过使酸性硅酸成为碱性并进行聚合而获得的胶体二氧化硅粒子(二氧化硅溶胶粒子等)、通过有机硅烷化合物(例如，烷氧基硅烷等)的水解而获得的溶胶凝胶法二氧化硅粒子。

这些之中，作为二氧化硅粒子，就抑制残余电位的产生、此外抑制由电气特性的恶化引起的图像缺陷(抑制细线再现性的恶化)的观点而言，理想为表面的硅醇基少、且具有低的空隙结构的燃烧法二氧化硅粒子。

二氧化硅粒子宜为利用疏水化处理剂对其表面进行表面处理。由此，二氧化硅粒子表面的硅醇基减少，且容易抑制残余电位的产生。

作为疏水化处理剂，可列举：氯硅烷、烷氧基硅烷、硅氮烷等周知的硅烷化合物。

这些之中，作为疏水化处理剂，就容易抑制残余电位的产生的观点以及抑制由感光体表面的带电不均引起的图像浓度不均的观点而言，优选具有三甲基硅烷基、癸基硅烷基或苯基硅烷基的硅烷化合物。亦即，宜为在二氧化硅粒子的表面具有三甲基硅烷基、癸基硅烷基或苯基硅烷基。

作为具有三甲基硅烷基的硅烷化合物(三甲基硅烷化合物)，例如可列举：三甲基氯硅烷、三甲基甲氧基硅烷、1，1，1，3，3，3-六甲基二硅氮烷等。

作为具有癸基硅烷基的硅烷化合物(癸基硅烷化合物)，例如可列举：癸基三氯硅烷、癸基二甲基氯硅烷、癸基三甲氧基硅烷等。

作为具有苯基硅烷基的硅烷化合物(苯基硅烷化合物)，可列举：三苯基甲氧基硅烷、三苯基氯硅烷等。

经疏水化处理的二氧化硅粒子的缩合率(二氧化硅粒子中的sio^4-键中的si-o-si的比率：以下也称作“疏水化处理剂的缩合率”)例如相对于二氧化硅粒子表面的硅醇基而列举90％以上，优选91％以上，更优选95％以上。

若将疏水化处理剂的缩合率设为所述范围，则二氧化硅粒子的硅醇基进一步减少，并容易抑制残余电位的产生。

疏水化处理剂的缩合率表示相对于利用核磁共振(nuclearmagneticresonance，nmr)检测到的缩合部的硅的全部可键结位点(site)而言，进行了缩合的硅的比例，且以如下方式进行测定。

首先，将二氧化硅粒子从层中分离。针对分离了的二氧化硅粒子，利用布鲁克(bruker)制造的艾旺斯(avance)iii400进行硅交叉极化/魔角旋转/核磁共振(sicrosspolarization/magicanglespinningnuclearmagneticresonance，sicp/masnmr)分析，并求出与sio的取代数量相应的峰值面积，分别将二取代(si(oh)2(o-si)2-)、三取代(si(oh)(o-si)3-)、四取代(si(o-si)4-)的值设为q2、q3、q4，疏水化处理剂的缩合率利用式：(q2×2+q3×3+q4×4)/4×(q2+q3+q4)算出。

二氧化硅粒子的体积电阻率例如宜为10¹¹ω·cm以上，优选10¹²ω·cm以上，更优选10¹³ω·cm以上。

若将二氧化硅粒子的体积电阻率设为所述范围，则电气特性的下降得以抑制。

二氧化硅粒子的体积电阻率以如下方式测定。再者，测定环境设为温度20℃、湿度50％相对湿度(relativehumidity，rh)。

首先，将二氧化硅粒子从层中分离。然后，将成为测定对象的分离了的二氧化硅粒子以成为1mm以上且3mm以下左右的厚度的方式载置于配有20cm²的电极板的圆形夹具的表面，从而形成二氧化硅粒子层。在其上方载置与所述同样的20cm²的电极板，将二氧化硅粒子层夹住。为了消除二氧化硅粒子之间的空隙，在载置于二氧化硅粒子层上的电极板上施加4kg的负荷之后测定二氧化硅粒子层的厚度(cm)。在二氧化硅粒子层上下的两电极上连接有静电计及高压电源发生装置。以使电场成为预定值的方式对两电极施加高电压，并读取此时流动的电流值(a)，由此计算二氧化硅粒子的体积电阻率(ω·cm)。二氧化硅粒子的体积电阻率(ω·cm)的计算式如下式所示。

再者，式中，ρ表示二氧化硅粒子的体积电阻率(ω·cm)，e表示施加电压(v)，i表示电流值(a)，i0表示施加电压0v时的电流值(a)，l表示二氧化硅粒子层的厚度(cm)。本评价中使用施加电压为1000v时的体积电阻率。

·式：ρ＝e×20/(i-i0)/l

包含二氧化硅粒子的无机粒子的体积平均粒径例如可列举20nm以上且200nm以下，优选40nm以上且150nm以下，更优选50nm以上且120nm以下，进而优选50nm以上且110nm以下。

通过体积平均粒径为所述范围，而容易抑制无机表面层的破裂以及残余电位的产生。

无机粒子的体积平均粒径以如下方式测定。以下示出二氧化硅粒子的情况下的测定方法，对其他粒子也采用同样的测定方法。

关于二氧化硅粒子的体积平均粒径，将二氧化硅粒子从层中分离，利用扫描式电子显微镜(scanningelectronmicroscope，sem)装置以40000倍的倍率对100个所述二氧化硅粒子的一次粒子进行观察，通过一次粒子的图像分析来测定每个粒子的最长径、最短径，并根据所述中间值来测定球当量直径。求出所获得的球当量直径的累积频率中的50％直径(d50v)，将其作为二氧化硅粒子的体积平均粒径进行测定。

无机粒子的含量根据其种类来适当决定即可，但就容易抑制无机表面层的破裂、及残余电位的产生之类的方面而言，相对于电荷传输层整体(固体成分)，例如优选30质量％以上，更优选40质量％以上，进而优选50质量％以上，尤其优选55质量％以上。

另外，无机粒子的含量的上限值并无特别限定，但就确保电荷传输层的特性等方面而言，宜为90质量％以下，优选为80质量％以下，更优选70质量％以下，进而优选65质量％以下。

另外，无机粒子的含量优选比电荷传输材料的含量多，例如相对于电荷传输层整体(固体成分)而言，优选为55质量％以上且90质量％以下。

此外，在电荷传输层中也可以包含众所周知的添加剂。

-电荷传输层的特性-

电荷传输层中的无机表面层侧的表面的表面粗糙度ra(算数平均表面粗糙度ra)例如可列举0.06μm以下，优选0.03μm以下，更优选0.02μm以下。

若将所述表面粗糙度ra设为所述范围，则无机表面层的平滑性提升，且清洁性提升。

再者，将表面粗糙度ra设为所述范围例如可列举：增加层的厚度等方法。

所述表面粗糙度ra以如下方式测定。

首先，将无机表面层剥离之后，使成为测定对象的层露出。然后，利用切割机等剪切所述层的一部分，从而获取测定试样。

针对所述测定试样，使用触针式表面粗糙度测定机(萨弗科姆(surfcom)1400a：东京精密公司制造等)进行测定。作为其测定条件，依据日本工业标准(japaneseindustrialstandards，jis)b0601-1994，并设为评价长度ln＝4mm、基准长度l＝0.8mm、截止值0.8mm。

