本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩模装置及其控制方法。
背景技术
随着科技的发展，液晶显示面板的应用越来越广泛。液晶显示面板通常包括：相对设置的两个显示基板，以及设置在两个显示基板之间的液晶，且每个显示基板中朝向液晶的一侧设置有配向膜。在制造液晶显示面板的过程中，需使用掩模装置对配向材质层进行配向，以得到该配向膜。
掩模装置包括：掩模板，以及设置在掩模板一侧的紫外灯组件。在使用掩模装置对配向材质层进行配向时，可以将配向材质层置于掩模板的另一侧，并控制紫外灯组件向掩模板发射紫外光，以使得紫外光穿过掩模板中的透光区域并到达配向材质层，以形成配向膜。
相关技术中，在制造不同尺寸的液晶显示面板时，由于不同尺寸的液晶显示面板中的配向膜的尺寸也不相同，因此需要使用不同的掩模板，而频繁更换掩模板需要耗费较多时间，导致掩模装置的工作效率较低。
技术实现要素：
本申请提供了一种掩模装置及其控制方法，可以解决相关技术中掩模装置的工作效率较低的问题，所述技术方案如下：
一方面，提供了一种掩模装置，所述掩模装置包括：掩模板和控制器，所述掩模板包括多个掩模单元，所述控制器与每个所述掩模单元均连接，且每个所述掩模单元具有透光状态和遮光状态，所述控制器用于控制所述掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整所述掩模装置中的透光区域。
可选地，对每个所述掩模单元，所述掩模单元包括：透光承载结构，以及位于所述透光承载结构上的遮光液滴，所述透光承载结构具有亲水状态和疏水状态；所述控制器用于通过控制所述透光承载结构处于所述亲水状态，以控制所述掩模单元处于所述遮光状态，以及通过控制所述透光承载结构处于所述疏水状态，以控制所述掩模单元处于所述透光状态。
可选地，所述透光承载结构中靠近所述遮光液滴的一侧凸起。
可选地，所述掩模板还包括：相对设置的透光基底和透光保护层，以及位于所述透光基底和所述透光保护层之间的遮光网格结构，所述多个掩模单元均位于所述透光基底和所述透光保护层之间，所述遮光网格结构将所述透光基底划分为多个单元格，所述多个掩模单元与所述多个单元格一一对应，且每个掩模单元均位于其对应的单元格内。
可选地，所述每个掩模单元被所述透光基底、所述透光保护层和所述遮光网格结构密封。
可选地，所述掩模装置用于对形成显示面板的膜层进行掩模，所述掩模单元与所述显示面板中的亚像素单元的形状和大小均相同。
可选地，所述掩模装置还包括：与所述控制器连接且位于所述掩模板一侧的紫外灯组件，所述紫外灯组件能够向所述掩模板发射多种偏振方向的紫外偏振光，所述控制器还用于：
在多个掩模阶段中的每个掩模阶段，控制所述紫外灯组件向所述掩模板发射一种偏振方向的紫外偏振光，且所述紫外灯组件在所述多个掩模阶段中发射的紫外偏振光的偏振方向不同。
可选地，所述控制器还用于：
在每个所述掩模阶段，控制所述多个掩模单元中的至少一个掩模单元处于透光状态，以形成一组透光区域，并控制所述多个掩模单元中除所述至少一个掩模单元外的其他掩模单元均处于遮光状态，且在任意两个所述掩模阶段中形成的两组透光区域互不交叠。
另一方面，提供一种掩模控制方法，用于上述掩模装置中的控制器，所述掩模装置还包括：掩模板，所述掩模板包括多个掩模单元，所述控制器与每个所述掩模单元均连接，且每个所述掩模单元具有透光状态和遮光状态，所述方法包括：
控制所述掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整所述掩模装置中的透光区域。
可选地，对每个所述掩模单元，所述掩模单元包括：透光承载结构，以及位于所述透光承载结构上的遮光液滴，所述透光承载结构具有亲水状态和疏水状态，控制所述掩模单元处于透光状态或遮光状态，包括：
通过控制所述透光承载结构处于所述亲水状态，以控制所述掩模单元处于所述遮光状态；
通过控制所述透光承载结构处于所述疏水状态，以控制所述掩模单元处于所述透光状态。
可选地，所述掩模装置还包括：与所述控制器连接且位于所述掩模板一侧的紫外灯组件，所述紫外灯组件能够向所述掩模板发射多种偏振方向的紫外偏振光，所述方法还包括：
在多个掩模阶段中的每个掩模阶段，控制所述紫外灯组件向所述掩模板发射一种偏振方向的紫外偏振光，且所述紫外灯组件在所述多个掩模阶段中发射的紫外偏振光的偏振方向不同。
可选地，控制所述掩模单元处于透光状态或遮光状态，包括：
在每个所述掩模阶段，控制所述多个掩模单元中的至少一个掩模单元处于透光状态，以形成一组透光区域，并控制所述多个掩模单元中除所述至少一个掩模单元外的其他掩模单元均处于遮光状态，且在任意两个所述掩模阶段中形成的两组透光区域互不交叠。
