一种掩膜板治具、曝光机的制作方法

本发明涉及曝光工艺领域，具体涉及一种掩膜板治具、曝光机。

背景技术：

光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程为：首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应；再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶，后者称负性光刻胶)，使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上；最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。

常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗蚀剂为中间媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。在广义上，它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。其中光复印工艺是经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上；刻蚀工艺是利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺总是多次反复进行。

现有的曝光机中，由于掩膜板尺寸上的差异以及曝光机掩膜板承载平台放置位置上的差异，无法实现曝光机的共用。因此需要寻求一种新型的掩膜板治具、曝光机以解决上述问题。

技术实现要素：

本发明的一个目的是提供一种掩膜板治具、曝光机，其能够解决目前的曝光机中存在的由于掩膜板尺寸上的差异以及曝光机掩膜板承载平台放置位置上的差异，无法实现曝光机的共用的问题。

为了解决上述问题，本发明的一个实施方式提供了一种掩膜板治具，其中包括：框体以及支撑台阶。其中所述框体呈“回”字形构型设置，其内设置有第一镂空区；所述支撑台阶沿着所述框体内侧设置，并将所述第一镂空区包围于内；其中所述框体的外围尺寸对应于一第一掩膜板的外围尺寸，所述框体的厚度与所述第一掩膜板的厚度一致；其中所述支撑台阶结合其所包围的第一楼空区用于容置一第二掩膜板，其中所述第二掩膜板设置于所述框体内的支撑台阶上，所述第二掩膜板的外围尺寸对应于所述框体的内框尺寸；其中所述第二掩膜板远离所述支撑台阶的表面与所述框体表面平齐，当其收容在所述框体内时，其结合所述框体后的外形尺寸等同于所述第一掩模板的外形尺寸。

进一步的，其中所述掩膜板治具还包括第二镂空区，所述第二镂空区设置于所述框体上，所述第二镂空区靠近所述第一镂空区的一侧延伸至所述支撑台阶上。

进一步的，其中所述框体的组成材料为铝合金材料。

进一步的，其中所述支撑台阶的宽度小于20mm。

进一步的，其中所述支撑台阶的厚度小于7mm。

进一步的，其中所述掩膜板治具还包括：第一吸盘、第一对接吸盘以及第一吸管。其中所述第一吸盘吸附于所述支撑台阶远离所述第二掩膜板的一侧表面上；所述第一对接吸盘对应吸附于所述第一掩膜板上；所述第一吸管连接所述第一吸盘和第一对接吸盘。

进一步的，其中所述掩膜板治具还包括：第二吸盘、第二对接吸盘以及第二吸管。其中所述第二吸盘设置于所述支撑台阶靠近所述第二掩膜板的一侧表面上吸附所述第二掩膜板；所述第二对接吸盘对应吸附于所述框体上；所述第二吸管连接所述第二吸盘和第二对接吸盘。

进一步的，其中所述掩膜板治具还包括：第一限位构件和第二限位构件。其中所述第一限位构件设置于所述第二掩膜板的四周，所述第一限位构件限制所述第二掩膜板的竖直方向的偏移；所述第二限位构件设置于相邻两个所述第一限位构件与所述框体之间，所述第二限位构件限制所述第二掩膜板的水平方向的偏移。

进一步的，其中所述第一限位构件包括螺丝或者下压式夹持构件中的一种或多种。

本发明的另一个实施方式还提供了一种曝光机，其特征在于，包括：第一掩膜板、第二掩膜板以及本发明涉及的掩膜板治具；其中所述掩膜板治具的框体的外围尺寸对应于所述第一掩膜板的外围尺寸，所述框体的厚度与所述第一掩膜板的厚度一致；其中所述掩膜板治具用于容置所述第二掩膜板，其中所述第二掩膜板设置于所述框体内的支撑台阶上，所述第二掩膜板的外围尺寸对应于所述框体的内框尺寸；其中所述第二掩膜板远离所述支撑台阶的表面与所述框体表面平齐，当其收容在所述掩膜板治具内时，其结合所述掩膜板治具的外形尺寸等同于所述第一掩模板的外形尺寸。

本发明的优点是：本发明涉及一种掩膜板治具、曝光机，本发明提供掩膜板治具用以容置第二掩膜板，其中所述第二掩膜板设置于所述掩膜板治具的框体内的支撑台阶上。当所述第二掩膜板收容在所述掩膜板治具内时，其结合所述掩膜板治具的外形尺寸等同于第一掩模板的外形尺寸，以此实现不同尺寸的第一掩膜板和第二掩膜板共用一个曝光机，最终提高生产效率，节约生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明掩膜板治具的结构示意图。

