液晶面板用基板的制造方法与流程

本发明关于一种液晶面板用基板的制造方法。

背景技术：

以往，作为液晶面板用基板的制造方法，已知有一种构成，其具备通过对基板吹送空气来去除异物的工序(下述专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开平05-341278号公报

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题

然而，作为液晶面板用基板，已知有具备取向膜的液晶面板用基板，在形成了取向膜后，有进行向取向膜吹送空气从而去除取向膜上的异物的工序。此时，可能有基板上的取向膜被吹掉的异物摩擦，取向膜中的液晶的取向性能降低的情况。

本发明是基于上述的情况而完成的，其目的在于，抑制液晶的取向性能降低的情况，并且去除取向膜上的异物。

解决问题的方案

为了解决上述问题，本发明的液晶面板用基板的制造方法具有如下特征，包括：摩擦工序，对在基板上形成的取向膜进行摩擦处理；清洁工序，其在所述摩擦工序之后实施，并相对于所述取向膜沿着所述摩擦处理的方向吹送气体。在清洁工序中，通过吹送气体能够吹掉取向膜上的异物。沿着摩擦处理的方向进行气体的吹送，从而异物容易沿着摩擦处理的方向而被吹掉。其结果是，能够抑制由吹掉的异物在与摩擦处理的方向不同的方向上摩擦取向膜的情况，并能够抑制液晶的取向性能降低的情况。

发明效果

根据本发明，能够抑制液晶的取向性能降低的情况，能够去除取向膜上的异物。

附图说明

图1是本发明的一实施方式所涉及的液晶面板的剖视图。

图2是表示取向膜形成工序的俯视图。

图3是表示摩擦工序的图。

图4是表示第一清洁工序的侧面图。

图5是表示第一清洁工序的俯视图。

图6是表示检查工序的俯视图。

图7是表示第二清洁工序的侧面图。

图8是表示密封材涂布工序的俯视图。

图9是表示液晶滴下工序的俯视图。

具体实施例

根据图1至图9说明本发明的一实施方式。如图1所示，本实施方式的液晶面板10呈方形状，并具备透光性优异的一对基板20、30、以及包含液晶分子的液晶层18。在一对基板20、30之中，表面侧的基板20为cf基板20(彩色滤光片基板)，背面侧的基板30为阵列基板30。阵列基板30的外周端部的至少一部形成与cf基板20的端部相比向外侧突出的突出部，该突出部中设置有ic芯片12、柔性基板14。液晶层18以夹置于两基板20、30之间的形式配置。液晶层18中的液晶分子为根据施加电场而取向改变从而光学特性改变的物质。两基板20、30的内面侧中分别形成有用于使液晶层18中的液晶分子向规定方向取向的取向膜11、11。并且，两基板20、30的外侧分别贴附有偏光板13、13。

阵列基板30由在玻璃基板31的内面侧(液晶层18侧)中以矩阵状配置有多个开关元件即tft32(thinfilmtransistor)、以及与tft32连接的像素电极34形成。此外，玻璃基板31中虽未图示，但以区分tft32的方式配置有源极布线、栅极布线、电容布线等的布线类。并且，像素电极34由ito(indiumtinoxide)、zno(zincoxide)等的透明导电膜形成。上述的取向膜11以覆盖tft32、像素电极34等的方式，形成于玻璃基板31的内面侧。

cf基板20由在玻璃基板21的内面侧(液晶层18侧)以矩阵状配置了r(红色)、g(绿色)、b(蓝色)等的cf22构成。此外，在玻璃基板21上，以区分各cf22的方式形成有遮光层23(黑矩阵)。然后，以覆盖cf22以及遮光层23的形式，形成有由透明导电膜构成的对置电极24。上述的取向膜11以覆盖对置电极24的方式形成于玻璃基板21的内面侧。在一对玻璃基板21、31之间以包围液晶层18的形式配置有密封材40。密封材40例如，使用由紫外线硬化性树脂、热硬化性树脂等构成的已知的密封材。在液晶面板10中，对cf基板20的对置电极24施加基准电位，通过tft32施加至像素电极34的电位受到控制，在像素电极34与对置电极24之间产生规定电位差，液晶层18中的液晶分子向规定的方向取向。并且，在本实施方式中，虽示例出tn(扭曲向列，twistednematic)方式的液晶面板10，但驱动方式不限于此。例如，液晶面板的驱动方式也可以是ips(面内切换，in-planeswitching)方式、ffs(边缘场切换，fringefieldswitching)方式等的水平驱动方式。