本申请提供的技术方案带来的有益效果是：在对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，控制器可以控制掩模板中的掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整掩模装置的透光区域的尺寸，使得该掩模装置可以具有多种不同尺寸的透光区域，以适应多种不同尺寸的膜层。避免了掩模装置对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，需更换多种不同尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种掩模装置的结构示意图；
图2为图1中掩模装置的透光区域的尺寸为第二尺寸的示意图；
图3为本发明实施例提供的一种掩模装置的截面图；
图4为图3中掩模装置中透光承载结构被遮光液滴完全遮挡的示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种掩模装置的截面图；
图6为图5中掩模装置中透光承载结构被遮光液滴完全遮挡的示意图；
图7为本发明实施例提供的又一种掩模装置的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的一种掩模装置的主视图；
图9为图7中掩模板的第一区域未形成有透光区域，第二区域形成有透光区域的示意图；
图10为本发明实施例提供的一种掩模控制方法流程图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
相关技术中在使用掩模装置对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，需要使用不同的掩模板，而频繁更换掩模板需要耗费较多时间。本发明实施例提供了一种掩模装置，使用该掩模装置在对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，无需使用不同的掩模板，避免了频繁更换掩模板需要耗费较多时间，掩模装置的工作效率较高。
图1为本发明实施例提供的一种掩模装置的结构示意图，如图1所示，该掩模装置0可以包括：掩模板00和控制器01，掩模板00可以包括多个掩模单元001，控制器01与每个掩模单元001均连接(图1中仅示出了控制器01与多个掩模单元001中的一个掩模单元001的连接关系)，且每个掩模单元001具有透光状态和遮光状态，控制器01可以用于控制掩模单元001处于透光状态或遮光状态，以调整掩模装置0中的透光区域。
示例的，控制器01可以控制掩模板00中所有掩模单元001均处于透光状态，以将掩模装置0中的透光区域(图1中未标出)的尺寸调整为第一尺寸。如图2所示，控制器01还可以控制掩模板00中一部分掩模单元处于透光状态，以及控制掩模板00中另一部分掩模单元处于遮光状态，且该另一部分掩模单元可以包围该一部分掩模单元，以将掩模装置0中的透光区域(图2中未标出)的尺寸调整为第二尺寸，该第二尺寸可以为小于第一尺寸的任意尺寸。
综上所述，在本发明实施例提供的掩模装置中，在对多种不同的膜层进行掩模时，控制器可以控制掩模板中的掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整掩模装置的透光区域的尺寸，使得该掩模装置可以具有多种不同尺寸的透光区域，以适应多种不同尺寸的膜层。避免了掩模装置对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，需更换多种不同尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。
需要说明的是，本发明实施例中仅以控制器01将掩模装置0中的透光区域的形状调整为矩形为例。可选地，控制器01还可以将掩模装置0中的透光区域的形状调整为除矩形外的其他形状(如不规则形状)，以使得该掩模装置0可以对该其他形状的膜层进行掩模，避免了掩模装置对其他形状的膜层进行掩模时，需更换其他掩模板而耗费较多时间，进一步提高了掩模装置的工作效率。
可选地，掩模装置0用于对形成显示面板的膜层进行掩模，且为了控制器01可以更加精确的调整掩模装置0中透光区域的形状，掩模单元001可以与该显示面板中亚像素单元的形状和大小均相同。每个亚像素单元用于发出一种颜色的光(如红光、绿光或蓝光)。
需要说明的是，本发明实施例中仅以该掩模装置0中的掩模板00包括六行八列掩模单元001为例，可选地，该掩模装置0中的掩模板00还可以包括其他行数和列数(如八行十列)的掩模单元001，本发明实施例对此不作限定。
