掩膜板外侧部件及组件、彩膜基板及制造方法、显示面板与流程

本发明涉及液晶显示领域，具体地，涉及一种掩膜板外侧部件、包括该掩膜板外侧部件的掩膜板组件、利用该掩膜板组件制造的彩膜基板及其制造方法以及包括所述彩膜基板的显示面板。

背景技术：

随着显示技术的发展，用户需求液晶显示产品具有更高的色饱和度和色域，为了满足客户需求，现有技术中通过增加彩色滤光膜层厚度提高色彩饱和度，并匹配相应的背光来实现产品的高色域，但上述现有技术存在以下问题：如图1所示，由于彩色滤光膜层厚度增加，导致彩膜基板周边的蓝色虚拟图形101'与基板表面之间形成较大的段差d1(其中，d1最大值到达3.0μm)，导致在后续透明保护层102'(oc)涂敷时在段差处产生破膜。如图2所示，区域i内的浅色条纹就是保护层破膜的位置，严重影响产品良率。

为了解决上述问题，现有技术采用降低保护层涂敷速度或者通过增加保护层的膜层厚度来解决破膜情况的发生，但是，降低保护层涂敷速度会影响生产线的生产节拍，减小产能，增加保护层膜厚会导致透过率降低，且增加成本。

因此，如何在不降低该彩膜基板的产能、不降低透过率的情况下设计一种新的彩膜基板，该彩膜基板不容易出现保护层破膜，成为本领域亟需解决的问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种掩膜板外侧部件、包括该掩膜板外侧部件的掩膜板组件、利用该掩膜板组件制造的彩膜基板及其制造方法以及包括所述彩膜基板的显示面板。采用所述掩膜板外侧部件在所述彩膜基板的虚拟区能够形成缓冲带，以减小虚拟图形与基板表面之间的段差，保证透明保护层涂敷时不出现破膜，从而提高包括该彩膜基板的产品良率。

为了解决上述问题，作为本发明一个方面，提供一种掩膜板外侧部件，所述掩膜板外侧部件用于制作彩膜基板的彩膜，所述彩膜基板包括像素区和位于所述像素区至少一侧的虚拟区，所述掩膜板外侧部件包括遮光层和形成在遮光层中的透光图形，所述透光图形包括像素透光图形和虚拟透光图形，所述像素透光图形用于在所述彩膜基板的像素区形成图形，所述虚拟透光图形用于在所述彩膜基板的虚拟区形成图形，其中，

所述虚拟透光图形包括位于所述像素透光图形至少一侧的第一虚拟透光图形和位于所述第一虚拟透光图形外侧的至少一个第二虚拟透光图形，所述第二虚拟透光图形包括多个虚拟图形单元，所述虚拟图形单元的面积与该虚拟图形单元对应的第一虚拟透光图形的一侧的距离反相关。

优选地，位于所述第一虚拟透光图形的同一侧的多个虚拟图形单元排列为多行多列，相邻两列的所有虚拟图形单元中，其中一列的虚拟图形单元排列在奇数行，另一列虚拟图形单元排列在偶数行。

优选地，对于任意一个所述第二虚拟透光图形，相邻两行所述虚拟图形单元之间的距离为所述第一虚拟透光图形的宽度的三分之一至二分之一之间，

对于任意一个所述第二虚拟透光图形，从内至外的第一行虚拟图形单元的形状为半圆形，其余行的虚拟图形单元的形状为圆形，且从内至外的第一行虚拟图形单元与该虚拟图形单元所在侧的第一虚拟透光图形相通，所述虚拟图形单元的直径与所述第一虚拟透光图形的宽度之间的关系满足公式(1)：

其中，

d0为所述第一虚拟透光图形的宽度；

dn为从内至外的第n行所述虚拟图形单元的直径；

n为大于零的自然数。

优选地，所述像素透光图形包括平行间隔设置的多个第一透光条，所述第一透光条的宽度与所述第一虚拟透光图形的宽度相同。

作为本发明的第二个方面，提供一种掩膜板组件，所述掩膜板组件用于制作彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区和设置在所述像素区至少一侧的虚拟区，其特征在于，所述掩膜板组件包括掩膜板外侧部件和至少一个掩膜板内侧部件，所述掩膜板外侧部件为本发明所提供的上述掩膜板外侧部件，

