1.一种用于操作光学反射器的设备，该设备包括：
第一载体，所述第一载体被构造为基于与光轴垂直的第一方向进行旋转；
第二载体，所述第二载体具有用于朝向透镜反射光的光学反射器，并且所述第二载体被容纳在所述第一载体中，以相对于所述第一载体、基于与所述光轴和所述第一方向这两者垂直的第二方向旋转；
多个磁体，所述多个磁体在不同位置处设置到所述第二载体；
多个霍尔传感器，所述多个霍尔传感器被构造为输出分别与所述多个磁体的位置对应的信号；以及
位置控制单元，该位置控制单元被构造为计算从所述多个霍尔传感器输入的所述信号，以生成作为与所述第二载体的当前位置有关的信号的位置信号。
2.根据权利要求1所述的用于操作光学反射器的设备，
其中，所述多个磁体包括：
第一磁体，该第一磁体被设置到所述第二载体；和
第二磁体，该第二磁体在当所述第二载体旋转时具有与所述第一磁体的移动位移相反的移动位移的位置处设置到所述第二载体，
其中，所述多个霍尔传感器包括：
第一霍尔传感器，所述第一霍尔传感器被构造为输出与所述第一磁体的所述位置对应的第一信号；和
第二霍尔传感器，所述第二霍尔传感器被构造为输出与所述第二磁体的所述位置对应的第二信号。
3.根据权利要求1所述的用于操作光学反射器的设备，
其中，所述磁体在面向所述多个霍尔传感器的表面处具有单极。
4.根据权利要求2所述的用于操作光学反射器的设备，
其中，所述第一磁体和第二磁体在面向所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器的表面处具有相同极，并且
其中，所述位置控制单元通过对所述第一信号和第二信号进行减法来生成所述位置信号。
5.根据权利要求2所述的用于操作光学反射器的设备，
其中，所述第一磁体和第二磁体在面向所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器的表面处具有不同极，并且
其中，所述位置控制单元通过对所述第一信号和第二信号进行加法来生成所述位置信号。
6.根据权利要求2所述的用于操作光学反射器的设备，
其中，所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器分别在具有较大旋转位移的位置处设置到所述第一磁体和第二磁体。
7.一种用于控制光学反射器的位置的设备，该设备包括：
第一载体，所述第一载体被构造为基于与光轴垂直的第一方向旋转；
第二载体，所述第二载体具有用于朝向透镜反射光的光学反射器，并且所述第二载体被容纳在所述第一载体中，以相对于所述第一载体、基于与所述光轴和所述第一方向这两者垂直的第二方向旋转；
第一磁体和第二磁体，所述第一磁体和第二磁体在不同位置处设置到所述第二载体；以及
第一霍尔传感器和第二霍尔传感器，所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器被构造为输出分别与所述第一磁体和第二磁体的所述位置对应的信号，
其中，所述设备还包括：
输入单元，所述输入单元被构造为从所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器接收信号；和
信号生成单元，所述信号生成单元被构造为计算从所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器输入的所述信号，以生成作为与所述第二载体的当前位置有关的信号的位置信号。
8.根据权利要求7所述的用于控制光学反射器的位置的设备，所述设备还包括：
驱动控制单元，该驱动控制单元被构造为控制具有与所生成的位置信号对应的大小和方向的功率以施加于使所述第二载体旋转的驱动线圈。
9.根据权利要求7所述的用于控制光学反射器的位置的设备，
其中，当所述第一磁体和第二磁体在面向所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器的表面处具有相同极时，所述信号生成单元通过对所述第一信号和第二信号进行减法来生成所述位置信号。
10.根据权利要求7所述的用于控制光学反射器的位置的设备，
其中，当所述第一磁体和第二磁体在面向所述第一霍尔传感器和第二霍尔传感器的表面处具有不同极时，所述信号生成单元通过对所述第一信号和第二信号进行加法来生成所述位置信号。
11.根据权利要求7所述的用于控制光学反射器的位置的设备，
其中，所述第二磁体在当所述第二载体旋转时具有与所述第一磁体的移动位移相反的移动位移的位置处设置到所述第二载体。
12.一种用于控制光学反射器的位置的方法，该方法包括以下步骤：
信号检测步骤，该信号检测步骤从多个霍尔传感器检测分别与多个磁体的位置对应的信号，所述多个磁体在基于载体彼此相对的表面处设置到所述载体，该载体被设置到透镜的前端并且具有用于朝向所述透镜反射光的光学反射器；
位置信号生成步骤，该位置信号生成步骤通过以下方式生成所述载体的位置信号：当所述多个磁体在分别面向所述多个霍尔传感器的表面处具有相同极时对所述信号进行减法，并且当所述多个磁体在分别面向所述多个霍尔传感器的表面处具有不同极时对所述信号进行加法；以及
位置控制步骤，该位置控制步骤通过使用所述位置信号来控制所述载体的位置。