图3为本发明实施例提供的一种掩模装置的截面图，且该截面图为图1中截面a-a的示意图。请结合图1和图3，在该掩模装置0中，对每个掩模单元001，该掩模单元001可以包括：透光承载结构0010，以及位于该透光承载结构0010上的遮光液滴0011，且该透光承载结构0010具有亲水状态和疏水状态。该控制器01用于通过控制透光承载结构0010处于亲水状态，以控制掩模单元001处于遮光状态，以及通过控制透光承载结构0010处于疏水状态，以控制掩模单元001处于透光状态。
示例的，请继续结合图1和图3，在控制器01控制透光承载结构0010处于疏水状态时，遮光液滴0011中水分子的内聚力大于该水分子与透光承载结构0010中固体分子的相互吸引力，使得遮光液滴0011未完全遮挡透光承载结构0010，以使得掩模单元001处于透光状态。
如图4所示，在控制器控制透光承载结构0010处于亲水状态时，遮光液滴0011中水分子的内聚力小于该水分子与透光承载结构0010中固体分子的相互吸引力，使得遮光液滴0011完全遮挡透光承载结构001，以使得掩模单元001处于遮光状态。
可选地，该透光承载结构0010在通电时的状态为疏水状态，在未通电时的状态为亲水状态，控制器可以通过控制透光承载结构0010通电，以使得该透光承载结构0010处于疏水状态，控制器还可以通过控制透光承载结构0010断电，以使得该透光承载结构0010处于亲水状态。可选地，该透光承载结构0010的材质可以为白石墨烯纳米。
请结合继续结合图1和图3，该掩模装置0中的掩模板00还可以包括：相对设置的透光基底002和透光保护层003，以及位于透光基底002和透光保护层003之间的遮光网格结构004，且掩模装置0中的多个掩模单元001均位于透光基底002和透光保护层003之间。该遮光网格结构004可以将透光基底002划分为多个单元格(图1和图3中均未标出)，且多个掩模单元001与多个单元格一一对应，每个掩模单元001均位于其对应的单元格内。
可选地，为了避免控制器0在调节某一掩模单元001中透光承载结构0010的亲疏水性的过程中，该透光承载结构0010上的遮光液滴0011流入其他掩模单元001，每个掩模单元001可以被透光基底002、透光保护层03和遮光网格结构003密封。
图5为本发明实施例提供的另一种掩模装置的截面图，如图5所示，该掩模装置0中的透光承载结构0010中靠近遮光液滴0011的一侧凸起。
可选地，可以通过多种可实现方式使得透光承载结构0010靠近遮光液滴0011的一侧凸起，如透光承载结构0010靠近遮光液滴0011的一侧可以包括靠近液滴0011凸起的曲面、平面或不规则面。且本发明实施例仅以该透光承载结构00靠近遮光液滴0011的一侧包括靠近遮光液滴0011凸起的两个平面，且该两个平面通过一条棱边连接为例。
在控制器控制透光承载结构0010处于疏水状态时，该遮光液滴0011可以包括两个遮光子液滴00111，且该两个遮光子液滴00111可以分别位于透光承载结构0010上顶部凸起位置p1的两侧。在透光保护层003远离透光承载结构0010的一侧，有光源向透光保护层003发射光线时，该光线可以经过透光保护层003后，从该顶部凸起位置p1射入透光承载结构0010，有利于光线在光承载结构0010内发散，使得光线从透光承载机构0010的出射效果较好。
如图6所示，在控制器控制透光承载结构0010处于亲水状态时，该透光承载结构0010上的遮光液滴0011可以完全遮挡该透光承载结构0010。
可选地，为了提高透光承载结构0010的稳固性，透光承载结构0010还可以贴附在透光基底002上。
可选地，透光基底002靠近透光承载结构0010的一侧可以包括多个凸起结构0021，且多个凸起结构0021与多个单元格一一对应，每个凸起结构0021均位于其对应的单元格内。且该多个凸起结构0021和多个掩模单元001中的多个透光承载结构0010一一对应，每个透光承载结构0010均贴附在其对应的凸起结构0021上。
且本发明实施例中仅以透光基底002中每个单元格内形成有凸起结构0021，透光基底002靠近透光承载结构0010的表面非一个平面，且透光承载机构0010靠近透光基底002的表面非一个平面为例。可选地，透光基底002中每个单元格内还可以未形成有凸起结构0021，透光基底002靠近透光承载结构0010的表面可以为一个平面，且透光承载结构0010靠近透光基底002的表面也可以为一个平面，且该两个平面可以平行，本发明实施例对此不作限定。
图7为本发明实施例提供的又一种掩模装置的结构示意图，图8为本发明实施例提供的一种掩模装置的主视图。请结合图7和图8，掩模装置0还可以包括：与控制器01连接且位于掩模板00一侧的紫外灯组件02，该紫外灯组件02能够向掩模板00发射多种偏振方向的紫外偏振光。在该掩模装置0对某一膜层(图7和图8中均未示出)进行掩模时，该膜层位于该掩模装置0中掩模板00的另一侧。
