一种观察拍照系统的制作方法

本实用新型实施例涉及半导体设备技术，尤其涉及一种观察拍照系统。

背景技术：

晶圆芯片分选过程中需要对单个芯片上、下表面进行形貌和沾污检查及拍照留证。金相显微镜和体式显微镜是晶圆芯片分选过程中对芯片表面进行检查的常见装置。某些新芯片由于工艺需求，需要在芯片上、下表面进行工艺处理，因此需要对上、下表面进行检查，确定芯片的表面形貌和沾污是否满足需求，并拍照留证。

金相显微镜和体式显微镜均可进行表面观察，但只能单面观察，另外一面需要翻面再观察，表面检查效率低，金相和体式显微镜无法满足对被测晶圆芯片同一位置进行上、下表面同时观察的功能需求。将晶圆芯片翻转后对芯片的背面进行观察的话，则容易导致芯片正面的电路造成损伤。

技术实现要素：

本实用新型实施例提供一种观察拍照系统，以实现同时获取到待测物的上表面和下表面的形貌，并拍照留证。

本实用新型实施例提供一种观察拍照系统，包括：

底座；

工作台，固定于所述底座上；

承片台，嵌入所述工作台远离所述底座一侧，用于承载待测物；

第一观察拍照设备和第二观察拍照设备，所述第一观察拍照设备和所述第二观察拍照设备固定于所述底座上，且所述第一观察拍照设备与所述第二观察拍照设备位于所述承片台的相对两侧，所述第一观察拍照设备用于观察待测物的正面，所述第二观察拍照设备用于观察所述工作台与所述承片台露出的待测物的背面。

可选地，所述第一观察拍照设备包括第一显微镜和第一图像采集设备，所述第一显微镜位于所述第一图像采集设备与所述承片台之间；

所述第二观察拍照设备包括第二显微镜和第二图像采集设备，所述第二显微镜位于所述第二图像采集设备与所述承片台之间。

可选地，所述承片台为环形，所述承片台的内侧设置有斜坡，沿所述承片台远离所述底座方向上，所述斜坡所围图形的开口逐渐增大。

可选地，所述观察拍照系统包括至少一个照明灯，所述照明灯固定于所述底座上，所述照明灯用于为待测物提供侧向照明。

可选地，所述照明灯发出平行光。

可选地，所述观察拍照系统包括四个所述照明灯，分别为第一照明灯、第二照明灯、第三照明灯和第四照明灯，所述第一照明灯与所述第二照明灯相对设置，所述第三照明灯与所述第四照明灯相对设置，所述第一照明灯指向所述第二照明灯的方向与所述第三照明灯指向所述第四照明灯的方向垂直；四个所述照明灯位于同一平面内。

可选地，所述工作台包括工作台旋钮，所述工作台旋钮控制嵌入所述工作台的承片台沿X方向和Y方向运动；

其中，X方向和Y方向平行于所述承片台所在平面，X方向和Y方向垂直。

可选地，所述底座设置有底座通孔，所述第二观察拍照设备穿过所述底座通孔，所述工作台设置有工作台通孔，所述承片台设置有承片台通孔，所述底座通孔、所述工作台通孔与所述承片台通孔位于同一直线上；

所述工作台的工作台通孔与所述承片台的承片台通孔均露出待测物的背面。

可选地，所述观察拍照系统还包括支撑杆，所述支撑杆固定于所述底座上，所述第一观察拍照设备通过第一调焦组件固定于所述支撑杆上，所述第二观察拍照设备通过第二调焦组件固定于所述支撑杆上。

可选地，所述观察拍照系统还包括第一显示器和第二显示器；

所述第一显示器与所述第一图像采集设备电连接，用于显示所述第一图像采集设备采集的图像；

所述第二显示器与所述第二图像采集设备电连接，用于显示所述第二图像采集设备采集的图像。

本实用新型实施例提供一种观察拍照系统，观察拍照系统包括两个对置的观察拍照设备，分别为第一观察拍照设备和第二观察拍照设备，第一观察拍照设备位于承片台的一侧，第二观察拍照设备位于承片台的另一侧，因此第一观察拍照设备和第二观察拍照设备可以观察到放置于承片台的待测物的上下两面，实现了同时获取到待测物的上表面和下表面的形貌，并拍照留证。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种观察拍照系统的结构示意图；