所述彩膜基板包括第一图形和第二图形，所述掩膜板内侧部件用于形成所述第一图形，所述掩膜板外侧部件用于形成所述第二图形，所述第一图形包括位于所述虚拟区的第一虚拟图形，所述第二图形包括位于所述虚拟区的第二虚拟图形，且所述第二虚拟图形位于所述第一虚拟图形外侧，所述掩膜板外侧部件的虚拟透光图形用于形成所述第二虚拟图形。

作为本发明的第三个方面，提供一种彩膜基板，其中，所述彩膜基板采用本发明所提供的上述掩膜板组件制作，所述彩膜基板包括像素区和位于述像素区至少一侧的虚拟区，所述彩膜基板包括第一图形和第二图形，所述第一图形包括位于所述虚拟区的第一虚拟图形，所第二图形包括位于所述虚拟区的第二虚拟图形，并且所述第二虚拟图形位于所述第一虚拟图形外侧，所述第二虚拟图形的厚度与该第二虚拟图形与所述像素区之间的距离反相关。

优选地，所述彩膜基板还包括透明保护层和黑矩阵，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵包括像素区黑矩阵和黑矩阵边框，所述黑矩阵边框环绕所述像素区设置，所述像素区黑矩阵位于所述像素区内，且所述黑矩阵边框位于所述像素区外侧，所述第一虚拟图形形成在所述黑矩阵边框的表面上，所述透明保护层覆盖所述像素区和所述虚拟区。

作为本发明的第四个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括彩膜基板，其中，所述彩膜基板为本发明所提供的上述彩膜基板。

作为本发明的第五个方面，提供一种本发明所提供的上述掩膜板组件制造彩膜基板的方法，其中，所述方法包括：

分别利用各个掩膜板内侧部件在基板上形成第一图形，其中，所述基板包括像素区和位于所述像素区至少一侧的虚拟区，所述第一图形包括位于所述虚拟区的第一虚拟图形；

利用掩膜板外侧部件在基板上形成第二图形，所第二图形包括位于所述虚拟区的第二虚拟图形，并且，在所述彩膜基板中，所述第二虚拟图形位于所述第一虚拟图形外侧，所述第二虚拟图形的厚度与该第二虚拟图形与所述像素区之间的距离反相关。

优选地，所述制造方法包括：

形成黑矩阵，所述黑矩阵包括像素区黑矩阵和黑矩阵边框，所述黑矩阵边框环绕所述像素区设置，所述像素区黑矩阵位于所述像素区内，且所述黑矩阵边框位于所述像素区外侧；

形成透明保护层。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1为现有技术的彩膜基板显示区边缘的透明保护层破膜处截面的扫描电镜图像；

图2为现有技术的彩膜基板的显示区边缘的透明保护层破膜的图像；

图3a、图3b为掩膜板内侧部件的结构示意图；

图3c为本发明所提供的掩膜板外侧部件的结构示意图；

图4为图3c中虚拟透光图形的局部结构示意图；

图5为采用本发明所提供的掩膜板，在彩膜基板像素区边缘的形成的虚拟图形的俯视图；

图6为采用本发明所提供的掩膜板，在彩膜基板像素区边缘的形成的虚拟图形的示意图；

图7为本发明所提供的彩膜基板制造方法的流程示意图；

附图标记说明

101'：蓝色虚拟图形102'：透明保护层

101：第一虚拟透光图形102：第二虚拟透光图形

1021：虚拟图形单元103：第一透光条

104：第一透光图形条105：第二透光条

201：第一虚拟图形202：第二虚拟图形

2011：红色第一虚拟子图形2012：绿色第一虚拟子图形

2021：蓝色第一虚子图形2022：蓝色第二虚拟子图形

203：黑矩阵边框

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

既然现有技术中是由于彩色滤光膜层厚度增加，导致彩膜基板周边的虚拟图形与基板表面形成较大的段差，本发明的发明人深入研究后，考虑在虚拟图形的外延位置设计形成一段缓冲带，以减小所述段差。

有鉴于此，作为本发明的第一个方面，提供了一种掩膜板外侧部件，所述掩膜板外侧部件用于制作彩膜基板上的彩膜，所述彩膜基板包括像素区和位于所述像素区至少一侧的虚拟区，所述掩膜板外侧部件包括遮光层和形成在遮光层中的透光图形，所述透光图形包括像素透光图形和虚拟透光图形，所述像素透光图形用于在所述彩膜基板的像素区形成图形，所述虚拟透光图形用于在所述彩膜基板的虚拟区形成图形。