电荷传输层的弹性模量例如可列举5gpa以上，优选6gpa以上，更优选6.5gpa以上。

若将电荷传输层的弹性模量设为所述范围，则容易抑制无机表面层的破裂。

再者，将电荷传输层的弹性模量设为所述范围例如可列举：调整二氧化硅粒子的粒径及含量的方法、调整电荷传输材料的种类及含量的方法。

电荷传输层的弹性模量以如下方式测定。

首先，将无机表面层剥离之后，使成为测定对象的层露出。然后，利用切割机等剪切所述层的一部分，从而获取测定试样。

针对所述测定试样，使用如下平均值进行测定，所述平均值是使用mts系统(systems)公司制造的纳米压痕仪(nanoindenter)sa2并利用连续刚度法(continuousstiffnessmeasurement，csm)(美国专利4848141)获得深度分布，并根据其压入深度30nm至100nm的测定值而获得。

电荷传输层的膜厚例如可列举10μm以上且40μm以下，优选10μm以上且35μm以下，更优选15μm以上且30μm以下。

若将电荷传输层的膜厚设为所述范围，则容易抑制无机表面层的破裂、及残余电位的产生。

-电荷传输层的形成-

电荷传输层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分添加到溶剂中所得的电荷传输层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为用于制备电荷传输层形成用涂布液的溶剂，可列举：苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烃类；丙酮、2-丁酮等酮类；二氯甲烷、氯仿、二氯乙烷等卤化脂肪族烃类；四氢呋喃、乙醚等环状或直链状的醚类等通常的有机溶剂。这些溶剂单独使用或混合使用两种以上。

作为将电荷传输层形成用涂布液涂布于电荷产生层上时的涂布方法，可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

再者，在使粒子(例如，二氧化硅粒子或氟树脂粒子)分散于电荷传输层形成用涂布液中的情况下，作为其分散方法，例如利用球磨机、振动磨机、磨碎机、砂磨机、卧式砂磨机等介质分散机；或者搅拌、超声波分散机、辊磨机、高压均质机等无介质分散机。作为高压均质机，例如可列举：在高压状态下使分散液进行液-液碰撞或液-壁碰撞并分散的碰撞方式、或者在高压状态下使分散液在微细的流路中贯通并分散的贯通方式等。

另外，在形成电荷传输层后并在形成无机表面层之前，视需要也可以经过利用氧浓度比大气高的气体对形成于导电性基体上的有机感光层中所包含的大气进行置换的工序。

(无机表面层)

-无机表面层的组成-

无机表面层为包含含有第13族元素及氧的无机材料而构成的层。

作为含有第13族元素及氧的无机材料，例如可列举：氧化镓、氧化铝、氧化铟、氧化硼等金属氧化物、或者它们的混晶。

这些之中，作为无机材料，就机械强度、透光性优异，尤其是具有n型导电性且其导电控制性优异的观点而言，尤其优选氧化镓。

无机表面层只要至少包含第13族元素(优选镓)及氧而构成即可，视需要也可以包含氢而构成。通过包含氢，而容易对至少包含第13族元素(优选镓)及氧而构成的无机表面层的各物性进行控制。例如，在包含镓、氧及氢的无机表面层(例如，由包含氢的氧化镓构成的无机表面层)中使组成比[o]/[ga]从1.0到1.5进行变化，由此容易在10⁹ω·cm以上且10¹⁴ω·cm以下的范围内实现对体积电阻率的控制。

尤其，无机表面层优选含有第13族元素、氧及氢，且相对于构成无机表面层的全部元素的、第13族元素、氧及氢的元素构成比率的和为90原子％以上。

而且，氧及第13族元素的元素组成比(氧/第13族元素)优选为1.0以上且不足1.5，更优选1.03以上且1.47以下，进而优选1.05以上且1.45以下，尤其优选1.10以上且1.40以下。

若构成无机表面层的材料的元素组成比(氧/第13族元素)为所述范围，则由感光体表面的损伤所致的图像缺陷得到抑制，另外，与被供给至感光体表面的脂肪酸金属盐的亲和性提升，且由脂肪酸金属盐引起的装置内的污染得到抑制。就同样的方面而言，第13族元素理想为镓。

另外，通过相对于构成无机表面层的全部元素的、第13族元素(尤其是镓)、氧及氢的元素构成比率的和为90原子％以上，在例如混入有n、p、as等第15族元素等的情况下，这些元素与第13族元素(尤其是镓)键结的影响等得到抑制，且容易发现能使无机表面层的硬度或电气特性提升的氧及第13族元素(尤其是镓)组成比(氧/第13族元素(尤其是镓))的合理范围。所述元素构成比率的和就所述观点而言优选95原子％以上，更优选96原子％以上，进而优选97原子％以上。

在无机表面层中，除所述无机材料以外，为了控制导电型，例如在n型的情况下，也可以包含选自c、si、ge、sn中的一个以上的元素。另外，例如在p型的情况下，也可以包含选自n、be、mg、ca、sr中的一个以上的元素。

这里，在无机表面层是包含镓与氧以及视需要的氢而构成的情况下，就机械强度、透光性、柔软性优异，且其导电控制性优异的观点而言，适合的元素构成比率如下。

镓的元素构成比率例如相对于无机表面层的全部构成元素而言，宜为15原子％以上且50原子％以下，理想为20原子％以上且40原子％以下，更理想为20原子％以上且30原子％以下。

氧的元素构成比率例如相对于无机表面层的全部构成元素而言，宜为30原子％以上且70原子％以下，理想为40原子％以上且60原子％以下，更理想为45原子％以上且55原子％以下。

氢的元素构成比率例如相对于无机表面层的全部构成元素而言，宜为10原子％以上且40原子％以下，理想为15原子％以上且35原子％以下，更理想为20原子％以上且30原子％以下。

这里，无机表面层中的各元素的元素构成比率、原子数比等也包含厚度方向的分布在内是利用卢瑟福背散射(rutherfordbaekscattering，以下称作“rbs”)而求出。

再者，在rbs中，加速器使用日本电气(nipponelectriccompany，limited，nec)公司的3sdh派乐特隆(pelletron)，终端站(endstation)使用ce&a公司的rbs-400，系统使用3s-r10。分析时使用ce&a公司的海普拉(hypra)程序等。

再者，关于rbs的测定条件，将he++离子束能量设为2.275ev、检测角度160°、相对于入射束而掠射角(grazingangle)为约109°。

具体来说，rbs测定是以如下方式进行。

首先，将he++离子束相对于试样而垂直入射，并将检测器相对于离子束而设置成160°，对被后向散射的he的信号进行测定。根据所检测到的he的能量与强度来决定组成比和膜厚。为了使求出组成比及膜厚的精度提升，也可以利用两个检测角度来测定光谱。利用深度方向解析力或后向散射力学不同的两个检测角度来测定并进行交叉校验，由此，精度提升。

