技术特征：
技术总结
本发明公开了一种可直接光描绘成像的抗蚀剂组合物及层压体，所述可直接光描绘成像的抗蚀剂组合物含有以下组分：含有(甲基)丙烯酸和苯乙烯共聚单元共聚形成的第一共聚物、含有(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸烷基酯共聚单元共聚形成的第二共聚物、光聚合性化合物、光聚合引发剂。使用该抗蚀剂组合物可直接光描绘成像，具有良好的光敏性、密合性、盖孔性和分辨率，能高效、可靠的形成精细的导体图案。
技术研发人员：李志强;杨亮;朱薛妍;李伟杰;周光大;林建华
受保护的技术使用者：杭州福斯特应用材料股份有限公司
技术研发日：2019.03.27
技术公布日：2019.07.05