其中，如图3c和图4所示，所述虚拟透光图形包括位于所述像素透光图形的至少一侧的第一虚拟透光图形101和位于第一虚拟透光图形101外侧的至少一个第二虚拟透光图形102，第二虚拟透光图形102包括多个虚拟图形单元1021，虚拟图形单元1021的面积与该虚拟图形单元1021对应的第一虚拟透光图形101的一侧的距离反相关。

需要指出的是，第一虚拟透光图形101的长度方向与形成彩膜基板时的涂布透明光学胶保护层的方向垂直。

图3c所示的掩膜板外侧部件，为本发明一种优选地实施方式，其中，在所述像素透光图形的上下(此处的上下是指图3c中的上下)两端均设置有的第一虚拟透光图形101，并且每个第一虚拟图形101的外侧都设置了有第二虚拟透光图形102。在图3c所示的实施方式中，涂布透明光学胶保护层的方向为从上至下或者从下至上。

在图3c所示的掩膜板外侧部件中，所述虚拟透光图形位于所述像素透光图形的两侧，利用该掩膜板形成像素图形时，也将同步形成虚拟图形(dummy)。

如上所述，在第一虚拟透光图形101的外侧设置第二虚拟透光图形102，利用该掩膜板外侧部件形成的所述虚拟图形包括两部分，其中第一部分形成条状的第一虚拟子图形，第二部分形成为与第一虚拟子图形相邻的多个块状的第二虚拟子图形。

像素图形和虚拟图形均是形成在基板上的，形成所述像素图形和所述虚拟图形时，需要执行曝光工艺、显影工艺，对于形成像素图形和虚拟图形的材料(光刻胶)而言，曝光越充足，固化率越高，显影后形成膜层厚度越大，反之，曝光率越不充足、固化率越底，显影后形成的膜层厚度越小。

如图4所示的掩膜板外侧部件中，虚拟图形单元1021的面积与该虚拟图形单元1021对应的第一虚拟透光图形101的一侧的距离反相关，即，距离第一虚拟透光图形101越远虚拟图形单元1021的面积越小。因此，利用该掩膜板外侧部件形成所述虚拟图形时，虚拟图形单元1021面积越小，曝光越不足，形成第二虚拟子图形的厚度越小，最终导致形成的多个第二虚拟子图形沿远离所述第一虚拟图形的方向，厚度逐渐减小，形成一个缓冲带，从而减小彩膜基板的像素区周边虚拟图形与基板表面之间的段差，使得透明光学胶保护层(oc)涂覆不会出现破膜，提高产品良率。

并且，本发明通过上述掩膜板外侧部件形成的虚拟图形解决了段差问题，因此，在执行透明保护层涂覆工艺时，按照正常工艺执行即可，无需增加透明保护层涂覆厚度，也无需降低涂覆速度，从而保证彩膜基板的透过率以及产能。

在本发明中，如图4所示，位于第一虚拟透光图形101的同一侧的多个虚拟图形单元1021排列为多行多列，相邻两列的虚拟图形单元1021中，其中一列的虚拟图形单元1021排列在奇数行，另一列虚拟图形单元1021排列在偶数行。

如上所述，由于任意两列相邻的虚拟图形单元1021中，其中一列的虚拟图形单元1021排列在奇数行，另一列虚拟图形单元1021排列在偶数行，使得相邻两列的虚拟图形单元1021在列方向上的位置交替设置，并且相应地，相邻两行的虚拟图形单元1021在行方向上的位置也交替设置。

上述多个虚拟图形单元1021的设置方式，使得相邻的虚拟图形单元1021之间存在间隔，该间隔可以很好的用作溢胶空间，即利用具有该掩膜图形的掩膜板外侧部件对光刻胶层进行曝光、显影形成第二虚拟子图形时，相邻的第二虚拟子图形之间不会因为溢胶而相互挤压变形。

进一步地，为了确保具有足够的溢胶空间，在本发明中，如图4所示，在第一虚拟透光图形101的同一侧，相邻两行虚拟图形单元1021之间的距离为第一虚拟透光图形101的宽度d0的三分之一至二分之一之间，即，图4中a的取值为