通过目标原子而被后向散射的he原子的数量仅取决于1)目标原子的原子编号、2)散射前的he原子的能量、3)散射角度这三个要素。

根据所测定到的组成并通过计算来对密度进行假设，并使用其算出厚度。密度的误差为20％以内。

再者，氢的元素构成比率是利用氢前向散射(hydrogenforwardscattering，以下称作“hfs”)而求出。

在hfs测定中，加速器使用日本电气(nipponelectriccompany，limited，nec)公司的3sdh派乐特隆(pelletron)，终端站使用ce&a公司的rbs-400，系统使用3s-r10。分析时使用ce&a公司的海普拉(hypra)程序。而且，hfs的测定条件如下。

·he++离子束能量：2.275ev

·检测角度：160°相对于入射束而掠射角(grazingangle)为30°

关于hfs测定，以相对于he++离子束而检测器成为30°，且试样自法线起成为75°的方式进行设置，由此，拾取散射于试样前方的氢的信号。此时，宜为利用铝箔将检测器覆盖，并将与氢一同散射的he原子去除。定量是通过以下方式进行：利用阻止本领将参照用试样与被测定试样的氢的计数加以标准化之后进行比较。作为参照用试样，使用在si中离子注入h而成的试样与白云母。

已知白云母的氢浓度为6.5原子％。

吸附于最表面的h例如通过减去吸附于洁净的si表面上的h量来进行修正。

再者，无机表面层视目的也可以沿厚度方向在组成比中具有分布，或者也可以包含多层构成。

-无机表面层的特性-

无机表面层的外周面(即，电子照相感光体的表面)的表面粗糙度ra(算数平均表面粗糙度ra)例如可列举5nm以下，优选4.5nm以下，更优选4nm以下。

通过将所述表面粗糙度ra设为所述范围，可抑制带电不均。

再者，将表面粗糙度ra设为所述范围例如可列举：将电荷传输层中的无机表面层侧的表面的表面粗糙度ra设为所述范围等方法。

另外，关于无机表面层的外周面的表面粗糙度ra的测定，除了对无机表面层的外周面进行直接测定以外，与所述电荷传输层中的无机表面层侧的表面的表面粗糙度ra的测定方法相同。

无机表面层的体积电阻率优选5.0×10⁷ωcm以上且不足1.0×10¹²ωcm。就更容易抑制像流失的发生、且更容易抑制由感光体表面的损伤所致的图像缺陷的方面而言，无机表面层的体积电阻率更优选8.0×10⁷ωcm以上且7.0×10¹¹ωcm以下，进而优选1.0×10⁸ωcm以上且5.0×10¹¹ωcm以下，尤其优选5.0×10⁸ωcm以上且2.0×10¹¹ωcm以下。

所述体积电阻率是根据使用nf公司制造的电感电容电阻测试仪(inductance，capacitanceandresistancemeter，lcrmeter)zm2371且在频率1khz、电压1v的条件下测定的电阻值，并基于电极面积、试样厚度进行计算而求出。

再者，测定试样可为在成为测定对象的无机表面层的成膜时的相同条件下成膜于铝基体上，并通过真空蒸镀将金电极形成于所述成膜物上而获得的试样，或者也可为将无机表面层从制作后的电子照相感光体剥离，并进行部分蚀刻，利用一对电极将其夹住而成的试样。

无机表面层理想为微晶膜、多晶膜、非晶膜等非单晶膜。这些膜中，就表面的平滑性而言，尤其理想为非晶，但就硬度的方面而言，更理想为微晶膜。

无机表面层的成长剖面可采用柱状结构，但就滑动性的观点而言，理想为平坦性高的结构，且理想为非晶。

再者，结晶性、非晶性是根据通过反射高能电子衍射(reflectionhigh-energyelectrondiffraction，rheed)(反射高速电子束衍射)测定而获得的衍射像的点或线的有无来判别。

无机表面层的弹性模量宜为30gpa以上且80gpa以下，理想为40gpa以上且65gpa以下。

若将所述弹性模量设为所述范围，则容易抑制无机表面层的凹部(凹痕状的损伤)的产生、剥落或破裂。

所述弹性模量使用如下平均值，所述平均值是使用mts系统(systems)公司制造的纳米压痕仪(nanoindenter)sa2并利用连续刚度法(csm)(美国专利4848141)获得深度分布，并根据其压入深度30nm至100nm的测定值而获得。下述为测定条件。

·测定环境：23℃、55％rh

·使用压头：金刚石制正三角锥压头(伯科维奇(berkovic)压头)三角锥压头

·试验模式：csm模式

再者，测定试样可为在成为测定对象的无机表面层的成膜时的相同条件下成膜于铝基体上而成的试样，或者也可为将无机表面层从制作后的电子照相感光体剥离，并进行部分蚀刻而成的试样。

无机表面层的膜厚例如宜为0.2μm以上且10.0μm以下，理想为0.4μm以上且5.0μm以下。

若将所述膜厚设为所述范围，则容易抑制无机表面层的凹部(凹痕状的损伤)的产生、剥落或破裂。

-无机表面层的形成-

无机表面层的形成例如利用等离子体化学气相沉积(chemicalvapordeposition，cvd)法、有机金属气相沉积法、分子束外延法、蒸镀、溅射等公知的气相成膜法。

以下，针对无机表面层的形成，一面在附图中示出成膜装置的一例，一面列举具体例来说明。再者，以下说明示出包含镓、氧及氢而构成的无机表面层的形成方法，但不限于此，只要根据目标无机表面层的组成来应用众所周知的形成方法即可。

图4(a)、图4(b)是表示本实施方式的电子照相感光体的无机表面层的形成中所使用的成膜装置的一例的概略示意图，图4(a)表示从侧面观察成膜装置时的示意剖面图，图4(b)表示图4(a)所示的成膜装置的a1-a2之间的示意剖面图。图4(a)、图4(b)中，210为成膜室，211为排气口，212为基体旋转部，213为基体支撑构件，214为基体，215为气体导入管，216为具有喷射从气体导入管215导入的气体的开口的簇射喷嘴(showernozzle)，217为等离子体扩散部，218为高频电力供给部，219为平板电极，220为气体导入管，221为高频放电管部。

在图4(a)、图4(b)所示的成膜装置中，在成膜室210的一端设置有连接于未图示的真空排气装置的排气口211，在成膜室210的设置有排气口211的一侧的相反侧设置有包含高频电力供给部218、平板电极219及高频放电管部221的等离子体发生装置。

所述等离子体发生装置包括：高频放电管部221；平板电极219，配置于高频放电管部221内，且放电面设置于排气口211侧；及高频电力供给部218，配置于高频放电管部221外，且连接于平板电极219的放电面的相反侧的面。再者，高频放电管部221上连接有用以向高频放电管部221内供给气体的气体导入管220，所述气体导入管220的另一端连接于未图示的第一气体供给源。

再者，也可以使用图5所示的等离子体发生装置来代替设置于图4(a)、图4(b)所示的成膜装置中的等离子体发生装置。图5是表示图4(a)、图4(b)所示的成膜装置中所利用的等离子体发生装置的另一例的概略示意图，且为等离子体发生装置的侧面图。图5中，222表示高频线圈，223表示石英管，220与图4(a)中所示者相同。所述等离子体发生装置包括石英管223、以及沿着石英管223的外周面设置的高频线圈222，石英管223的其中一端连接于成膜室210(图5中未图示)。另外，在石英管223的另一端连接有用以向石英管223内导入气体的气体导入管220。

