一种高功率光纤布拉格光栅刻写用位相掩模片的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种高功率光纤布拉格光栅刻写用位相掩模片，其包括紫外级熔融石英基片，所述的熔融石英基片上具有一对位置相对的光学面，其中一光学面上具有用光刻法制成的微纳增透结构，另一光学面上具有用光刻法制成的微纳衍射分光结构，该方案能够为制作高功率光纤布拉格光栅应用提供高抗激光损伤，无鬼像，高衍射效率和大干涉对比度的深紫外位相掩模片。

技术研发人员：林磊;蔡光明
受保护的技术使用者：福州高意光学有限公司
技术研发日：2018.04.28
技术公布日：2019.11.05