1.一种方法，包括：
获得由来自衬底的多个结构中的每个结构重新引导的辐射的所检测的表示，所述衬底上另外具有器件图案，其中每个结构具有相应结构的与所述相应结构的相应名义实体配置相比有意不同的实体配置，其中每个结构在所述相应名义实体配置的情况下具有几何对称性，其中所述结构的所述有意不同的实体配置造成不对称光学特性分布，并且其中图案化过程参数测量所述实体配置的改变；和
由硬件计算机系统基于所检测的表示并且基于所述有意不同的实体配置来确定值，以设置、监控或校正用于确定所述图案化过程参数的测量选配方案。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述多个结构形成一个或更多个实验设计(doe)目标区域，每个doe目标区域对应于同一图案化过程参数的一种或更多种特定类型。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述多个结构形成多个doe目标区域，每个doe目标区域对应于所述同一图案化过程参数的一种或更多种类型的不同集合。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述多个结构的至少一个结构具有所述相应结构的所述有意不同的实体配置的连续变化。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述结构被约束为小于或等于约2500μm2的面积。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，还包括基于所述值来设置或校正所述测量选配方案。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述图案化过程参数包括重叠。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述多个结构具有与至少三种类型的重叠相对应的不同配置。