图4(a)、图4(b)中，在平板电极219的放电面侧连接有沿着放电面延伸的棒状的簇射喷嘴216，簇射喷嘴216的一端与气体导入管215连接，所述气体导入管215与设置于成膜室210外的未图示的第二气体供给源连接。

另外，在成膜室210内设置有基体旋转部212，圆筒状的基体214是以簇射喷嘴216与基体214沿着簇射喷嘴216的长度方向与基体214的轴方向相对的方式经由基体支撑构件213而被安装于基体旋转部212。在成膜时，基体旋转部212进行旋转，由此基体214沿圆周方向旋转。再者，作为基体214，例如使用将到有机感光层为止预先层叠而成的感光体等。

无机表面层的形成例如以如下方式实施。

首先，将氧气(或者氦(he)稀释氧气)、氦(he)气、及视需要的氢(h2)气从气体导入管220导入至高频放电管部221内，并且从高频电力供给部218向平板电极219供给13.56mhz的无线电波。此时，以从平板电极219的放电面侧朝排气口211侧呈放射状扩展的方式形成有等离子体扩散部217。这里，从气体导入管220导入的气体在成膜室210内从平板电极219侧流向排气口211侧。平板电极219也可为利用接地屏蔽包围在电极周围而成者。

接下来，将三甲基镓气体经由气体导入管215、位于作为活化部件的平板电极219的下游侧的簇射喷嘴216导入至成膜室210，由此，将包含镓、氧及氢的非单晶膜成膜于基体214表面。

作为基体214，例如使用形成有有机感光层的基体。

由于使用具有有机感光层的有机感光体，因此无机表面层的成膜时的基体214表面的温度理想为150℃以下，更理想为100℃以下，尤其理想为30℃以上且100℃以下。

当基体214表面的温度即便在成膜开始当初为150℃以下，但由于等离子体的影响而变得高于150℃的情况下，存在有机感光层因热而受到损伤的情形，因此理想为考虑到所述影响来控制基体214的表面温度。

基体214表面的温度可通过加热部件及冷却部件中的至少一者(图中，未图示)来控制，或者也可以任由放电时的自然的温度上升。在对基体214进行加热的情况下，也可以将加热器设置于基体214的外侧或内侧。在对基体214进行冷却的情况下，也可以使冷却用的气体或液体在基体214的内侧循环。

在想要避免由放电引起的基体214表面的温度上升的情况下，有效的是对照射于基体214表面的高能的气体流进行调节。这种情况下，以成为所需温度的方式对气体流量或放电输出、压力等条件进行调整。

另外，还可以使用包含铝的有机金属化合物或二硼烷等氢化物来代替三甲基镓气体，也可以将它们的两种以上加以混合。

例如，若在无机表面层的形成初期，通过将三甲基铟经由气体导入管215、簇射喷嘴216导入至成膜室210内，而在基体214上将包含氮与铟的膜成膜，则所述膜吸收在继续成膜时所产生并使有机感光层劣化的紫外线。因此，可抑制由成膜时的紫外线的产生对有机感光层的损害。

另外，作为成膜时的掺杂剂的掺杂方法，作为n型用途而以气体状态使用sih3、snh4，作为p型用途而以气体状态使用双环戊二烯基镁、二甲基钙、二甲基锶等。另外，将掺杂剂元素掺杂于表面层中也可以采用热扩散法、离子注入法等公知的方法。

具体来说，例如通过将包含至少一个以上掺杂剂元素的气体经由气体导入管215、簇射喷嘴216导入至成膜室210内来获得n型、p型等导电型的无机表面层。

在使用图4(a)、图4(b)及图5说明的成膜装置中，可设置多个活性装置来独立地控制因放电能量而形成的活性氮或活性氢，或者也可以使用nh3等同时包含氮原子与氢原子的气体。进而也可以添加h2。另外，也可以使用从有机金属化合物中游离生成活性氢这一条件。

如此一来，经活化的碳原子、镓原子、氮原子、氢原子等以被控制的状态存在于基体214表面上。而且，经活化的氢原子具有使构成有机金属化合物的甲基或乙基等烃基的氢以分子形式脱离的效果。

因此，构成三维键结的硬质膜(无机表面层)得以形成。

图4(a)、图4(b)及图5所示的成膜装置的等离子体发生部件使用高频振荡装置，但并不限定于此，例如，也可使用微波振荡装置，或者也可以使用电子回旋(electrocyclotron)共振方式或螺旋波等离子体(heliconplasma)方式的装置。另外，在高频振荡装置的情况下，可为感应型，也可为电容型。

进而，可将这些装置的两种以上组合使用，也可以使用两个以上的同种装置。为了利用等离子体的照射来抑制基体214表面的温度上升，理想为高频振荡装置，但也可以设置对热的照射进行抑制的装置。

在使用两种以上不同的等离子体发生装置(等离子体发生部件)的情况下，理想为在相同压力下同时发生放电。另外，也可对放电的区域和成膜的区域(设置有基体的部分)设置压力差。这些装置可在成膜装置内相对于从气体被导入的部分朝被排出的部分所形成的气流而串联配置，或者也可以任一装置均与基体的成膜面相对的方式配置。

例如，在将两种等离子体发生部件相对于气流而串联设置的情况下，若以图4(a)、图4(b)所示的成膜装置举例，则所述等离子体发生部件被用作以簇射喷嘴216为电极而在成膜室210内引起放电的第二等离子体发生装置。所述情况下，例如经由气体导入管215而对簇射喷嘴216施加高频电压，并以簇射喷嘴216为电极而在成膜室210内引起放电。或者，在成膜室210内的基体214与平板电极219之间设置圆筒状的电极来代替将簇射喷嘴216用作电极，利用所述圆筒状电极在成膜室210内引起放电。

另外，当在同一压力下利用不同的两种等离子体发生装置的情况下，例如在使用微波振荡装置与高频振荡装置的情况下，可大大改变激发种的激发能，并对膜质的控制有效。另外，放电可在大气压附近(70000pa以上且110000pa以下)进行。在大气压附近进行放电的情况下，理想为使用he作为载气。

关于无机表面层的形成，例如，将在基体上形成有有机感光层的基体214设置于成膜室210，并将组成各不相同的混合气体导入，从而形成无机表面层。

另外，作为成膜条件，例如在利用高频放电进行放电的情况下，在低温下进行优质的成膜理想为将频率设为10khz以上且50mhz以下的范围。另外，输出依赖于基体214的大小，但理想为相对于基体的表面积而设为0.01w/cm²以上且0.2w/cm²以下的范围。基体214的旋转速度理想为0.1rpm以上且500rpm以下的范围。

(单层型感光层)

单层型感光层(电荷产生/电荷传输层)例如为包含电荷产生材料与电荷传输材料、以及视需要的粘结树脂及其他众所周知的添加剂的层。再者，这些材料与在电荷产生层及电荷传输层中所说明的材料相同。

而且，在单层型感光层中，电荷产生材料的含量相对于总固体成分宜为0.1质量％以上且10质量％以下，优选为0.8质量％以上且5质量％以下。另外，在单层型感光层中，电荷传输材料的含量相对于总固体成分宜为5质量％以上且50质量％以下。

单层型感光层的形成方法与电荷产生层或电荷传输层的形成方法相同。

单层型感光层的膜厚例如宜为5μm以上且50μm以下，优选为10μm以上且40μm以下。

[带电装置]