优选地，相邻两行或两列虚拟图形单元1021之间的距离a为第一虚拟透光图形101的宽度d0的二分之一。

在本发明中，作为一种优选地实施方式，如图4所示，对于任意一个第二虚拟透光图形102，从内至外的第一行虚拟图形单元的形状为半圆形，其余行的虚拟图形单元1021的形状为圆形，且从内至外的第一行虚拟图形单元与该虚拟图形单元1021所在侧的第一虚拟透光图形101相通，虚拟图形单元1021的直径与第一虚拟透光图形101的宽度之间的关系满足公式(1)：

其中，

d0为所述第一虚拟透光图形的宽度；

dn为从内至外的第n行所述虚拟图形单元的直径；

n为大于零的自然数。

需要说明的是，图4所示仅为掩膜板外侧部件的示意图，因此，掩膜板外侧部件上并非只包括图4所示的四行虚拟图形单元1021，可以根据实际需要设置虚拟图形单元1021的个数和行数。

从公式(1)可以推导出，从内至外的第一行虚拟图形单元1021的直径d1等于d0/2。第二行虚拟图形单元1021与第一行虚拟图形单元1021间隔距离a，该第二行虚拟图形单元1021的直径d2等于d0/3，依次类推，第三行虚拟图形单元1021的直径d3等于d0/4；第四行虚拟图形单元1021的直径d4等于d0/5。

如上所述，在该实施方式中，多行圆形的虚拟图形单元间隔排列，并且距离第一虚拟透光图形101越远，虚拟图形单元1021的直径越小，即圆形的面积越小。

因此，利用该实施方式所保护的掩膜板外侧部件形成的第二虚拟子图形，沿远离所述第一虚拟图形的方向，厚度逐渐降低，形成一个缓冲带，从而减小了彩膜基板的像素区周边虚拟图形与基板表面之间的段差，使得透明保护层(oc)涂覆不会出现破膜，提高产品良率。

此外，本发明中，如图3c所示，所述像素透光图形包括平行间隔设置的多个第一透光条103，第一透光条103的宽度与第一虚拟透光图形101的宽度相同。

由于彩膜基板包括多种颜色的像素图形，因此，在制作工艺中，除了利用上述掩膜板外侧部件外，还需要与其配套的其他颜色的掩膜板，以通过分步涂覆制作所述多种颜色的像素图形。

有鉴于此，作为本发明第二个方面，提供了一种掩膜板组件，所述彩膜基板包括像素区和位于所述像素区至少一侧的虚拟区，其中，所述掩膜板组件包括掩膜板外侧部件和至少一个掩膜板内侧部件，所述掩膜板外侧部件为本发明所提供的掩膜板外侧部件。

所述彩膜基板包括第一图形和第二图形，所述掩膜板内侧部件用于形成所述第一图形，所述掩膜板外侧部件用于形成所述第二图形，所述第一图形包括位于所述虚拟区的第一虚拟图形，所述第二图形包括位于所述虚拟区的第二虚拟图形，且所述第二虚拟图形位于所述第一虚拟图形外侧，所述掩膜板外侧部件的虚拟透光图形用于形成所述第二虚拟图形。

需要说明的是，所述第一图形包括形成在彩膜基板虚拟区的第一虚拟图形以及该第一虚拟图形内侧的像素图形，所述第二图形包括形成在彩膜基板虚拟区的第二虚拟图形以及该第二虚拟图形内侧的像素图形，其中，彩膜基板的像素图形包括位于该第一虚拟图形内侧的像素图形和位于该第二虚拟图形内侧的像素图形，彩膜基板的虚拟图形包括第一虚拟图形和第二虚拟图形。

多个掩膜板内侧部件分别用于形成多种不同颜色的第一图形，并且，第二图形的颜色不同于任意一个第一图形的颜色。为便于理解所述掩膜板组件的工作原理，下面以所述彩膜基板只包括三种颜色的像素图形(包括红色像素图形、绿色像素图形和蓝色像素图形)，所述掩膜板组件包括图3a和图3b所示两个掩膜板内侧部件为例进行说明。其中，图3a中所示的掩膜板内侧部件用于形成红色的第一图形，图3b中所示的掩膜板内侧部件用于形成绿色的第一图形，相应地，图3c所示的外侧掩膜板用于形成蓝色的第二图形。

