一种显示装置的制作方法

文档序号:19153884发布日期:2019-11-16 00:26阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种显示装置,其特征在于,包括显示面板和位于所述显示面板一侧的背光模组;所述显示面板包括子像素和围绕所述子像素设置的遮光层,所述遮光层靠近所述背光模组的一侧设有反射型纳米光栅;

所述背光模组向所述显示面板提供的背光源在所述显示面板内被转换为偏振光;所述反射型纳米光栅的光栅方向与射向所述反射型纳米光栅的偏振光的偏振方向之间的夹角小于90°,以将射向所述反射型纳米光栅的至少部分偏振光反射回所述背光模组,且所述背光模组将反射回的偏振光消偏后循环再利用。

2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述反射型纳米光栅的光栅方向与射向所述反射型纳米光栅的偏振光的偏振方向互相平行。

3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述遮光层在垂直于所述显示面板方向上的投影面积等于所述反射型纳米光栅在垂直于所述显示面板方向上的投影面积。

4.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示面板还包括与所述子像素对应设置的上偏光单元;所述上偏光单元的透光轴与所述反射型纳米光栅的透光轴的夹角大于0°。

5.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述反射型纳米光栅的透光轴与所述上偏光单元的透光轴互相垂直。

6.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述上偏光单元包括透射型纳米光栅;所述透射型纳米光栅的光栅方向与射向所述透射型纳米光栅和所述反射型纳米光栅的偏振光的偏振方向互相垂直。

7.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述反射型纳米光栅与所述透射型纳米光栅的光栅周期、光栅占空比和光栅高度相同。

8.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述子像素部分覆盖在所述反射型纳米光栅的边缘上。

9.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述显示面板还包括第一基板和第二基板,所述子像素和所述遮光层位于所述第一基板靠近所述第二基板的一侧;所述上偏光单元设置在所述子像素靠近所述第二基板的一侧;所述背光模组设置在所述第二基板远离所述第一基板的一侧。

10.如权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述显示面板还包括下偏光单元,所述下偏光单元和所述上偏光单元的透光轴互相垂直;所述下偏光单元设置在所述第二基板远离所述第一基板的一侧,且所述背光模组位于所述下偏光单元远离所述第二基板的一侧。


技术总结
本申请公开了一种显示装置,包括显示面板和位于所述显示面板一侧的背光模组;所述显示面板包括子像素和围绕所述子像素设置的遮光层,所述遮光层靠近所述背光模组的一侧设有反射型纳米光栅;所述背光模组向所述显示面板提供的背光源在所述显示面板内被转换为偏振光;所述反射型纳米光栅的光栅方向与所述显示面板内射向所述反射型纳米光栅的偏振光的偏振方向之间的夹角小于90°,以将射向所述反射型纳米光栅的至少部分偏振光反射回所述背光模组,且所述背光模组将反射回的偏振光消偏后循环再利用。本申请提高了显示装置的光能利用率。

技术研发人员:张鹏飞
受保护的技术使用者:武汉华星光电技术有限公司
技术研发日:2019.08.22
技术公布日:2019.11.15
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