在本实施方式中，分别制造以矩阵状排列的多张cf基板20被一体化的cf母基板19(参照图9)、以及以矩阵状排列的多张阵列基板30被一体化的阵列母基板(未图示)，将使cf母基板19与阵列母基板贴合的结构(母液晶面板)分离，从而制造多个液晶面板10。在以下的说明中，作为液晶面板用基板的制造方法的一例说明cf母基板19的制造方法。

cf母基板19的制造方法包括：层叠物形成工序，在成为多个玻璃基板21的基底的玻璃母基板41上以矩阵状形成多个彩色滤光片层叠物；取向膜形成工序，以覆盖彩色滤光片层叠物的形式形成取向膜11；摩擦工序，对取向膜11进行摩擦处理；第一清洁工序，清洁玻璃母基板41；检查工序，检查玻璃母基板41；第二清洁工序，清洁玻璃母基板41；密封材涂布工序，对玻璃母基板41涂布密封材40；以及第三清洁工序，清洁玻璃母基板41。并且，上述第一至第三清洁工序的每个工序为在摩擦工序之后实施的清洁工序的一例。

在层叠物形成工序中，使用光刻技术等的已知技术，从而在玻璃母基板41上形成彩色滤光片层叠物。在此提及的彩色滤光片层叠物为cf基板20所具有cf22、遮光层23、对置电极24等的层叠物。如图2所示，在层叠物形成工序之后所进行的取向膜形成工序中，在玻璃母基板41上形成由取向膜材料构成的膜，通过对该膜进行干燥处理，从而形成以矩阵状排列的多个取向膜11。多个取向膜11的每一个对应于多张cf基板20的每一张而形成。作为在玻璃母基板41上形成由取向膜材料构成的膜的方法，例如，能够使用喷墨方式、辊涂布方式等。

如图3所示，在取向膜形成工序之后所进行的摩擦工序中，将玻璃母基板41放置在平台51上，使平台51移动，并使玻璃母基板41通过已包裹了具备绒毛52的摩擦布的摩擦滚轮53的下方。在玻璃母基板41通过摩擦滚轮53的下方的过程中，取向膜11被绒毛52摩擦，从而被进行摩擦处理。并且，在图2中示出沿着玻璃母基板41的短边方向(图2的y轴方向)进行摩擦处理的情况。并且，在图3中，摩擦滚轮53沿顺时针方向(参照图3的箭头线a4)，平台51的移动方向(参照图3的箭头线a5)为从左侧朝向右侧的方向。因此，取向膜11从图3的右侧朝向左侧被摩擦滚轮53摩擦。

在摩擦工序之后所进行的第一清洁工序中，使用图4所示的清洁器54来进行玻璃母基板41的清洁。清洁器54为所谓的吹气和真空(blowandvacuum)方式的构成，包括能够对玻璃母基板41吹送空气(气体)的空气吹嘴55、以及与未图示的负压产生器连接的真空吸嘴56。在第一清洁工序中，将玻璃母基板41放置在平台51上，使平台51移动，并使玻璃母基板41通过清洁器54的下方。在玻璃母基板41通过清洁器54的下方的过程中，将空气从空气吹嘴55吹送至取向膜11表面，从而使附着在取向膜11上的异物飞散，并用真空吸嘴56吸引异物。

空气吹嘴55(吹送装置)的空气的吹送方向(图4的箭头线a1)为沿着玻璃母基板41的短边方向的方向，这是沿着摩擦工序中的摩擦处理的方向(摩擦方向、箭头线b1)的方向。并且，在此提及的“空气的吹送方向沿着摩擦处理的方向”是指，在至少俯视上(玻璃母基板41的俯视上，参照图5)，空气吹嘴55(吹送装置)的空气的吹送方向与摩擦处理的方向(换言之，由取向膜11导致的液晶分子的排列方向)平行。

并且，空气吹嘴55从图4的右侧朝向左侧吹送空气。真空吸嘴56相对空气吹嘴55配置在左侧，通过空气吹嘴55的吹送，能够有效地吸引飞散的异物。并且，空气吹嘴55的吹送方向，只要在俯视上(图5的状态)与摩擦处理的方向平行即可，空气吹嘴55也可以从图4的左侧朝向右侧吹送空气。

此外，如图5所示，清洁器54(空气吹嘴55以及真空吸嘴56)形成长度大于玻璃母基板41的长边的细长形状，通过使平台51相对于清洁器54移动，能够清洁玻璃母基板41的整个面(整个取向膜11)。此外，平台51的移动方向(图4的箭头线a2)为沿着摩擦处理方向的方向。并且，图5中省略示出取向膜11。

