一种彩膜基板、显示面板及电子装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板及电子装置。

背景技术：

随着光电技术与半导体制造技术的发展，液晶显示器(liquidcrystaldisplay，简称lcd)凭借其轻薄、携带方便等优势，已经取代了传统的crt显示器成为显示器件的主流。液晶显示面板主要包括彩膜(colorfilter，简称cf)基板和阵列(array)基板，以及一配置于cf基板和阵列基板之间的液晶层(liquidcrystallayer，简称lcl)，其中，cf基板是用来实现彩色显示的主要器件。

参考图1，现有彩膜基板的层状结构示意图。现有彩膜基板的基本层状结构包括：基板11、黑色矩阵(blackmatrix，简称bm)12、色阻层13、导电薄膜层14、以及起支撑作用的光阻(photospacer，简称ps)层15。其中，色阻层13由多个像素结构组成，且每个像素结构包括红色色阻131、绿色色阻132、以及蓝色色阻133(rgb像素结构)。

现有cf基板制程一般为6道制程，分别为bm制程，r、g、b色阻制程，导电薄膜层制程，以及ps层制程。现有cf基板制造工艺中，制作ps层时一般采用半色调掩膜版(half-tonemask，简称htm)或灰色调掩膜版(gray-tonemask，简称gtm)两种掩膜技术。现有htm或gtm掩膜技术制程不稳定、均匀性不佳，造成显示面板不合格概率增加。且htm或gtm掩膜技术制作所需的掩膜版较正常掩膜版价格贵2倍左右，生产效率较低，成本较高。

因此，如何提高生产效率，减小显示面板不合格概率，降低生产成本，成为cf基板制程亟待解决的问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于，针对现有技术存在的问题，提供一种彩膜基板、显示面板及电子装置，可以提高生产效率，减小显示面板不合格概率，降低生产成本。

为实现上述目的，本发明提供了一种彩膜基板，包括基板、黑色矩阵、色阻层和导电薄膜层，所述色阻层包括蓝色色阻；所述蓝色色阻包括第一部分和第二部分，所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度。

为实现上述目的，本发明还提供了一种显示面板，所述显示面板包括本发明所述的彩膜基板。

为实现上述目的，本发明还提供了一种电子装置，所述电子装置包括本发明所述的显示面板。

本发明的优点在于：本发明彩膜基板中的蓝色色阻在像素内和原本对应光阻层位置，呈现不同厚度，从而替代光阻层。使得cf基板制程可以减少一道光阻层制程，可以简化工艺过程，节省工艺成本，提高生产效率，减小显示面板不合格概率，且可以节省光阻层材料，进一步降低生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1，现有彩膜基板的层状结构示意图；

图2，本发明彩膜基板一实施例的层状结构示意图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的组件或具有相同或类似功能的组件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。此外，本发明在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。

本发明彩膜基板，色阻层中的蓝色色阻包括第一部分和第二部分，所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度，从而在液晶成盒后起到支撑作用。由于在色阻层中，蓝色色阻厚度最厚，故采用蓝色色阻代替光阻层(ps)可以节省更多材料，且可以避免产生异物暗的风险。

可以采用半色调掩膜版(htm)制作包括厚度不同的第一部分和第二部分的蓝色色阻。第一部分的厚度与色阻层中的其它色阻(红色色阻和绿色色阻)的厚度相同。也即，使蓝色色阻在像素(pixel)内和原本对应光阻层(ps)位置，呈现不同厚度，从而替代光阻层。使得cf基板制程可以减少一道光阻层制程，可以简化工艺过程，节省工艺成本，提高生产效率，减小显示面板不合格概率，且可以节省光阻层材料，进一步降低生产成本。半色调(halftone)是利用不同的曝光量，使得曝光制程结束后所剩下色阻膜厚不同。

参考图2，本发明彩膜基板一实施例的层状结构示意图。在本实施例中，本发明彩膜基板的基本层状结构包括：基板21、黑色矩阵(bm)22、色阻层23以及导电薄膜层24。其中，色阻层23由多个像素结构组成，且每个像素结构包括红色色阻231、绿色色阻232、以及蓝色色阻233(rgb像素结构)。所述蓝色色阻233包括第一部分301和第二部分302，所述第一部分301、所述红色色阻、所述绿色色阻的厚度均相同(本实施例中，厚度均为h1)，所述第二部分302的厚度h2大于所述第一部分的厚度h1。也即，所述蓝色色阻233的第二部分302凸出于像素结构表面，从而在液晶成盒后可以代替现有ps层起支撑作用。

在本实施例中，所述第二部分302可以为柱状结构。可以采用半色调掩膜版，利用不同的曝光量，使得曝光制程结束后所剩下色阻膜厚不同，从而制成包括厚度不同的第一部分和第二部分的所述蓝色色阻233。所述第一部分301与所述第二部分302的材料相同。即在制备蓝色色阻233结构时，利用半色调掩膜版的掩膜技术，同时将蓝色色阻233的第一部分301与第二部分302制出。这样，可以使得cf基板制程减少一道光阻层制程，可以简化工艺过程，节省工艺成本，提高生产效率，减小显示面板不合格概率，且可以节省光阻层材料，进一步降低生产成本。

在本实施例中，所述导电薄膜层24覆盖所述蓝色色阻233的第一部分301和第二部分302、所述红色色阻231、所述绿色色阻232以及所述黑色矩阵22。其具体制作工艺可以为：先提供一基板21；在基板21上制备黑色矩阵22、红色色阻231、绿色色阻232，制备的方法可采用本领域的普通技术人员所熟知的任意可能方式，在此不做赘述；使用部分曝光工艺，制备包括厚度不同的第一部分301和第二部分302的蓝色色阻233，所述部分曝光工艺可采用半色调掩膜版的掩膜技术，也可采用本领域的普通技术人员所熟知的任意可能方法，在此不做赘述；在色阻层23制备完毕后的基板21上沉积导电薄膜并图案化，形成导电薄膜层24，得到本发明彩膜基板。导电薄膜层24覆盖所述蓝色色阻233的第一部分301和第二部分302、所述红色色阻231、所述绿色色阻232以及所述黑色矩阵22。优选的，所述导电薄膜层24采用透明导电薄膜(ito)制成。

基于同一发明构思，本发明还提供了一种包括上述彩膜基板的显示面板以及包括所述显示面板的电子装置。所述电子装置，例如可以为液晶电视、智能手机、液晶屏等等，对于显示面板以及电子装置的其它必不可少的组成部分，均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。