带电装置15使感光体12的表面带电。带电装置15例如以接触或非接触的方式设置于感光体12表面，并具备使感光体12的表面带电的带电构件14、及对带电构件14施加带电电压的电源28(带电构件用的电压施加部的一例)。电源28电性连接于带电构件14。

作为带电装置15的带电构件14，例如可列举使用导电性的带电辊、带电刷、带电膜、带电橡胶刮板、带电管等的接触方式的带电器。另外，作为带电构件14，例如还可列举：非接触方式的辊带电器、利用电晕放电的有栅格电极式(scorotron)带电器或无栅格电极式(corotron)带电器等其自身公知的带电器等。

再者，尤其在作为带电装置而具备与感光体接触并带电的带电辊的情况下，容易因脂肪酸金属盐而发生带电辊表面的污染。但是，在本实施方式的图像形成装置10中，认为通过具备含有第13族元素及氧的无机表面层并利用与脂肪酸金属盐的高亲和性，而脂肪酸金属盐自感光体表面的脱离得到抑制。因此，即便在脂肪酸金属盐的供给量增加到例如源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率超过40％的程度的情况下，也可抑制由脂肪酸金属盐引起的带电辊表面的污染。

[静电荷像形成装置]

静电荷像形成装置16在带电的感光体12的表面形成静电荷像。具体来说，例如静电荷像形成装置16朝通过带电构件14而被带电的感光体12的表面照射基于成为所要形成的对象的图像的图像信息而被调制的光l，并在感光体12上形成与图像信息的图像相应的静电荷像。

作为静电荷像形成装置16，例如可列举具有将半导体激光光、led光、液晶快门光等光如像那样进行曝光的光源的光学系统设备等。

[显影装置]

显影装置18例如相较于利用静电荷像形成装置16进行的光l的照射位置而设置于感光体12的旋转方向下游侧。在显影装置18内设置有收容显影剂的收容部。在所述收容部中收容有具有色粉的静电荷像显影剂。色粉例如是以带电的状态收容于显影装置18内。

另外，在图1所示的图像形成装置10内，在收容于显影装置18内的显影剂(其色粉)中添加有脂肪酸金属盐的粒子，亦即，显影装置18兼作向感光体12的表面与清洁刮板22a的接触部供给脂肪酸金属盐的供给装置。

再者，关于添加到显影剂(其色粉)中的脂肪酸金属盐的粒子的详细情况，将在后面叙述。

显影装置18例如具备：显影构件18a，利用包含色粉的显影剂将形成于感光体12表面的静电荷像显影；及电源32，对显影构件18a施加显影电压。所述显影构件18a例如电性连接于电源32。

作为显影装置18的显影构件18a，可根据显影剂的种类来选择，例如可列举具有内置有磁铁的显影套筒(sleeve)的显影辊。

显影装置18(包含电源32)例如电性连接于设置在图像形成装置10中的控制装置36，并由控制装置36进行驱动控制，对显影构件18a施加显影电压。施加有显影电压的显影构件18a被带电至与显影电压相应的显影电位。而且，被带电至显影电位的显影构件18a例如将收容于显影装置18内的显影剂保持在表面，并将显影剂中所包含的色粉从显影装置18内供给于感光体12表面。在被供给有色粉的感光体12表面将所形成的静电荷像作为色粉图像来显影。

[转印装置]

转印装置31例如相较于显影构件18a的配设位置而设置于感光体12的旋转方向下游侧。转印装置31例如具备：转印构件20，将形成于感光体12的表面的色粉图像转印到记录介质30a；及电源30，对转印构件20施加转印电压。转印构件20例如被设为圆柱状，并在与感光体12之间夹着记录介质30a进行搬送。转印构件20例如电性连接于电源30。

作为转印构件20，例如可列举：使用带、辊、膜、橡胶清洁刮板等的接触型转印带电器、利用电晕放电的有栅格电极式转印带电器或无栅格电极式转印带电器等其自身公知的非接触型转印带电器。

转印装置31(包含电源30)例如电性连接于设置在图像形成装置10中的控制装置36，并由控制装置36进行驱动控制，对转印构件20施加转印电压。施加有转印电压的转印构件20被带电至与转印电压相应的转印电位。

若从转印构件20的电源30向转印构件20施加与构成形成于感光体12上的色粉图像的色粉为相反极性的转印电压，则例如在感光体12与转印构件20相向的区域(图1中，参照转印区域32a)形成利用静电力使构成感光体12上的色粉图像的各色粉从感光体12向转印构件20侧移动的电场强度的转印电场。

记录介质30a例如被收容于省略了图示的收容部中，并由省略了图示的多个搬送构件从所述收容部沿着搬送路径34搬送，到达作为感光体12与转印构件20的相向区域的转印区域32a。在图1中所示的例子中，沿箭头b方向被搬送。关于到达了转印区域32a的记录介质30a，例如通过因对转印构件20施加转印电压而形成于所述区域的转印电场来转印感光体12上的色粉图像。即，例如利用色粉从感光体12表面朝记录介质30a的移动而将色粉图像转印于记录介质30a上。然后，感光体12上的色粉图像通过转印电场而被转印到记录介质30a上。

[清洁装置]

清洁装置22相较于转印区域32a而设置于感光体12的旋转方向下游侧。将色粉图像转印到记录介质30a上之后，清洁装置22对附着于感光体12上的残余色粉进行清洁(清扫)。在清洁装置22中，除残余色粉以外，还对纸粉等附着物进行清洁。

清洁装置22具有清洁刮板22a，使清洁刮板22a的前端朝向与感光体12的旋转方向相对的方向进行接触，从而将感光体12表面的附着物去除。

这里，参照图3来说明清洁装置22。

图3是表示图1所示的清洁装置22中的清洁刮板22a的设置形态的概略构成图。

如图3所示，清洁刮板22a的前端朝向与感光体12的旋转方向(箭头方向)相对的方向，并在所述状态下接触感光体12的表面。

清洁刮板22a与感光体12之间的角度θ优选设定为5°以上且35°以下，更优选设定为10°以上且25°以下。

另外，清洁刮板22a对感光体12的按压压力n优选设定为0.6gf/mm²以上且6.0gf/mm²以下。

这里，所谓所述角度θ，具体来说，如图3所示，是指由清洁刮板22a的前端与感光体12的接触部的切线(图3中的一点划线)和清洁刮板22a的非变形部所成的角的角度。

另外，所谓所述按压压力n，如图3所示，为在清洁刮板22a与感光体12接触的位置朝感光体12的中心按压的压力(gf/mm²)。

再者，本实施方式中的清洁刮板22a是具有弹性的板状物。作为构成清洁刮板22a的材料，例如使用硅酮橡胶、氟橡胶、乙烯·丙烯·二烯橡胶、聚氨基甲酸酯橡胶等弹性材料，其中，优选耐磨损性、耐缺口性、耐蠕变性等机械性质优异的聚氨基甲酸酯橡胶。

清洁刮板22a在与感光体12接触的面的相反面侧接合有支撑构件(图3中未图示)，并由所述支撑构件加以支撑。利用所述支撑构件并以所述按压压力将清洁刮板22a按压于感光体12。作为支撑构件，可列举铝、不锈钢等金属材料。再者，在支撑构件与清洁刮板22a之间也可具有用以对两者的粘接进行接合的利用粘接剂等的粘接层。