如图3a所示，所述掩膜板内侧部件包括两个第一透光图形条104和第二透光图形，两个第一透光图形条104位于所述第二透光图形的两侧，所述第二透光图形包括平行排列的多个第二透光条105，其中，图3a所示的掩膜板内侧部件中的第一透光图形条104用于形成红色的第一虚拟图形，第二透光条105用于形成红色的色阻条。具体地，第一透光图形条104的长度方向平行于第二透光条105的长度方向，两个第一透光图形条104分别位于第二透光条105宽度方向的两侧。

如图3b所示，所述掩膜板内侧部件包括两个第一透光图形条104和第二透光图形，两个第一透光图形条104分别位于所述第二透光图形的两侧，所述第二透光图形包括平行排列的多个第二透光条105，其中，图3b中所示的掩膜板内侧部件中的第一透光条104用于形成绿色的第一虚拟图形，第二透光条105用于形成绿色的色阻条。具体地，第一透光图形条104的长度方向平行于第二透光条105的长度方向，两个第一透光图形条104分别位于第二透光条105宽度方向的两侧。

如图3c所示的外侧掩膜板的结构在前文中已经描述，在此不赘述，其中，第一虚拟透光图形101用于形成蓝色的第一虚拟图形，第二虚拟透光图形102用于形成蓝色的第二虚拟子图形，第一透光条103用于形成蓝色的色阻条。

在同一基板上，由图3a中所示的掩膜板内侧部件形成的红色色阻条、由图3b中所示的掩膜板内侧部件形成的绿色色阻条、由图3c所示的外侧掩膜板形成的蓝色色阻条交替设置。

所述第二虚拟子图形与第一虚拟子图形一起形成缓冲带，从而减小了彩膜基板的像素区周边虚拟图形与基板表面之间的段差，使得透明保护层(oc)涂覆不会出现破膜，提高产品良率。

容易理解的是，可以通过设置黑矩阵的方式将上述三种(红、绿以及蓝)颜色的色阻条分别分隔成独立的像素图形。

作为本发明第三个方面，提供了一种彩膜基板，其中，所述彩膜基板采用本发明所提供的掩膜板组件制作，所述彩膜基板包括像素区和位于所述像素区至少一侧的虚拟区，所述彩膜基板包括第一图形和第二图形，所述第一图形包括位于所述虚拟区的第一虚拟图形，所第二图形包括位于所述虚拟区的第二虚拟图形，并且所述第二虚拟图形位于所述第一虚拟图形外侧，所述第二虚拟图形的厚度与该第二虚拟图形与所述像素区之间的距离反相关。

如上所述，所述第二虚拟图形的厚度与该第二虚拟图形与所述像素区之间的距离反相关，换言之，距离所述像素区越远所述第二虚拟图形的厚度越小，从而形成缓冲带，减小第一虚拟图形与基板表面之间的段差，使得透明保护层(oc)涂覆不会出现破膜，提高产品良率。

进一步地，由于制作上述彩膜基板的掩膜板组件为本发明所提供的掩膜板组件，因此，为便于本领域技术人员理解，作为一种实施方式，所述掩膜板组件包括图3a、3b所示的掩膜板内侧部件以及3c所示的掩膜板外侧部件。

在该实施方式中，如图6所示，黑矩阵边框203将彩膜基板的虚拟区与像素区间隔开，在彩膜基板的虚拟区形成的虚拟图形包括第一虚拟图形201和第二虚拟图形202，其中，第二虚拟图形202位于第一虚拟图形201的外侧，并且，第一虚拟图形201中绿色第一虚拟子图形2012位于红色第一虚拟子图形2011外侧，第二虚拟图形202中的蓝色第一虚子图形2021位于绿色第一虚拟子图形2012外侧，蓝色第二虚拟子图形2022位于蓝色第一虚子图形2021外侧。

也就是说，在彩膜基板的虚拟区，所述第一虚拟子图形按照红色、绿色和蓝色顺序排列，其中，红色第一虚拟子图形2011由图3a所示掩膜板内侧部件形成，绿色第一虚拟子图形2012由图3b所示的掩膜板内侧部件形成，蓝色第一虚拟子图形2021以及蓝色第二虚拟子图形2022由掩膜板外侧部件形成，如图5所示，多个蓝色第二虚拟子图形2022排列为多行，并且，距离蓝色第一虚拟子图形2021越远，蓝色第二虚拟子图形2022厚度越小，以形成缓冲带，从而减小了蓝色第一虚拟子图形2021与基板表面之间的段差，因此，透明保护层(oc)涂覆时不会出现破膜，从而提高产品良率。

