提高曝光精度的方法以及装置与流程

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种提高曝光精度的方法以及装置。

背景技术：

在液晶显示面板制程的光刻工艺中均需要使用曝光机，通过曝光机对涂布有光刻胶膜的玻璃基板结合光罩实现曝光过程。在该步骤中，曝光的位置精度决定了后续制程中玻璃基板的对位与制作精度。如果曝光位置偏差异常，会导致下一制程中图案的位置无法匹配，从而可能导致基板中晶体管无法导通或彩膜基板中红绿蓝象素出现漏光的情形发生。从而有可能使成盒时基板与彩膜基板对位出现偏差，从而影响成盒时的产品良率。

技术实现要素：

本申请实施例提供一种提高曝光精度的方法以及装置，可以提高曝光精度，从而提高产品良率。

本申请实施例提供一种提高曝光精度的方法，包括：

在基板上形成曝光区域；

提取所述曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合；

检测所述曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合；

基于所述曝光偏移值集合，修正每个曝光偏移值对应的曝光点。

相应的，本申请实施例还提供一种提高曝光精度的装置，包括：

曝光单元，用于在基板上形成曝光区域；

提取单元，用于提取所述曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合；

检测单元，用于检测所述曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合；

修正单元，用于修正每个曝光偏移值对应的曝光点。

在本申请所述的用于提高曝光精度的装置中，所述提取单元具体用于：

获取所述曝光区域中的曝光图案，得到多个曝光图案；

提取每个所述曝光图案的曝光点，得到每个所述曝光图案对应的曝光点子集合；

根据多个所述曝光点子集合，确定曝光点集合。

在本申请所述的用于提高曝光精度的装置中，所述检测单元具体用于：

获取所述曝光点集合中每个曝光点对应的曝光值；

计算所述每个曝光点对应的曝光值与预设基准值之间的差值，以得到多个曝光偏移值；

根据所述多个曝光偏移值，构建曝光偏移值集合。

本申请实施例提供的提高曝光精度的方法，在基板上形成曝光区域后，首先提取曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合。然后检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合。接着基于曝光偏移值集合，修正每个曝光偏移值对应的曝光点。在本申请实施例中，基于曝光点的偏移值对曝光点进行修正，可以有效地提高曝光精度，从而提高产品良率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的提高曝光精度的方法的流程示意图。。

图2为本申请实施例提供的曝光图案示意图。

图3为本申请实施例提供的提高曝光精度的方法中的反馈坐标系示意图。

图4为图2的放大图。

图5为本申请实施例提供的提高曝光精度的方法中的查询表示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

具体的，请参阅图1，图1为本申请实施例提供的提高曝光精度的方法的流程示意图。

本发明提供一种提高曝光精度的方法，包括：

101、在基板上形成曝光区域。

比如，可以采用曝光机对基板进行曝光，以在该基板上形成曝光区域。该基板可以是玻璃基板。

102、提取曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合。

具体的，在基板上形成曝光区域后，可以提取该曝光区域上所有的曝光点。比如，可以通过获取曝光区域中的曝光图案。然后再提取每个曝光图案的曝光点，从而得到曝光点集合。

即，在一些实施例中，提取曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合的步骤，可以包括：

获取曝光区域中的曝光图案，得到多个曝光图案；

提取每个曝光图案的曝光点，得到每个曝光图案对应的曝光点子集合；

根据多个曝光点子集合，确定曝光点集合。

比如，在曝光过程中，首先可以采用具有多个预设图案的透镜对基板进行曝光。多个预设曝光图案可以为m1、m2、m3、m4、m5、m6以及m7，形成的曝光图案可以为m1+2、m1以及m1-2等等。如图2所示。在一些实施例中，曝光图案中的曝光点可以呈矩阵排布。当然，曝光图案的形状不限于此，还可以有别的形状，在本申请实施例中仅仅是举例说明。

然而，在实施工作过程中，可能会存在获取得到曝光图案的图像清晰度不清晰。因此在获取曝光区域中的曝光图案，得到多个曝光图案之后，还可以对曝光图案的图像清晰度进行检测。

即，在一些实施例中，提取每个曝光图案的曝光点的步骤之前，获取曝光区域中的曝光图案，得到多个曝光图案的步骤之后，还包括：

检测多个曝光图案的图像清晰度；

获取图像清晰度满足预设条件的曝光图案，得到多个待提取曝光图案；

提取每个曝光图案的曝光点，得到每个曝光图案对应的曝光点子集合。包括：提取每个待提取曝光图案的曝光点，得到每个待提取曝光图案对应的曝光点子集合。

比如，可以检测每个曝光图案的图像清晰度。然后再分别判断每个曝光图案的图像清晰度是否满足预设条件。该预设条件可以为预设图像清晰度。

即，在一些实施例中，获取图像清晰度满足预设条件的曝光图案，得到多个待提取曝光图案的步骤，包括：

确定当前需要处理的曝光图案，得到当前处理对象；

判断当前处理对象的图像清晰度是否满足预设条件；

若当前处理对象的图像清晰度满足预设条件，则确定当前处理对象为待提取曝光图案；

返回执行确定当前需要处理的曝光图案，直到所有曝光图案均判断完毕。

比如，当前处理对象的图像清晰度。

103、检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合。

例如，可以检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光值。然后计算每个曝光点对应的曝光值与预设基准值之间的差值，从而得到每个曝光点对应的曝光偏移值。然后在根据这些曝光偏移值构建曝光偏移值集合。