清洁装置22除清洁刮板22a和对其进行支撑的支撑构件以外，也可以包含公知的构件。

[除电装置]

除电装置24例如相较于清洁装置22而设置于感光体12的旋转方向下游侧。在将色粉图像转印之后，除电装置24对感光体12的表面进行曝光并除电。具体来说，例如除电装置24电性连接于设置在图像形成装置10中的控制装置36，并由控制装置36进行驱动控制，对感光体12的整个表面(具体来说，例如图像形成区域的整个表面)进行曝光并除电。

作为除电装置24，例如可列举具有照射白色光的钨灯、照射红色光的发光二极管(led)等光源的装置。

[定影装置]

定影装置26例如相较于转印区域32a而设置于记录介质30a的搬送路径34的搬送方向下游侧。定影装置26具有定影构件26a、及与定影构件26a接触地配置的加压构件26b，在定影构件26a与加压构件26b的接触部将转印到记录介质30a上的色粉图像定影。具体来说，例如定影装置26电性连接于设置在图像形成装置10中的控制装置36，并由控制装置36进行驱动控制，利用热和压力将转印到记录介质30a上的色粉图像定影于记录介质30a。

作为定影装置26，可列举其自身公知的定影器，例如热辊定影器、烘箱定影器等。

具体来说，例如定影装置26可应用具备作为定影构件26a的定影辊或定影带与作为加压构件26b的加压辊或加压带的、众所周知的定影装置。

这里，通过沿着搬送路径34被搬送并在感光体12与转印构件20相向的区域(转印区域32a)穿过而被转印有色粉图像的记录介质30a例如通过省略了图示的搬送构件而进一步沿着搬送路径34到达定影装置26的设置位置，并进行记录介质30a上的色粉图像的定影。

通过色粉图像的定影而形成图像的记录介质30a被省略了图示的多个搬送构件排出至图像形成装置10的外部。再者，感光体12在利用除电装置24进行除电之后，再次被带电装置15带电至带电电位。

[图像形成装置的动作]

对本实施方式的图像形成装置10的动作的一例进行说明。再者，图像形成装置10的各种动作是通过在控制装置36中执行的控制程序来进行。

对图像形成装置10的图像形成动作进行说明。

首先，感光体12的表面通过带电装置15而被带电。静电荷像形成装置16基于图像信息而对带电的感光体12的表面进行曝光。由此，在感光体12上形成与图像信息相应的静电荷像。在显影装置18中，利用包含色粉的显影剂将形成于感光体12表面的静电荷像显影。由此，在感光体12的表面形成色粉图像。另外，在收容于显影装置18中的显影剂(其色粉)中添加有脂肪酸金属盐的粒子，也将脂肪酸金属盐的粒子与色粉一同供给于感光体12的表面。

在转印装置31中，将形成于感光体12表面的色粉图像转印于记录介质30a。转印到记录介质30a上的色粉图像通过定影装置26而被定影。

另一方面，转印了色粉图像之后的感光体12的表面利用清洁装置22中的清洁刮板22a进行清洁(清扫)，其后，利用除电装置24来除电。再者，显影装置18中被供给至感光体12表面的脂肪酸金属盐的粒子的一部分在利用转印装置31转印色粉图像之后仍残留在感光体12表面，并被供给于清洁刮板22a与感光体12的接触位置。

因此，通过在清洁刮板22a与感光体12的接触位置介隔有脂肪酸金属盐，而发挥利用清洁刮板22a实现的高清扫性能。

〔静电荷像显影剂〕

接下来，在本实施方式的图像形成装置中，对收容于显影部件中的静电荷像显影剂(以下也称作“本实施方式的静电荷像显影剂”)进行说明。

本实施方式的静电荷像显影剂至少包含色粉。

本实施方式的静电荷像显影剂可为仅包含色粉的单组分显影剂，或者也可为包含色粉与载体的双组分显影剂。

色粉也可具有色粉粒子，并在具有色粉粒子的同时具有外部添加剂。

·色粉粒子

色粉粒子例如也可包含粘结树脂(例如聚酯树脂)，且包含着色剂、脱模剂、其他添加剂等。

色粉粒子可为单层结构的色粉粒子，或者也可为包含芯部(核粒子)与将芯部被覆的被覆层(壳层)的、所谓核壳结构的色粉粒子。

作为色粉粒子的体积平均粒径(d50v)，优选2μm以上且10μm以下，更优选4μm以上且8μm以下。

再者，色粉粒子的各种平均粒径及各种粒度分布指标利用库尔特计数仪(coultermultisizer)ii(贝克曼·库尔特(beckman-coulter)公司制造)并使用伊索通(isoton)-ii(贝克曼·库尔特(beckman-coulter)公司制造)作为电解液来测定。

测定时，作为分散剂，在表面活性剂(优选烷基苯磺酸钠)的5％水溶液2ml中添加0.5mg以上且50mg以下的测定试样。将其添加于100ml以上且150ml以下的电解液中。

悬浮有试样的电解液利用超声波分散器进行1分钟分散处理，利用库尔特计数仪ii并使用孔径100μm的孔(aperture)来测定2μm以上且60μm以下的范围的粒径的粒子的粒度分布。再者，采样的粒子数为50000个。

针对基于所测定的粒度分布而分割的粒度范围(通道)，对体积、数量分别从小径侧起描绘累积分布，将累积成为16％的粒径定义为体积粒径d16v、数量粒径d16p，将累积成为50％的粒径定义为体积平均粒径d50v、数量平均粒径d50p，将累积成为84％的粒径定义为体积粒径d84v、数量粒径d84p。

使用这些粒径，将体积粒度分布指标(volumegrainsizedistributionindex，gsdv)算出为(d84v/d16v)^1/2，将数量粒度分布指标(numbergrainsizedistributionindex，gsdp)算出为(d84p/d16p)^1/2。

作为色粉粒子的平均圆形度，优选0.94以上且1.00以下，更优选0.95以上且0.98以下。

色粉粒子的平均圆形度是通过(圆当量周长)/(周长)[(具有与粒子像相同的投影面积的圆的周长)/(粒子投影像的周长)]而求出。具体来说，为利用以下方法测定所得的值。

首先，抽吸提取成为测定对象的色粉粒子而形成扁平流，并使其瞬间频闪发光，由此将粒子像作为静止图像而导入，并利用对所述粒子像进行图像分析的流(flow)式粒子像分析装置(希森美康(sysmex)公司制造的弗帕(fpia)-3000)来求出平均圆形度。而且，将求出平均圆形度时的采样数量设为3500个。

再者，在色粉具有外部添加剂的情况下，使成为测定对象的色粉(显影剂)分散于包含表面活性剂的水中之后，进行超声波处理，从而获得去除了外部添加剂的色粉粒子。

·外部添加剂

作为外部添加剂，例如可列举无机粒子。作为所述无机粒子，可列举：sio2、tio2、al2o3、cuo、zno、sno2、ceo2、fe2o3、mgo、bao、cao、k2o、na2o、zro2、cao·sio2、k2o·(tio2)n、al2o3·2sio2、caco3、mgco3、baso4、mgso4等。