在第一清洁工序之后所进行的检查工序中，使用图6所示的检查装置57来进行玻璃母基板41的目视检查。检查装置57包括放置玻璃母基板41的平台58、蒸气产生装置59、以及照明61、62、63。平台58能够以图6的x轴作为中心而转动。因此，通过使平台58转动，能够改变玻璃母基板41的状态。被配置在平台58的里面侧(图6的上侧)的照明61例如设为荧光灯。此外，配置在平台58的跟前侧(操作者侧、图6的下侧)的照明62例如，设为能够发出白色光的卤素灯泡，配置在平台58的跟前侧的照明63例如设为能够发出绿色光的水银灯。在检查工序中，将玻璃母基板41固定在平台58上，通过由蒸气产生装置59产生的蒸气，使玻璃母基板41朦胧后，使平台58转动，从而能够改变玻璃母基板41的状态，并且操作者依次使用照明61的透过光、以及照明62、63的反射光，从而进行玻璃母基板41的目视检查。具体而言，操作者目视确认在摩擦处理中产生到的伤痕、不均匀等的有无。

在检查工序之后所进行的第二清洁工序中，如图6以及图7所示，在将玻璃母基板41放置在平台58上的状态下，操作者通过空气枪64进行玻璃母基板41的清洁。具体而言，操作者通过将空气枪64的空气向取向膜11表面吹送，吹掉附着在取向膜11上的异物。空气枪64中的空气的吹送方向(图6以及图7的箭头线a3)为，沿着玻璃母基板41的短边方向的方向，并沿着摩擦工序中的摩擦处理方向的方向。即，图4的俯视下，空气枪64中的空气的吹送方向与摩擦处理的方向平行。并且，图6中省略示出取向膜11。本实施方式中例示出通过空气枪64，从平台58的跟前侧(图6中为下侧)朝向里面侧(图6中为上侧)吹送空气的情况。并且，图7的左侧为平台58的跟前侧，图7的右侧为平台58的里面侧。此外，在摩擦工序中，取向膜11被摩擦滚轮53从图7的左侧朝向右侧摩擦。

在第二清洁工序之后所进行的密封材涂布工序中，如图8所示，以包围取向膜11的形式在玻璃母基板41上涂布框状的密封材40。密封材40能够使用规定的描绘装置来涂布。并且，作为在玻璃母基板41上形成的密封材40例如使用光硬化型的构成，密封材40在未硬化的状态下被送至下一工序(第三清洁工序)。即，在密封材涂布工序在摩擦工序与第三清洁工序(清洁工序)之间实施。

在密封材涂布工序之后所进行的第三清洁工序中，进行玻璃母基板41的清洁。在第三清洁工序中使用的洗浄装置与图4的清洁器54为相同的构成的装置，关于清洁的顺序，也与图4中示出的第一清洁工序相同，因此省略具体说明。即，在第三清洁工序中，也与第一清洁工序相同，空气吹嘴55(吹送装置)中的空气的吹送方向为沿着摩擦工序中的摩擦处理方向的方向。并且，第三在清洁工序中，为了防止在上一工序中涂布的密封材40硬化，在黄灯下进行清洁操作的方面与第一清洁工序不同。

此外，在第三清洁工序之后，实施形成液晶层18的液晶滴下工序。在液晶滴下工序中，通过使用了未图示的液晶滴下装置的odf(onedropfill)法，将液晶在玻璃母基板41中密封材40所包围的部分处滴下。由此，如图9所示，形成液晶层18。并且，在形成液晶层18后，利用贴合装置，使cf母基板19与阵列母基板贴合。在贴合时，在穿过cf母基板19或者阵列母基板照射紫外线的同时(或者在照射后)、对密封材40加热。由此，密封材40硬化，cf母基板19与阵列母基板经由密封材40而被贴合，从而制造母液晶面板。然而，通过将该母液晶面板分割，能够得到多个液晶面板10。并且，将cf母基板19分割成多个cf基板20时的分割线l1在图8以及图9中以两点划线表示。

接着说明本实施方式的效果。在上述各清洁工序(第一至第三清洁工序)中，通过吹送气体，能够吹掉取向膜11上的异物。通过沿着摩擦处理的方向进行气体的吹送，异物沿着摩擦处理的方向而容易被吹掉。其结果是，能够抑制取向膜11被吹掉的异物在与摩擦处理的方向不同的方向摩擦的情况，并能够抑制液晶的取向性能降低的情况。

此外，在清洁工序(第一清洁工序以及第三清洁工序)中，将空气向取向膜11吹送，同时吸引从取向膜11飞散的异物。吸引通过空气的吹送来的飞散的异物，从而能够抑制飞散的异物再次附着在取向膜11的情况。此外，通过吸引飞散的异物，能够抑制取向膜11被飞散的异物摩擦的情况，并能够进一步抑制液晶的取向性能降低的情况。

此外，在清洁工序(第一清洁工序以及第三清洁工序)中，对放置在平台51上的玻璃母基板41使用空气吹嘴55来吹送空气，相对于空气吹嘴55而使平台51沿着摩擦处理的方向移动。固定空气吹嘴55，并且能够在平台51的移动方向上，围绕玻璃母基板41的全长而吹送空气。通过使空气吹嘴55固定，能够抑制空气的吹送方向相对摩擦处理的方向偏移的情况。