在本发明中，所述彩膜基板还包括透明保护层和黑矩阵，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵包括像素区黑矩阵和黑矩阵边框，所述黑矩阵边框环绕所述像素区设置，所述像素区黑矩阵位于所述像素区内，且所述黑矩阵边框位于所述像素区外侧，所述第一虚拟图形形成在所述黑矩阵边框的表面上，所述透明保护层覆盖所述像素区和所述虚拟区。

所述透明保护层覆盖彩膜基板的像素区和虚拟区，用于保护像素区和虚拟区的彩色色阻膜层，并且，由于掩膜板组件的在像素区形成的透光区为条形，因此，利用掩膜板在像素区直接形成的是彩色色阻条，而所述像素区的黑矩阵将所述彩色色阻条间隔成像素图形，所述黑矩阵边框将彩膜基板的像素区与虚拟区间隔。

作为本发明第四个方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括彩膜基板，其中，所述彩膜基板为本发明所提供的彩膜基板。

作为本发明第五个方面，提供了一种利用本发明所提供的掩膜板组件制造本发明所提供的彩膜基板的方法，其中，如图7所示，所述制造方法包括：

步骤s1、分别利用各个掩膜板内侧部件在基板上形成第一图形，其中，所述基板包括像素区和位于所述像素区至少一侧的虚拟区，所述第一图形包括位于所述虚拟区的第一虚拟图形；

步骤s2、利用掩膜板外侧部件在形成有第一图形的基板上形成第二图形，所第二图形包括位于所述虚拟区的第二虚拟图形，并且，在所述彩膜基板中，所述第二虚拟图形位于所述第一虚拟图形外侧，所述第二虚拟图形的厚度与该第二虚拟图形与所述像素区之间的距离反相关。

上述步骤s1和s2用制造本发明所提供的彩膜基板，所述彩膜基板相应的技术效果前文已经描述，在此不再赘述。

下面以采用图3a和3b所示的掩膜板内侧部件，以及图3c所示掩膜板外侧部件制造彩膜基板为例，对上述制造方法进行描述：

如图6所示，包括三种颜色(分别为红色、绿色和蓝色)的虚拟图形，相应地，在像素区也包括上述三种颜色的像素图形。

执行步骤s1具体包括：

在基板上形成红色色阻材料层，采用图3a所示的掩膜板内侧部件对红色色阻材料层曝光、显影，以获得红色色阻条和红色第一虚拟子图形；在形成有红色色阻条和红色第一虚拟子图形的基板上形成绿色色阻材料层，采用图3b所示的掩膜板内侧部件对绿色色阻材料层曝光、显影，以获得绿色色阻条和绿色第一虚拟子图形。

执行步骤s2具体包括：

在形成有上述红色色阻条、绿色色阻条、红色第一虚拟子图形和绿色第一虚拟子图形的基板上，形成蓝色色阻材料层，采用图3c所示的掩膜板外侧部件对蓝色色阻材料层曝光、显影，以获得蓝色色阻条和蓝色第一虚拟子图形，同时，在蓝色第一虚拟子图形的外延形成蓝色第二虚拟子图形，该蓝色第二虚拟子图形减小蓝色第一虚拟子图形与基板表面之间的段差。

在本发明中，所述制造方法还包括：

形成黑矩阵，所述黑矩阵包括像素区黑矩阵和黑矩阵边框，所述黑矩阵边框环绕所述像素区设置，所述像素区黑矩阵位于所述像素区内，且所述黑矩阵边框位于所述像素区外侧；

形成透明保护层。

其中，黑矩阵包括像素区黑矩阵和黑矩阵边框，像素区黑矩阵将上述红色色阻条、绿色色阻条以及蓝色色阻条间隔成红色、绿色以及蓝色三种颜色的像素图形，黑矩阵边框将红色第一虚拟子图形、绿色第一虚拟子图形以及蓝色第一虚拟子图形与所述像素图形间隔开。

透明保护层覆盖所述彩膜基板的像素区和虚拟区，以对所述彩膜基板的像素区和虚拟区形成保护。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。