图2为图1所示观察拍照系统的侧视图；

图3为图1所示观察拍照系统中工作台和承片台的放大结构示意图；

图4为图3中所示承片台的俯视结构示意图；

图5为沿图4中AA’的剖面结构示意图；

图6为图1所示观察拍照系统的部分结构的俯视图；

图7为本实用新型实施例提供的另一种观察拍照系统的部分结构的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

图1为本实用新型实施例提供的一种观察拍照系统的结构示意图，图2为图1所示观察拍照系统的侧视图，结合图1和图2所示，本实用新型实施例提供的观察拍照系统包括底座10、工作台20、承片台30、第一观察拍照设备40和第二观察拍照设备50。其中，工作台20固定于底座10上。承片台30嵌入工作台20远离底座10一侧，用于承载待测物。待测物例如可以为晶圆芯片，待测物还可以为其他厚度比较薄的物体。第一观察拍照设备40和第二观察拍照设备50固定于底座10上，且第一观察拍照设备40与第二观察拍照设备50位于承片台30的相对两侧，第一观察拍照设备40与第二观察拍照设备50可以关于放置于承片台30上的待测物对称设置。第一观察拍照设备40用于观察待测物的正面，第二观察拍照设备50用于观察工作台20与承片台30露出的待测物的背面。

本实用新型实施例提供一种观察拍照系统，观察拍照系统包括两个对置的观察拍照设备，分别为第一观察拍照设备和第二观察拍照设备，第一观察拍照设备位于承片台的一侧，第二观察拍照设备位于承片台的另一侧，因此第一观察拍照设备和第二观察拍照设备可以观察到放置于承片台的待测物的上下两面，实现了同时获取到待测物的上表面和下表面的形貌，并拍照留证。

可选地，参考图1和图2，第一观察拍照设备40包括第一显微镜41和第一图像采集设备42，第一显微镜41位于第一图像采集设备42与承片台30之间。第一显微镜41上可以设置有变倍率旋钮，并可以通过调节变倍率旋钮实现第一显微镜41的放大倍率的连续调节，放大倍率可以位于30X～270X，30X表示第一显微镜41的放大倍率为30倍，270X表示第一显微镜41的放大倍率为270倍。第二观察拍照设备50包括第二显微镜51和第二图像采集设备52，第二显微镜51位于第二图像采集设备52与承片台30之间。类似地，第二显微镜51上可以设置有变倍率旋钮，并可以通过调节变倍率旋钮实现第二显微镜51的放大倍率的连续调节，放大倍率可以位于30X～270X。第一图像采集设备42和第二图像采集设备52例如可以为电荷耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)。

图3为图1所示观察拍照系统中工作台和承片台的放大结构示意图，参考图1和图3，底座10设置有底座通孔11，第二观察拍照设备50穿过底座通孔11。工作台20设置有工作台通孔22，承片台30设置有承片台通孔31，底座通孔11、工作台通孔22与承片台通孔31位于同一直线上。工作台20的工作台通孔22与承片台30的承片台通孔31均露出待测物的背面，从而使第二观察拍照设备50能够观察到待测物的背面。在其他实施方式中，也可以不设置底座通孔11，而是将第一观察拍照设备40和第二观察拍照设备50两者均设置于底座10的同一侧。

可选地，参考图1、图2和图3，工作台20包括工作台旋钮21，工作台旋钮21控制嵌入工作台20的承片台30沿X方向和Y方向运动。其中，X方向和Y方向平行于承片台30所在平面，X方向和Y方向垂直。通过调节工作台旋钮21，可以使待测物不同位置的上下表面形貌分别被第一观察拍照设备40和第二观察拍照设备50观察并拍照留证。通过对第一观察拍照设备40和第二观察拍照设备50的镜筒中心位置的调整校正，可以实现对待测物同一位置进行观察及拍照留证。