控制器01还可以用于：在多个掩模阶段中的每个掩模阶段，控制紫外灯组件02向掩模板00发射一种偏振方向的紫外偏振光，且紫外灯组件02在多个掩模阶段中发射的紫外偏振光的偏振方向不同。
可选地，控制器01还可以用于：在每个掩模阶段，控制多个掩模单元001中的至少一个掩模单元001处于透光状态，以形成一组透光区域，并控制多个掩模单元001中除至少一个掩模单元001外的其他掩模单元001均处于遮光状态，且在任意两个掩模阶段中形成的两组透光区域互不交叠。
在每个掩模阶段，若待掩模的一种膜层(图7和图8中均未示出)位于掩模板00的另一侧，则该一种偏振方向的紫外偏振光可以穿过该一组透光区域，并到达该膜层。若待掩模的膜层为配向材质层，则由紫外灯组件发射的紫外偏振光可以用于对该配向材质层进行配向。可选地，待掩模的膜层还可以为其他膜层(如光刻胶层)，本发明实施例对此不作限定。
可选地，多个掩模阶段可以包括第一掩模阶段和第二掩模阶段，且控制器01可以用于：在第一掩模阶段，控制多个掩模单元001中第一组掩模单元处于透光状态，以形成第一组透光区域(该第一组透光区域可以包括四个透光区域t1)，并控制多个掩模单元001中，除位于该第一组透光区域内的掩模单元001外的其他掩模单元001均处于遮光状态，以及控制紫外灯组件02向掩模板00发射第一紫外偏振光。此时，若待掩模的第一膜层(图7和图8中均未示出)位于掩模板的另一侧，且正对该第一组透光区域，则该第一紫外偏振光可以穿过该第一组透光区域，并到达第一膜层。
控制器01还可以用于：在第二掩模阶段，如图9所示，控制多个掩模单元001中第二组掩模单元处于透光状态，以形成第二组透光区域(该第二组透光区域可以包括两个透光区域t2)，并控制多个掩模单元001中，除位于该第二组透光区域内的掩模单元001外的其他掩模单元001均处于遮光状态，以及控制紫外灯组件向掩模板00发射第二紫外偏振光。此时，若与第一膜层不同且待掩模的第二膜层(图9未示出)位于掩模板的另一侧，且正对该第二组透光区域，则该第二紫外偏振光可以穿过该第二组透光区域，并到达该第二膜层。且第一组掩模单元与第二组掩模单元不同，第一组透光区域与第二组透光区域互不交叠，第一紫外偏振光的偏振方向与第二紫外偏振光的偏振方向不同。
可选地，请结合图7至图9，每个透光区域(如透光区域t1或透光区域t2)可以正对一个显示面板，且每个透光区域内的掩模单元在制造其对应的显示面板的过程中，用于对形成该显示面板的膜层进行掩模。
需要说明的是，本发明实施例中仅以该控制器01在两个掩模阶段内控制多个掩模单元001分别形成两组透光区域，且在第一掩模阶段内形成的第一组透光区域包括四个透光区域t1，在第二掩模阶段形成的第二组透光区域包括两个透光区域t2，且透光区域t1包括七行四列掩模单元001，透光区域t2包括四行九列掩模单元001，透光区域t1和透光区域t2的形状均为矩形为例。
可选地，控制器01还可以在两个以上(如三个)掩模阶段内控制多个掩模单元001分别形成两组以上(如三组)透光区域，且在第一掩模阶段内形成形成的第一组透光区域还可以包括其他个数(如五个)透光区域t1，在第二掩模阶段形成的第二组透光区域还可以包括其他个数(如三个)透光区域t2，且透光区域t1还可以包括其他行其他列(如四行三列)掩模单元001，透光区域t2还可以包括其他行其他列(如三行五列)掩模单元001，且透光区域t1和透光区域t2的形状还可以为其他形状(如不规则形状)，本发明实施例对此不作限定。
综上所述，在本发明实施例提供的掩模装置中，在对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，控制器可以控制掩模板中的掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整掩模装置的透光区域的尺寸，使得该掩模装置可以具有多种不同尺寸的透光区域，以适应多种不同尺寸的膜层。避免了掩模装置对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，需更换多种不同尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。
本发明实施例还提供了一种掩模控制方法，该掩模控制方法可以用于图1至8任一所示的掩模装置中的控制器，该掩模控制方法可以包括：
控制掩模装置中掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整该掩模装置中的透光区域。