此外，在清洁工序(第三清洁工序)中，对取向膜11吹送空气，进一步地，在摩擦工序与清洁工序(第三清洁工序)之间，实施以包围取向膜11的形式在玻璃母基板41上涂布框状的密封材40的密封材涂布工序。假设在涂布了密封材40之后，在进行湿法清洗的情况下，由于对密封材40的不利影响(性能降低、剥离等)，因此可能导致难以进行湿法清洗。在密封材涂布工序之后实施的第三在清洁工序中，由于将空气向取向膜11吹送并进行清洁，因此能够抑制对密封材40的不利影响。

本申请发明者比较了在第一至第三清洁工序的各清洁工序中，本实施方式的不良率与比较例的不良率。比较例为，在各清洁工序中，将相对于取向膜11的空气的吹送方向设为与摩擦方向正交的方向的构成。此外，不良率为，因在清洁工序中产生的取向膜11的伤痕导致的不良品的发生率。根据本申请发明者，已能确认在第一清洁工序中，本实施方式的不良率为2～4％，比较例的不良率为10～20％。此外，已能确认在第二清洁工序中，本实施方式的不良率为3～6％，比较例的不良率为15～30％。此外，已能确认在第三清洁工序中，本实施方式的不良率为1～2％，比较例的不良率为5～10％。由上述，在第一至第三清洁工序中的任一个清洁工序中，通过将空气的吹送方向设为沿着摩擦方向的方向，与比较例相比能够将不良率抑制在五分之一左右。

并且，作为摩擦处理后的基板清洁方法，已知有使用刷子的接触式的清洁方法。使用刷子来进行的清洁方法在去除由摩擦处理而产生的取向膜的削屑的情况虽有效，但大于取向膜的削屑的异物、例如在摩擦处理时从摩擦布产生的绒毛的碎片等难以去除。如本实施方式，只要是使用了空气吹嘴55以及真空吸嘴56的吹气和真空方式的清洁方法，就能够确切地去除从摩擦布产生的绒毛的碎片。在对尤其是cf基板、阵列基板等、在表面形成有凹凸形状的结构物的基板使用刷子来清洁的情况下，存在用刷子刷取下来的绒毛等的异物从刷子再次附着在基板上，该异物通过刷子被压在基板上，从而卡在基板上的结构物而难以去掉。若这样的异物存在于液晶面板的显示区域，则成为取向不良的原因。此外，若异物卡在形成于玻璃母基板的外周部(在分割了玻璃母基板之后废弃端材区域)的对准标记，则不能正确地进行使cf母基板与阵列母基板贴合时的对准，贴合的偏移所产生的结果成为因彩色滤光片的色移引起的混色不良的原因。若是本实施方式，由于使用吹气和真空方式的清洁方法，能够抑制异物再次附着至基板的情况，因此是适宜的。

<其他实施方式>

本发明不限于根据上述描述以及图面说明的实施方式，例如如下的实施方式也包含于本发明的技术范围内。

(1)在上述实施方式中，作为液晶面板用基板，虽示例出用于制造cf基板的cf母基板19，但不限于此。作为液晶面板用基板，只要是具备取向膜的基板即可，可示例出用于制造阵列基板的阵列母基板。

(2)在上述第一清洁工序以及第三在清洁工序中，虽示例出相对于空气吹嘴55使玻璃母基板41移动的构成，但不限于此，也可以相对于玻璃母基板41使空气吹嘴55移动。

(3)在上述实施方式中，虽示例出摩擦处理的方向沿着玻璃母基板41的短边方向的情况，但不限于此。摩擦处理的方向可以是沿着玻璃母基板41的长边方向的方向，摩擦处理的方向也可以是相对于玻璃母基板41的一边方向(长边方向或者短边方向)倾斜。此外，玻璃母基板41的形状不限于上述实施方式中示例出的构成，也可以是形成例如正方形状。

(4)在清洁工序中，向取向膜11吹送的气体不限于空气。只要是通过吹送能够去除取向膜11上的异物的气体即可。并且，在吹送的气体为空气的情况下，优选为cda(清洁干燥空气，cleandryair)，在吹送空气以外的气体的情况下，优选为氮气等的惰性气体。若向取向膜11过多地吹送含量量多的气体，则取向膜11吸湿且其各向异性降低，因此可能导致液晶的取向限制力降低的情况。此外，在将活性气体向取向膜11吹送的情况下也同样地可能导致取向限制力降低的情况。作为吹送的气体，通过使用cda、惰性气体，能够抑制取向限制力降低的情况。

附图标记说明

11…取向膜、

19…cf母基板(液晶面板用基板)、

40…密封材、

41…玻璃母基板(基板)、

51…平台、

55…空气吹嘴(吹送装置)