显示面板及其制备方法与流程

本申请涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术：

黑色矩阵设置在阵列基板上(blackmatrixonarray，boa)技术与彩膜设置在阵列基板上(colorfilteronarray，coa)技术是液晶显示装置中常用的两种集成技术，而黑色光学间隔物(blackphotospacer，bps)技术作为boa技术的一种，常搭配coa技术实现显示面板的制备。在制程过程中，将液晶显示装置中黑色矩阵与隔垫物两道独立制程整合为一道制程，实现三种功能结构的制备；即在阵列基板上利用黑色有机光阻，采用单次曝光显影制程工艺，一次性制得高度不同的主隔垫物、次隔垫物及黑色矩阵，在实现遮光的同时，也可具备支撑盒厚的功能。

在常规的黑色矩阵制备于彩膜基板上(bmoncf)结构中，黑色矩阵制备于彩膜基板上可以经由图形化工艺，形成对位标记等信息，提高各制程段的精度。但在bps技术中，由于黑色矩阵制备于阵列基板上，区别于bmoncf结构，所以作为上基板的彩膜基板上仅需沉积一层透明导电层作为公共电极，不涉及对位标记的图形化制程，因此也就无法得到关于精细图形的定位标记，故常规的采用图形化工艺形成对位信息，继而实现对精度控制的方法就无法适用。

具体的，在成盒制程中，由于bps不涉及图形化制程，所以也就无法对聚酰亚胺(polyimide，pi)配向膜喷涂的精度进行控制。而pi配向膜喷涂精度又会对显示性能造成一定影响，当喷涂的pi配向膜不能完整的覆盖显示装置的显示区时，会造成漏光问题；此外若pi配向膜堆积在显示区的边界处，将引起亮度不均的问题；若pi配向膜超出应涂布范围，即超出切割线，被喷涂至如过孔区等部位时，由于pi配向膜与框胶的接着影响，再加之长时间的水汽影响，就会存在可靠性测试中稳定性失效的风险。

技术实现要素：

本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法，能够解决现有的显示面板在制备过程中基板无对位标记时，致使配向膜边界无法得到精确调控而造成显示面板漏光或亮度不均的问题，以及配向膜与框胶接着在可靠性测试中导致稳定性失效的问题。

本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：

s10：提供一待涂布配向膜的基板；

s20：提供一光罩，利用所述光罩对所述基板进行曝光处理，在所述基板表面界定形成亲水区和疏水区，所述亲水区对应显示面板的显示区，所述疏水区对应显示面板的非显示区；

s30：在所述基板上涂布配向膜，以将所述配向膜限制在所述亲水区内。

在一些实施例中，所述光罩包括透光区和遮光区，在所述步骤s20中，所述透光区对准所述显示区，所述遮光区对准所述非显示区。

在一些实施例中，在所述步骤s20中，采用紫外光对所述基板进行曝光处理。

在一些实施例中，在所述步骤s20之前，所述制备方法还包括对所述待涂布配向膜的基板进行清洗。

在一些实施例中，所述基板包括衬底与导电层，所述导电层设置于所述衬底的表面且位于所述显示区和所述非显示区，所述配向膜形成于所述导电层远离所述衬底的一侧表面。

在一些实施例中，所述显示面板还包括位于所述非显示区内的框胶区，所述亲水区与所述疏水区的边界位于所述非显示区内所述框胶区靠近所述显示区的一侧。

在一些实施例中，所述步骤s30还包括：

s301：在所述基板表面涂布配向膜溶液；

s302：对所述配向膜溶液进行固化处理，得到所述配向膜。

在一些实施例中，所述配向膜溶液为聚酰亚胺。

在一些实施例中，在所述步骤s301中，所述配向膜溶液在所述疏水区的接触角大于所述配向膜溶液在所述亲水区的接触角。

在一些实施例中，所述配向膜溶液在所述疏水区的接触角与所述配向膜溶液在所述亲水区的接触角的差值大于或等于15°且小于或等于180°。

在一些实施例中，所述光罩为硬质图形化基板或软质图形化基板。

本申请还提供一种由所述显示面板的制备方法制得的显示面板。

本申请实施例提供的显示面板及其制备方法，所述制备方法包括：提供一待涂布配向膜的基板；提供一光罩，利用所述光罩对所述基板进行曝光处理，在所述基板表面界定形成亲水区和疏水区，所述亲水区对应显示面板的显示区，所述疏水区对应显示面板的非显示区；在所述基板上涂布配向膜，以将所述配向膜限制在所述亲水区内。采用本发明，可解决现有的显示面板制备方法中因所述基板上无对位标记，而无法对所述配向膜的边界精度进行控制，易使所述配向膜的覆盖面积不足或覆盖超出应制备区域，导致显示面板出现漏光或亮度不均的问题；避免了配向膜与框胶接着易造成可靠性测试中存在稳定性失效的问题；也避免了因无对位标记辅助制备所述配向膜时，采用基板边缘信息作为参考标记，而造成误差的技术问题；本申请可在不增加现有制程难度及时间的前提下，实现对所述配向膜边界精度的控制。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1a为本申请实施例提供的显示面板制备流程图；

