1.一种光学部件，其特征在于，所述光学部件包括：衬底，该衬底设有上表面和与上表面对应的下表面，形成在所述衬底上表面图形化的介质层，形成于所述介质层上图形化的阻挡层。
2.根据权利要求1所述的光学部件，其特征在于，所述衬底的上表面为图形化的磨砂面。
3.根据权利要求1所述的光学部件，其特征在于，所述衬底的材料包括但不限于玻璃。
4.根据权利要求1所述的光学部件，其特征在于，所述介质层的材料包括但不限于tin、aln、crn、ti、w。
5.根据权利要求1所述的光学部件，其特征在于，所述介质层的厚度大于等于10nm小于等于50μm。
6.根据权利要求1所述的光学部件，其特征在于，所述阻挡层至少包括高反层及覆盖于所述高反层上的高吸低反层。所述高反层的材料包括但不限于al、ni、ag、cu、sn，厚度大于等于100nm小于等于100μm；所述高吸低反层的材料包括但不限于tin、aln、crn、ti、w，厚度大于等于10nm小于等于50μm。
7.一种如权利要求1～6所述的光学部件的制造方法，其特征在于，至少包括以下步骤：
1)提供一衬底；
2)在该衬底上沉积介质层；
3)在该介质层上沉积阻挡层；
4)通过光刻及刻蚀，选择性去除阻挡层及介质层，得到所述的光学部件。
8.根据权利要求7所述的光学部件的制造方法，其特征在于，所述步骤1)中还包括将衬底磨砂的步骤，所述步骤4)中还包括选择性去除磨砂面的步骤。
9.根据权利要求7所述的光学部件的制造方法，其特征在于，所述介质层的制备方法包括但不限于物理气相沉积法、化学气相沉积法或等离子化学气相沉积。
10.根据权利要求7所述的光学部件的制造方法，其特征在于，所述阻挡层的制备方法包括但不限于物理气相沉积法、化学气相沉积法或等离子化学气相沉积。