浸润式曝光后移除残留水滴的装置的制作方法

技术总结
本实用新型提供一种浸润式曝光后移除残留水滴的装置，该装置包括在载台上扫描移动的扫描式液气双相清洁器，清洁器具有喷嘴，喷嘴的喷口包括液体喷口和气体喷口。本实用新型能够减少光刻胶表面的水印缺陷，提高产品良率。

技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2018.04.26
技术公布日：2018.12.28