图2是第一限位构件与第二限位构件的放大示意图。

图中部件标识如下：

100、掩膜板治具

1、框体2、支撑台阶

3、第一镂空区4、第二镂空区

5、第一吸盘6、第一对接吸盘

7、第一吸管8、第二吸盘

9、第二对接吸盘10、第二吸管

11、第一限位构件12、第二限位构件

13、掩膜板识别码

具体实施方式

以下结合说明书附图详细说明本发明的优选实施例，以向本领域中的技术人员完整介绍本发明的技术内容，以举例证明本发明可以实施，使得本发明公开的技术内容更加清楚，使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本发明。然而本发明可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例，下文实施例的说明并非用来限制本发明的范围。

本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是附图中的方向，本文所使用的方向用语是用来解释和说明本发明，而不是用来限定本发明的保护范围。

在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外，为了便于理解和描述，附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。

当某些组件，被描述为“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接置于所述另一组件上；也可以存在一中间组件，所述组件置于所述中间组件上，且所述中间组件置于另一组件上。当一个组件被描述为“安装至”或“连接至”另一组件时，二者可以理解为直接“安装”或“连接”，或者一个组件通过一中间组件“安装至”或“连接至”另一个组件。

实施例1

本发明提供了一种曝光机，其中包括：第一掩膜板、第二掩膜板以及掩膜板治具100；其中所述第二掩膜板设置于所述掩膜板治具100的框体1内的支撑台阶2上。当所述第二掩膜板收容在所述掩膜板治具100内时，其结合所述掩膜板治具100的外形尺寸等同于第一掩模板的外形尺寸。具体的，其中所述掩膜板治具100的框体1的外围尺寸对应于第一掩膜板的外围尺寸，所述框体1的内框尺寸对应于第二掩膜板的外围尺寸，所述框体1的厚度与第一掩膜板的厚度一致；其中所述第二掩膜板设置于所述框体1内的支撑台阶2上，所述框体1远离所述第二掩膜板的表面与所述第二掩膜板远离所述支撑台阶2的表面之间的厚度与所述第一掩膜板的厚度一致，以此实现不同尺寸的第一掩膜板和第二掩膜板共用一个曝光机，最终提高生产效率，节约生产成本。

如图1所示，本发明所述的一种掩膜板治具100，其中包括：框体1以及支撑台阶2。

如图1所示，其中所述框体1呈“回”字形构型设置，其内设置有第一镂空区3；主要是用于放置第二掩膜板。其中所述框体1由两两相对设置的侧部包围形成，其中至少一个侧部上设置有一第二镂空区4。所述第二镂空区4靠近所述第一镂空区3的一侧延伸至所述支撑台阶2上。所述第二镂空区4主要是为了方便人工搬运第二掩膜板到掩膜板治具100内设计的。其中所述框体1的组成材料为铝合金材料。利用此材料制成的框体耐腐蚀性强，使用寿命长。

其中所述第二镂空区4靠近所述第一镂空区3的一侧还可以延伸贯穿所述支撑台阶2，由此可以减少支撑台阶2的材料，节约生产成本。

其中所述支撑台阶2沿着所述框体1内框设置，并将所述第一镂空区3包围于内。所述支撑台阶2主要是用来支撑放置在其上的第二掩膜板。其中的所述第一镂空区3还可以方便将第二掩膜板上的电路图形投影到掩膜板治具下面的玻璃基板上。其中所述支撑台阶的宽度小于20mm，由此避免支撑台阶2遮挡光线透过，便于将第二掩膜板上的电路图形投影到掩膜板治具下面的玻璃基板上。

其中所述框体1的外框尺寸对应于第一掩膜板的外围尺寸，所述框体1的内框尺寸对应于第二掩膜板的外围尺寸，所述框体1的厚度与第一掩膜板的厚度一致；其中所述第二掩膜板设置于所述框体1内的支撑台阶2上，所述第二掩膜板远离所述支撑台阶2的表面与对应的所述框体1表面平齐，当其收容在所述框体1内时，其结合所述框体1后的外形尺寸等同于所述第一掩模板的外形尺寸。具体的，所述第一掩膜板的尺寸为1780*1620*20mm，所述第二掩膜板的尺寸为1400*1220*13mm，因此所述框体1的外围尺寸为1780*1620mm，所述框体1的内框尺寸为1400*1220mm；由于所述第一掩膜板的厚度为20mm，第二掩膜板的厚度为13mm，所以框体1厚度为20mm，支撑台阶2厚度小于7mm。以此达到第二掩膜板放置于框体1内的支撑台阶2之后，所述第二掩膜板远离所述支撑台阶2的表面与对应的所述框体1表面平齐，以此实现不同尺寸的第一掩膜板和第二掩膜板共用一个曝光机，最终提高生产效率，节约生产成本。