示例的，如图1所示，在控制掩模装置0中掩模单元001处于透光状态或遮光状态的过程中，控制器01可以控制掩模板00中所有掩模单元001均处于透光状态，以将掩模装置0中的透光区域的尺寸调整为第一尺寸。如图2所示，控制器01还可以控制掩模板00中一部分掩模单元001处于透光状态，以及控制掩模板00中另一部分掩模单元001处于遮光状态，以将掩模装置0中的透光区域的尺寸调整为第二尺寸，该第二尺寸可以为小于第一尺寸的任意尺寸。
综上所述，在本发明实施例提供的掩模控制方法中，在对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，可以控制掩模板中的掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整掩模装置的透光区域的尺寸，使得掩模装置可以具有多种不同尺寸的透光区域，以适应多种不同尺寸的膜层。避免了掩模装置对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，需更换多种不同尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。
需要说明的是，本发明实施例中仅以在控制掩模装置0中掩模单元001处于透光状态或遮光状态的过程中，控制器01将掩模装置0中的透光区域的形状调整为矩形为例。可选地，控制器01还可以将掩模装置0中的透光区域的形状调整为其他形状(如不规则形状)，以使得该掩模装置0可以对其他形状(如不规则形状)的膜层进行掩模。
可选地，请结合图1和图3，在控制掩模装置0中掩模单元001处于透光状态或遮光状态的过程中，控制器01可以通过控制透光承载结构0010处于亲水状态，以控制掩模单元001处于遮光状态，以及通过控制透光承载结构0010处于疏水状态，以控制掩模单元001处于透光状态。
可选地，在控制掩模装置0中掩模单元001处于透光状态或遮光状态的过程中，控制器可以通过控制透光承载结构0010通电，以使得该透光承载结构0010处于疏水状态，控制器还可以通过控制透光承载结构0010断电，以使得该透光承载结构处于亲水状态。
可选地，本发明实施例还提供了一种掩模控制方法，该掩模控制方法可以包括：在多个掩模阶段中的每个掩模阶段，控制紫外灯组件向掩模板发射一种偏振方向的紫外偏振光，且紫外灯组件在多个掩模阶段中发射的紫外偏振光的偏振方向不同。
可选地，控制掩模单元处于透光状态或遮光状态，包括：在每个掩模阶段，控制多个掩模单元中的至少一个掩模单元处于透光状态，以形成一组透光区域，并控制多个掩模单元中除至少一个掩模单元外的其他掩模单元均处于遮光状态，且在任意两个掩模阶段中形成的两组透光区域互不交叠。
可选地，多个掩模阶段可以包括第一掩模阶段和第二掩模阶段，图10为本发明实施例提供的一种掩模控制方法流程图，如图10所示，该掩模控制方法可以包括：
步骤1001、在第一掩模阶段，控制第一组掩模单元处于透光状态，以形成第一组透光区域，并控制多个掩模单元中，除位于该第一组透光区域内的掩模单元外的其他掩模单元均处于遮光状态，以及控制紫外灯组件向掩模板发射第一紫外偏振光。
在步骤1001中可以在第一掩模阶段对待掩模的第一膜层进行掩模，且在对该第一膜层进行掩模时，该第一膜层位于掩模装置中掩模板的另一侧，且正对掩模板上的第一组透光区域，第一紫外偏振光可以穿过该第一组透光区域，并到达第一膜层。
步骤1002、在第二掩模阶段，控制第二组掩模单元处于透光状态，以形成第二组透光区域，并控制多个掩模单元中，除位于该第二组透光区域内的掩模单元外的其他掩模单元均处于遮光状态，以及控制紫外灯组件向掩模板发射第二紫外偏振光。
在步骤1002中可以在第二掩模阶段对第二膜层进行掩模，且在对该第二膜层进行掩模时，该第二膜层位于掩模装置中掩模板的另一侧，且正对掩模板上的第二组透光区域，第二紫外偏振光可以穿过该第二组透光区域，并到达第二膜层。
综上所述，在本发明实施例提供的掩模控制方法中，在对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，可以控制掩模板中的掩模单元处于透光状态或遮光状态，以调整掩模装置的透光区域的尺寸，使得掩模装置可以具有多种不同尺寸的透光区域，以适应多种不同尺寸的膜层。避免了掩模装置对多种不同尺寸的膜层进行掩模时，需更换多种不同尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。
需要说明的是，本发明实施例提供的装置实施例能够与相应的方法实施例相互参考，本发明实施例对此不做限定。本发明实施例提供的方法实施例步骤的先后顺序能够进行适当调整，步骤也能够根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未发明的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。