作为外部添加剂的无机粒子的表面宜为实施有疏水化处理。疏水化处理例如将无机粒子浸渍于疏水化处理剂中等来进行。疏水化处理剂并无特别限制，例如可列举：硅烷系偶联剂、硅油、钛酸酯系偶联剂、铝系偶联剂等。这些疏水化处理剂可单独使用一种，或者也可并用两种以上。

作为疏水化处理剂的量，通常，例如相对于无机粒子100质量份而为1质量份以上且10质量份以下。

作为外部添加剂，还可列举：树脂粒子(聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate，pmma)、三聚氰胺树脂等树脂粒子)、清洁活性剂(例如氟系高分子量体的粒子)等。

作为外部添加剂的外部添加量，例如相对于色粉粒子而优选0.01质量％以上且5质量％以下，更优选0.01质量％以上且2.0质量％以下。

·脂肪酸金属盐

在从收容于显影装置18中的显影剂(其色粉)中向感光体12进行脂肪酸金属盐的供给的情况下，亦即，在显影装置18兼作脂肪酸金属盐供给构件的情况下，色粉包含脂肪酸金属盐的粒子作为外部添加剂。

脂肪酸可为饱和脂肪酸或不饱和脂肪酸中的任一者。作为脂肪酸，可列举碳数10以上且25以下(优选12以上且22以下)的脂肪酸。再者，脂肪酸的碳数包含羧基的碳。作为金属，宜为2价金属。作为金属，例如可列举：镁、钙、铝、钡、锌。这些之中，金属优选锌。

作为脂肪酸金属盐的粒子，例如可列举：硬脂酸的金属盐、棕榈酸的金属盐、月桂酸的金属盐、油酸的金属盐、亚油酸的金属盐、蓖麻油酸的金属盐等。

这些之中，作为脂肪酸金属盐的粒子，优选硬脂酸的金属盐、或月桂酸的金属盐，更优选硬脂酸锌、或月桂酸锌的各粒子，进而优选硬脂酸锌。

脂肪酸金属盐的粒子的体积平均粒径优选相对于色粉粒子的体积平均粒径而为0.8倍以上且1.2倍以下。具体来说，脂肪酸金属盐的粒子的体积平均粒径优选0.3μm以上且8μm以下，更优选0.5μm以上且5.0μm以下。

再者，脂肪酸金属盐的粒子的体积平均粒径为利用以下方法测定所得的值。

首先，利用扫描式电子显微镜(sem)对成为测定对象的色粉进行观察。然后，通过图像分析来求出成为测定对象的100个脂肪酸金属盐的粒子各自的圆当量直径，将从其体积基准的分布中的小径侧起个数累积50％(第50个)的圆当量直径设为体积平均粒径。

关于求出成为测定对象的100个脂肪酸金属盐的粒子的圆当量直径的图像分析，使用分析装置(era-8900：埃林克斯(elionix)公司制造)拍摄倍率10,000倍的二维图像，使用图像分析软件温卢夫(winroof)(三谷商事公司制造)并在0.010000μm/像素(pixel)的条件下求出投影面积，利用式：圆当量直径＝-2√(投影面积/π)来求出圆当量直径。

脂肪酸金属盐的粒子的含量(外部添加量)相对于色粉粒子100质量份而优选0.02质量份以上且5质量份以下，更优选0.05质量份以上且3.0质量份以下，进而优选0.08质量份以上且1.0质量份以下。

(脂肪酸金属盐的供给装置的其他形态)

图1中，作为向感光体12表面供给脂肪酸金属盐的方法，对将脂肪酸金属盐的粒子外部添加至收容于显影装置18中的显影剂(其色粉)中、亦即使显影装置18兼作供给部件的方法进行了说明。但是，本实施方式中的供给部件的形态不限定于此，例如，如图2所示，也可为另外具备将脂肪酸金属盐供给于感光体12的表面的外部供给装置64的形态。再者，所述形态中，也可不应用包含脂肪酸金属盐的粒子的显影剂(其色粉)。

这里，外部供给装置64例如采用具有旋转刷66b的装置等众所周知的装置，其中，旋转刷66b刮取脂肪酸金属盐66a并将所刮取的脂肪酸金属盐66a供给于感光体12的表面。

由此，将脂肪酸金属盐供给至清洁刮板22a与感光体12的接触位置，从而利用与感光体12表面接触的清洁刮板22a发挥高清扫性能。

作为脂肪酸金属盐66a，适宜使用固体脂肪酸金属盐。

再者，作为脂肪酸金属盐的优选例子，同样优选作为外部添加于色粉中的脂肪酸金属盐的粒子而例示的所述者。

本实施方式中所说明的图像形成装置的构成为一例，当然也可在不脱离本实施方式的主旨的范围内对其构成进行变更。

[实施例]

以下，举出实施例及比较例来更具体地对本发明进行详细说明，但本发明丝毫不限定于这些实施例。

<电子照相感光体的制作>

[二氧化硅粒子的准备]

向未处理(亲水性)二氧化硅粒子“商品名：ox50(制造商艾罗西尔(aerosil)公司制造)，体积平均粒径：40nm”100质量份中添加作为疏水化处理剂的三甲基硅烷化合物(1，1，1，3，3，3-六甲基二硅氮烷(东京化成公司制造))30质量份，使其反应24小时，其后进行滤取，从而获得经疏水化处理的二氧化硅粒子。将其设为二氧化硅粒子(1)。所述二氧化硅粒子(1)的缩合率为93％。

[电子照相感光体1的制作]

一底涂层的制作-

将氧化锌(平均粒径70nm：帝化(tayca)公司制造：比表面积值15m2/g)100质量份与四氢呋喃500质量份搅拌混合，并添加硅烷偶联剂(kbm503：信越化学工业公司制造)1.3质量份，搅拌2小时。其后，通过减压蒸馏将四氢呋喃蒸馏去除，并在120℃下进行3小时焙烤，从而获得硅烷偶联剂表面处理氧化锌。

将实施有所述表面处理的氧化锌(硅烷偶联剂表面处理氧化锌)110质量份与500质量份的四氢呋喃搅拌混合，并添加使茜素0.6质量份溶解于50质量份的四氢呋喃中而成的溶液，在50℃下搅拌5小时。其后，通过减压过滤对赋予有茜素的氧化锌进行过滤分离，并进一步在60℃下进行减压干燥，从而获得茜素赋予氧化锌。

获得将所述茜素赋予氧化锌60质量份、固化剂(封端化异氰酸酯苏米都(sumidur)3175，住友拜尔聚氨酯(bayerurethane)公司制造)13.5质量份、缩丁醛树脂(埃斯莱克(s-lec)bm-1，积水化学工业公司制造)15质量份、及甲基乙基酮85质量份混合而成的混合液。将所述混合液38质量份与甲基乙基酮25质量份混合，使用1mmφ的玻璃珠并利用砂磨机进行2小时的分散，从而获得分散液。

向所获得的分散液中添加作为催化剂的二辛基锡二月桂酸酯0.005质量份、与硅酮树脂粒子(托斯帕尔(tospearl)145，迈图高新材料(momentiveperformancematerials)公司制造)40质量份，从而获得底涂层形成用涂布液。利用浸渍涂布法将所述涂布液涂布于直径60mm、长度357mm、壁厚1mm的铝基体上，在170℃下进行40分钟的干燥固化，从而获得厚度19μm的底涂层。

