技术总结
本实用新型涉及光刻曝光设备组件装置构造，具体为一种光刻曝光设备，该光刻曝光设备，包括依次设置的用于暂储晶圆的等待区、用于搬移晶圆的机械手臂与用于曝光晶圆的曝光区，在等待区和曝光区之间设置有供机械手臂通行的过渡区风淋室，过渡区风淋室上方设置有风管组，风管组包括进风口、出风口一与出风口二；出风口一通过第一支管与等待区相连通，出风口二通过第二支管与过渡区风淋室相连通。本实用新型通过对光刻曝光设备的改进，使得晶圆在运输过程中能保持温度波动很小，晶圆自身温度均匀性变好，大大减少了热效应对晶圆表面的影响，使得后续光刻曝光步骤中晶圆叠对误差进一步减少，从而提升了晶圆良率。
技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2018.04.25
技术公布日：2018.12.28