一种光阻涂布装置的制作方法

文档序号:16524536发布日期:2019-01-05 10:13阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
一种光阻涂布装置,包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽;所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。

技术研发人员:姜丽
受保护的技术使用者:台州市皓仔邦工业设计有限公司
技术研发日:2018.10.20
技术公布日:2019.01.04
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