-电荷产生层的制作-

使用直径1mmφ的玻璃珠并利用砂磨机对包含作为电荷产生物质的在使用cukα特性x射线的x射线衍射光谱的布拉格(bragg)角度(2θ±0.2°)至少为7.3°、16.0°、24.9°、28.0°的位置具有衍射峰值的羟基镓酞菁15质量份、与作为粘结树脂的氯乙烯·乙酸乙烯酯共聚物(vmch，诺克(nuc)股份有限公司制造)10质量份及正乙酸丁酯200质量份的混合物进行4小时分散。向所获得的分散液中添加正乙酸丁酯175质量份与甲基乙基酮180质量份，进行搅拌而获得电荷产生层形成用的涂布液。将所述电荷产生层形成用的涂布液浸渍涂布于底涂层上，在常温(25℃)下进行干燥，从而形成膜厚为0.2μm的电荷产生层。

-电荷传输层的制作-

在二氧化硅粒子(1)50质量份中加入四氢呋喃250质量份，一面保持为20℃的液温一面添加作为电荷传输材料的4-(2，2-二苯基乙基)-4′，4″-二甲基-三苯基胺25质量份、与作为粘结树脂的双酚z型聚碳酸酯树脂(粘度平均分子量：30000)25质量份，搅拌混合12小时，从而获得电荷传输层形成用涂布液。

将所述电荷传输层形成用涂布液涂布于电荷产生层上，在135℃下干燥40分钟，形成膜厚为30μm的电荷传输层，从而获得有机感光体(1)。

经过以上工序，获得在铝基体上依序层叠形成有底涂层、电荷产生层及电荷传输层的有机感光体(1)。

-无机表面层的形成-

接下来，将由包含氢的氧化镓构成的无机表面层形成于有机感光体(1)的表面。所述无机表面层的形成是使用具有图4(a)、图4(b)所示的构成的成膜装置来进行。

首先，将有机感光体(1)载置于成膜装置的成膜室210内的基体支撑构件213上，经由排气口211将成膜室210内真空排气至压力成为0.1pa为止。

接下来，将he稀释40％氧气(流量1.6sccm)与氢气(流量50sccm)从气体导入管220导入至设置有直径85mm的平板电极219的高频放电管部221内，通过高频电力供给部218及匹配电路(图4(a)、图4(b)中未图示)将13.56mhz的无线电波设置为输出150w，利用调谐器(tuner)取得匹配，并从平板电极219进行放电。此时的反射波为0w。

接下来，将三甲基镓气体(流量1.9sccm)经由气体导入管215从簇射喷嘴216导入至成膜室210内的等离子体扩散部217。此时，利用巴拉特隆(baratron)真空计测定到的成膜室210内的反应压力为5.3pa。

在这种状态下，一面使有机感光体(1)以500rpm的速度旋转一面进行68分钟成膜，从而在有机感光体(1)的电荷传输层表面形成了膜厚1.5μm的无机表面层。

无机表面层的外周面的表面粗糙度ra为1.9nm。

无机表面层中的氧和镓的元素组成比(氧/镓)为1.25。

经过以上工序，获得在导电性基体上依次形成有底涂层、电荷产生层、电荷传输层、无机表面层的电子照相感光体1。

[电子照相感光体c1(比较用)的制作]

在所述电子照相感光体1的制作中未形成无机表面层，除此以外，以同样的方式获得电子照相感光体c1。

<参考例及实施例1～实施例2>

·图像形成装置(1)的准备

作为图像形成装置(1)，准备图像形成装置“得库森特(docucentre)iv5570(富士施乐(fujixerox)公司制造)”的改造机(如图2所示，具备使清洁装置22与感光体12表面接触的聚氨基甲酸酯橡胶制的清洁刮板22a、具备将脂肪酸金属盐66a经由旋转刷66b供给于感光体12表面的外部供给装置64、且作为带电装置15而具备与感光体12接触并使表面带电的带电辊的、图像形成装置)。

清洁刮板22a与感光体12之间的角度(接触角度)θ设为11°，另外，清洁刮板22a对感光体12的按压压力n设定为2.5gf/mm²。

然后，作为脂肪酸金属盐66a，准备固体且为板状的硬脂酸锌。

将所述电子照相感光体1组装于所述图像形成装置的感光体中。

然后，通过调整来自外部供给装置64的供给量，而以成为表1所记载的数值的方式控制电子照相感光体表面的金属被覆率(锌被覆率)。

<比较例1～比较例3>

·比较用的图像形成装置(c1)的准备

准备在所述图像形成装置(1)中除了将所要组装的感光体变更为所述电子照相感光体c1以外、设为同样构成的图像形成装置(c1)。

然后，通过调整来自外部供给装置64的供给量，而以成为表1所记载的数值的方式控制电子照相感光体表面的金属被覆率(锌被覆率)。

<评价>

(感光体磨损速率)

在各例的图像形成装置中，进行形成2万张半色调浓度50％的图像的操作，根据所述图像形成前后的电子照相感光体表面的磨损量算出感光体磨损速率[nm/千循环(kcycle)](kcycle＝感光体1000转)。

(缺失(deletion)评价)

在各例的图像形成装置中，关于高温高湿环境下(28℃、85％)的缺失(图像的一部分泛白的现象，具体来说为像流失或泛白)的发生，通过以下试验来实施评价。

在高温高湿环境下，利用所述图像形成装置印刷1000张半色调浓度50％的图像，静置一夜之后印刷100张半色调浓度40％的图像，判别缺失的程度。

评价基准如下。

a(◎)：自第1张印刷图像起缺失未发生

b(○)：在第1张印刷图像中缺失发生，并在10张以内恢复为未发生状态

c(△)：在第1张印刷图像中缺失发生，并在100张以内恢复为未发生状态

d(×)：在第100张印刷图像中仍为缺失发生状态

(带电辊污染评价)

在各例的图像形成装置中，关于带电辊污染的发生，通过以下试验来实施评价。

在高温高湿环境下，利用所述图像形成装置印刷5000张半色调浓度50％的图像，在低温低湿下(10℃、15％)进一步印刷5000张之后，以目视与作为新品的带电辊进行比较，以确认污染状况。

评价基准如下。

a(◎)：与新品相比，为相同程度

b(○)：与新品相比，存在比a(◎)更白的浑浊

c(△)：与新品相比，存在比a(◎)更白的浑浊，且存在白色的线条

d(×)：与新品相比，更白

[表1]

根据所述结果可知，在使清洁刮板接触电子照相感光体的表面并进行清扫的图像形成装置中，在具有具备含有第13族元素及氧的无机表面层的电子照相感光体的实施例的图像形成装置中，与具备不具有无机表面层且感光层为构成外周表面的层的电子照相感光体的比较例的图像形成装置相比，即便是在电子照相感光体的旋转方向上较供给部件更靠下游侧且较清扫部件更靠上游侧的电子照相感光体的表面中的、在被供给脂肪酸金属盐的状态下的、源于脂肪酸金属盐的金属的被覆率为40％以上的情况下，也能兼顾利用清洁刮板实现的高清扫性能与对由脂肪酸金属盐引起的装置内污染的抑制。