如图1所示，其中所述掩膜板治具100还包括：第一吸盘5、第一对接吸盘6、第一吸管7。其中所述第一吸盘5吸附于所述支撑台阶2远离所述第二掩膜板的一侧表面上；所述第一对接吸盘6对应吸附于所述第一掩膜板上；所述第一吸管7连接所述第一吸盘5和第一对接吸盘6。本实施例中所述第一吸盘5设置于支撑台阶2相对设置的两条边框远离所述第二掩膜板的一侧表面上。实际上，所述第一吸盘5还可设置在支撑台阶2远离所述第二掩膜板的一侧表面上的相对设置的斜对角上。以此达到所述第一掩膜板与所述支撑台阶2之间的加固效果，最终保证第一掩膜板与掩膜板治具一起固定于掩膜板承载平台上。

如图1所示，其中所述掩膜板治具100还包括：第二吸盘8、第二对接吸盘9以及第二吸管10。其中所述第二吸盘8设置于所述支撑台阶2靠近所述第二掩膜板的一侧表面上吸附所述第二掩膜板；所述第二对接吸盘9对应吸附于所述框体1上；所述第二吸管10连接所述第二吸盘8和第二对接吸盘9。所述第二吸盘8用于吸附后期放置于支撑台阶2上方的第二掩膜板，通过第二吸管10达到真空吸附，以此达到所述第二掩膜板与所述框体1之间的加固效果，最终保证第二掩膜板和掩膜板治具一起固定于掩膜板承载平台上。本实施例中所述第二吸盘8设置于支撑台阶2相对设置的两条边框靠近所述第二掩膜板的一侧表面上。实际上，所述第二吸盘8还可设置在支撑台阶2靠近所述第二掩膜板的一侧表面上的相对设置的斜对角上。

如图1所示，其中所述掩膜板治具100还包括：第一限位构件11和第二限位构件12。其中所述第一限位构件11设置于所述第二掩膜板的四周，所述第一限位构件11限制所述第二掩膜板的竖直方向的偏移；所述第二限位构件12设置于相邻两个所述第一限位构件11与所述框体1之间，所述第二限位构件12限制所述第二掩膜板的水平方向的偏移。通过第一限位构件11和第二限位构件12组合对第二掩膜板进行竖直和水平方向的限位，避免其产生偏移现象。

其中所述第一限位构件11包括螺丝或者下压式夹持构件中的一种或多种。以此达到防止第二掩膜板在竖直方向发生偏移现象。

如图2所示，本实施例中所述第一限位构件11为下压式夹持构件。所述下压式夹持构件可以呈圆柱状，也可以呈长方体状。本实施例中在所述第二掩膜板相对的两侧，一侧采用圆柱状，一侧采用长方体状。圆柱的侧边设有一开口，下压式夹持构件内设有一弹簧，通过弹簧使其开口背向所述支撑台阶2，当所述第二掩膜板放在所述框体1内的支撑台阶2上时，所述第二掩膜板的自重使下压式夹持构件的开口与所述第二掩膜板的侧边耦合，从而起到限位目的，防止第二掩膜板在掩膜板治具100内发生竖直方向的偏移。同样长方体状的下压式夹持构件工作原理相同，在此不再赘述。

如图1、2所示，所述第二限位构件12设置于相邻两个所述第一限位构件11与所述框体1之间。所述第二限位构件12通过螺丝调节第一限位构件11与框体1之间的间隙，从而达到限位目的，防止第二掩膜板在掩膜板治具100内发生水平方向的偏移。

如图2所示，本实施例中将设置第二限位构件12处的第一构件11设置成长方体状便于进行操作，因为圆柱状不利于第二限位构件12进行操作。

其中所述掩膜板治具100还可以包括：掩膜板识别码13，所述掩膜板识别码13设置于所述框体1上，便于人工命名，方便设备、人员、系统能够识别。

以上对本发明所提供的掩膜板治具、曝光机进行了详细介绍。应理解，本文所述的示例性实施方式应仅被认为是描述性的，用于帮助理解本发明的方法及其核心思想，而并不用于限制本发明。在每个示例性实施方式中对特征或方面的描述通常应被视作适用于其他示例性实施例中的类似特征或方面。尽管参考示例性实施例描述了本发明，但可建议所属领域的技术人员进行各种变化和更改。本发明意图涵盖所附权利要求书的范围内的这些变化和更改，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。