即，在一些实施例中，检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合的步骤，包括：

获取所述曝光点集合中每个曝光点对应的曝光值；

计算每个曝光点对应的曝光值与预设基准值之间的差值，以得到多个曝光偏移值；

根据多个曝光偏移值，构建曝光偏移值集合。

104、基于曝光偏移值集合，修正每个曝光偏移值对应的曝光点。

例如，可以根据每个曝光点对应的曝光偏移值，确定曝光点与预设基准点的偏移量。然后可以根据该偏移量重新曝光，得到新的曝光点，以修正每个曝光点。

在一些实施例中，基于曝光偏移值集合，修正每个曝光偏移值对应的曝光点的步骤，包括：

基于曝光偏移值集合，构建曝光点集合的反馈坐标系；

标记每个曝光点在反馈坐标系中的坐标，得到每个曝光点对应的反馈坐标；

根据每个曝光点对应的曝光偏移值，修正每个曝光点对应反馈坐标。

比如，根据曝光偏移值集合，构建一个曝光点集合的反馈坐标系，如图3所示。然后再标记每个曝光点在反馈坐标系中的坐标，得到每个曝光点的反馈坐标。并根据每个曝光点对应的曝光偏移值，确定曝光点与预设基准点的偏移量，然后根据该偏移量去修正每个曝光点的反馈坐标。修正曝光点反馈坐标的方法可以有很多。比如，可以采用平移的方式去修正曝光点的坐标，以达到修正曝光点的目的。

即，在一些实施例中，根据每个曝光点对应的曝光偏移值，修正每个曝光点对应反馈坐标的步骤，包括：

确定当前需要修正的曝光点，得到当前修正对象；

平移当前修正对象至所述反馈坐标系的预设位置上；

返回执行确定当前需要修正的曝光点的步骤，直到所有曝光点均修正完毕。

需要说明的是，在本实施例中，构建曝光点集合的反馈坐标系的方法有很多种，可以直接根据曝光点的位置构建曝光点的反馈坐标系，也可以根据每个曝光点对应的图案构建反馈坐标系。比如，在步骤(11)中获取得到多个曝光图案，然后再对单个曝光图案进行处理，可以得到单个曝光图案的放大图。该放大图如图4所示。然后，再根据单个曝光图案的放大图在预设查询表中查询该放大图对应的数值。紧接着，再根据该数值构建反馈坐标系，查询表可以如图5所示。

本申请实施例提供的提高曝光精度的方法，在基板上形成曝光区域后，首先提取曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合。然后检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合。接着基于曝光偏移值集合，修正每个曝光偏移值对应的曝光点。在本申请实施例中，基于曝光点的偏移值对曝光点进行修正，可以有效地提高曝光精度，从而提高产品良率。

本申请还提供一种提高曝光精度的装置，并且以下简称装置，请参阅图5，该装置可以包括曝光单元201、提取单元202、检测单元203以及修正单元204。具体可以如下：

曝光单元201，用于在基板上形成曝光区域；

提取单元202，用于提取曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合；

检测单元203，用于检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合；

修正单元204，用于修正每个曝光偏移值对应的曝光点。

在一些实施例中，提取单元202具体可以用于：

获取曝光区域中的曝光图案，得到多个曝光图案；

提取每个曝光图案的曝光点，得到每个曝光图案对应的曝光点子集合；

根据多个曝光点子集合，确定曝光点集合。

在一些实施例中，检测单元203具体用于：

获取曝光点集合中每个曝光点对应的曝光值；

计算每个曝光点对应的曝光值与预设基准值之间的差值，以得到多个曝光偏移值；

根据多个曝光偏移值，构建曝光偏移值集合。

本申请实施例提供的提高曝光精度的装置，曝光单元201在基板上形成曝光区域后，提取单元202提取曝光区域中的曝光点，得到曝光点集合。然后检测单元203检测曝光点集合中每个曝光点对应的曝光偏移值，得到曝光偏移值集合。接着基于曝光偏移值集合，修正单元204修正每个曝光偏移值对应的曝光点。在本申请实施例中，基于曝光点的偏移值对曝光点进行修正，可以有效地提高曝光精度，从而提高产品良率。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种提高曝光精度的方法以及装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。