一种磁敏变色树脂眼镜的制作方法

文档序号:15652900发布日期:2018-10-12 23:25阅读:254来源:国知局

本实用新型涉及眼镜制作加工技术领域,尤其涉及一种磁敏变色树脂眼镜。



背景技术:

现在眼镜市场上广泛流行使用的光敏变色树脂镜片是利用紫外线照射到镜片上面的光敏变色材料而产生颜色深浅的变化的,当紫外线小时时,镜片就会逐渐地褪掉颜色,恢复透明状态。

但是现有的镜片带有底色,当镜片老化后就会出现颜色无法褪尽的弊端,只能做为太阳镜在外出时使用,在室内则无法佩戴。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中镜片带有底色,当镜片老化后就会出现颜色无法褪尽的弊端,只能做为太阳镜在外出时使用的问题,而提出的一种磁敏变色树脂眼镜。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种磁敏变色树脂眼镜,包括镜框和对称设置的两个镜片,两个所述镜片均固定插设于镜框内,两个所述镜片之间设有控制磁体,所述控制磁体的一端和镜框滑动连接,所述镜框的顶部设有与镜片对应的加液口,所述镜框远离控制磁体的一端设有磁体流臂,所述镜框顶部的两端转动连接有对称设置的两个镜架,所述镜架远离镜框的一端设有滑腔,所述滑腔内滑动连接有挂杆,所述挂杆的一端贯穿滑腔的内壁并向外延伸,所述镜架远离镜框的一端通过转轴转动连接有弧形卡杆,所述挂杆上等距设有与弧形卡杆对应的多个卡槽。

优选地,所述加液口内螺纹连接有固定塞。

优选地,所述镜框的材质为环氧树脂。

优选地,所述挂杆位于滑腔内的一端固定连接有限位块。

优选地,所述转轴上套设有扭力弹簧,所述扭力弹簧的两端分别与弧形卡杆和镜架固定连接。

优选地,所述挂杆远离镜架一端的底部固定套接有橡胶垫。

本实用新型中,滑动控制磁体,将控制磁体远离磁体流臂时,磁敏变色溶液会自动均匀分布在镜片上,起到遮光的作用,当将控制磁体移动到磁体流臂的近点时,磁敏变色溶液在磁场的干扰下,聚集在一起,从而使镜片呈透明状态,同时使用者可以利用实际的佩戴习惯,调节挂杆的长度,然后利用弧形卡杆固定住挂杆。本实用新型通过磁敏变色溶液和控制磁体的设置,使眼镜可以随时切换有色和透明状态,室内和室外均可以佩戴。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种磁敏变色树脂眼镜的正视结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种磁敏变色树脂眼镜的侧视结构示意图。

图中:1镜框、2镜片、3控制磁体、4磁体流臂、5镜架、6挂杆、7转轴、8弧形卡杆、9固定塞、10限位块。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1-2,一种磁敏变色树脂眼镜,包括镜框1和对称设置的两个镜片2,两个镜片2均固定插设于镜框1内,两个镜片2之间设有控制磁体3,用于控制磁敏变色溶液的流动,控制磁体3的一端和镜框1滑动连接,用于移动控制磁体3,镜框1的顶部设有与镜片2 对应的加液口,用于加入磁敏变色溶液,镜框1远离控制磁体3的一端设有磁体流臂4,用于磁敏变色溶液流动,镜框1顶部的两端转动连接有对称设置的两个镜架5,用于支撑镜框1,镜架5远离镜框1 的一端设有滑腔,滑腔内滑动连接有挂杆6,用于挂设在使用者的耳朵上,挂杆6的一端贯穿滑腔的内壁并向外延伸,镜架5远离镜框1 的一端通过转轴7转动连接有弧形卡杆8,用于固定挂杆6,挂杆6 上等距设有与弧形卡杆8对应的多个卡槽。

本实用新型中,加液口内螺纹连接有固定塞9,防止磁敏变色溶液漏出,镜框1的材质为环氧树脂,增强镜框1的使用寿命,挂杆6 位于滑腔内的一端固定连接有限位块10,防止挂杆6从滑腔内脱落,转轴7上套设有扭力弹簧,扭力弹簧的两端分别与弧形卡杆8和镜架 5固定连接,对弧形卡杆8起到一定的扭力支撑,挂杆6远离镜架5 一端的底部固定套接有橡胶垫,对使用者的耳朵起到一定的弹性缓冲。

本实用新型中,滑动控制磁体3,将控制磁体3远离磁体流臂4 时,磁敏变色溶液会自动均匀分布在镜片2上,起到遮光的作用,当将控制磁体3移动到磁体流臂4的近点时,磁敏变色溶液在磁场的干扰下,聚集在一起,从而使镜片2呈透明状态,同时使用者可以利用实际的佩戴习惯,调节挂杆6的长度,然后利用弧形卡杆8固定住挂杆6。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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