图4为图3中所示承片台的俯视结构示意图，图5为沿图4中AA’的剖面结构示意图，参考图1、图3、图4和图5，承片台30为环形，承片台30的内侧设置有斜坡33，沿承片台30远离底座10方向上，斜坡33所围图形的开口逐渐增大。承片台30还可以包括承片台边缘34以及承片台底部32。承片台底部32设置有承片台通孔31。承片台边缘34围绕斜坡33，斜坡33围绕承片台底部32。承片台30还可以包括把手35，图4中示例性地设置了两个把手35，在其他实施方式中，还可以设置一个或多于两个把手35。把手35固定于承片台边缘34上，用于实现对承片台30的旋转，从而使设置于承片台30的待测物发生旋转，以满足多种角度的观察需求。本实用新型实施例中，承片台30的内侧设置设置有斜坡33，斜坡33呈碗状。将待测物放置到承片台30时，待测物在重力的作用下(沿着Z轴负方向)沿着斜坡33自动滑落并固定在承片台30中。这样设置的优点在于，承片台30对待测物的固定性能良好，待测物不易在承片台30内移动，有利于对待测物实现检测。

图6为图1所示观察拍照系统的部分结构的俯视图，参考图1和图6，观察拍照系统包括至少一个照明灯60(图1和图6中示例性地以一个照明灯60进行解释说明，并非对本实用新型的限定)，照明灯60固定于底座10上，照明灯60用于为待测物提供侧向照明。照明灯60可以为一个平板的灯，即，照明灯60的发光面为一个平面，例如可以为2cm*15cm的发光平面。照明灯60可以以一定的角度照射到待测物的正面和/或者反面。示例性地，待测物为晶圆芯片，由于晶圆芯片的正面具有多个芯片的电路结构，而晶圆芯片的反面则是对应于多个芯片的编号，晶圆芯片的反面无电路结构。因此，照明灯60可以以一定的角度只照射到晶圆芯片的正面。晶圆芯片的反面无需照明灯60依然可以清晰成像。本实用新型实施例对于照明灯60照射到待测物的角度不做限定，例如可以为45°或60°。本实用新型实施例中通过设置至少一个照明灯60，照明灯60能够对待测物提供侧向照明，属于侧面增强技术，能够提升成像清晰程度。

可选地，参考图1和图6，照明灯60发出平行光。平行光能够为待测物提供均匀的照明市场，使待测物的各个部分都得到相同程度的侧面增强，有利于提高整个待测物的成像质量。

图7为本实用新型实施例提供的另一种观察拍照系统的部分结构的俯视图，参考图1和图7，观察拍照系统包括四个照明灯60，分别为第一照明灯61、第二照明灯62、第三照明灯63和第四照明灯64，第一照明灯61与第二照明灯62相对设置，第三照明灯63与第四照明灯64相对设置，第一照明灯61指向第二照明灯62的方向与第三照明灯63指向第四照明灯64的方向垂直。四个照明灯60(分别为第一照明灯61、第二照明灯62、第三照明灯63和第四照明灯64)位于同一平面内。由于待测物的表面形貌为立体结构，仅在待测物的一个侧面设置照明灯60只能提供一个方向的侧向增强。本实用新型实施例中设置了四个照明灯60，能够为待测物提供全方位的侧向增强，进一步地提升了成像清晰程度。

可选地，参考图1和图2，观察拍照系统还包括支撑杆70，支撑杆70固定于底座10上，第一观察拍照设备40通过第一调焦组件91固定于支撑杆70上，第二观察拍照设备50通过第二调焦组件92固定于支撑杆70上。第一调焦组件91用于调节第一观察拍照设备40的焦点位置，具体地，第一调焦组件91可以调节第一显微镜41的焦点位置；第二调焦组件92用于调节第二观察拍照设备50的焦点位置，具体地，第二调焦组件92可以调节第二显微镜51的焦点位置。

可选地，参考图1和图2，观察拍照系统还包括第一显示器81和第二显示器82。第一显示器81与第一图像采集设备42电连接，用于显示第一图像采集设备42采集的图像。第二显示器82与第二图像采集设备52电连接，用于显示第二图像采集设备52采集的图像。

注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。