图1b～1e其为对应1a所示制备方法的过程示意图；

图2为本申请实施例提供的基板的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的显示面板的俯视图；

图4为本申请实施例提供的光罩的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

具体的，请参阅图1a，其为本申请实施例提供的显示面板的制备流程图，如图1b～1d所示，其为对应1a所示制备方法的过程示意图，包括以下步骤：

s10：提供一待涂布配向膜的基板101，如图1b所示；

s20：提供一光罩200，利用所述光罩200对所述基板101进行曝光处理，在所述基板101表面界定形成亲水区101a和疏水区101b，所述亲水区101a对应显示面板的显示区，所述疏水区101b对应显示面板的非显示区，如图1c和图1d所示；

s30：在所述基板101上涂布配向膜102，以将所述配向膜102限制在所述亲水区101a内，避免因所述配向膜102的覆盖面积不足或覆盖超出应制备区域，导致显示面板出现漏光或亮度不均的问题，如图1e所示。

其中，在所述步骤s20之前，所述制备方法还包括对所述待涂布配向膜的基板101进行清洗。

在所述步骤s20中，采用紫外光对所述基板101进行曝光处理，所述紫外光光刻技术包括极紫外光(extremeultravioletlithography，euv)光刻技术。

所述步骤s30还包括：

s301：在所述基板101表面涂布配向膜溶液；

s302：对所述配向膜溶液进行固化处理，得到所述配向膜102。

所述配向膜溶液为聚酰亚胺，所述配向膜溶液可采用喷涂法、旋涂法、液相法等方法制备于所述亲水区101a。由于配向膜溶液扩散的倾向性，所以在所述亲水区101a与所述疏水区101b的边界处，所述配向膜溶液会更容易制备于所述亲水区101a，且所述配向膜溶液会在所述亲水区101a与所述疏水区101b的交界处获得预期的涂敷边界，实现对边界精度的控制。

在衡量液体对材料表面润湿性能时一般采用液体在固体材料表面上的接触角进行表征，所以对于所述配向膜溶液在所述亲水区101a与所述疏水区101b的性能也可用接触角进行表征。

由于所述亲水区101a与所述疏水区101b表现出不同的亲水性质，所以所述配向膜溶液在所述疏水区101b和所述亲水区101a具有不同的接触角，而为使所述配向膜溶液形成具有足够边界精度的所述配向膜102，在所述步骤s301中，所述配向膜溶液在所述疏水区101b的接触角θ1大于所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角θ2，以使所述亲水区101a具有更好的润湿性能，便于所述配向膜溶液在所述亲水区101a扩散。

另外，由于所述配向膜溶液在所述疏水区101b的接触角θ1与所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角θ2差异越大，所述配向膜溶液在所述亲水区101a与所述疏水区101b所表现出的扩散性能就越不同，所以所述配向膜溶液在所述疏水区101b的接触角θ1与所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角的差值大于或等于15°且小于或等于108°，即15°≤θ1-θ2≤180°，以保证所述亲水区101a与所述疏水区101b润湿性能具有足够差异，确保所述配向膜102边界具有足够精度。

由于接触角等于90°时，是配向膜溶液能否润湿所述亲水区101a的分界线；所以，为保证所述配向膜溶液可以制备在所述亲水区101a，且制备出的所述配向膜102具有足够的边界精度，所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角θ2小于90°。类似地，所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角θ2大于或等于0°。在所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角θ2等于0°时，所述配向膜溶液可以完全制备在所述亲水区101a。因此，所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角θ2的变化范围为：0°≤θ2<90°，更进一步地，所述配向膜溶液在所述亲水区101a的接触角θ2的变化范围为：0°≤θ2≤30°。

在所述步骤s20之前，对所述待涂布配向膜的基板进行清洗的步骤、步骤s20及步骤s30均在前清洗段(beforeprocesscleaning,bpc)机台中进行，由于所述bpc机台中包括纯水或化学试剂清洗部件、干燥和euv处理部件、成膜固化部件等部件，所述bpc机台的各部件对应各个站点，所以在制备时对所述待涂布配向膜的基板进行清洗可在清洗站点进行，所述步骤s20可在紫外线(ultravioletlithography，uv)或euv站点进行，所述步骤s30可在成膜固化站点进行。如此便可最大限度的节省制程工序，在保证现有制程流程时间不变或不大幅变动的同时，提高对所述配向膜102边界精度的控制。

请参阅图2，其为本申请实施例提供的基板的结构示意图；所述基板101包括衬底1011与导电层1012，所述导电层1012设置于所述衬底1011的表面且位于所述显示区和所述非显示区，所述配向膜102形成于所述导电层1012远离所述衬底1011的一侧表面。

所述亲水区101a及所述疏水区101b通过所述紫外光光刻技术形成于所述导电层1012远离所述衬底1011的表面。

所述导电层1012的制备材料包括氧化铟锡、铟锡氧化物、氧化锌的其中一种。

本申请还提供一种由所述显示面板的制备方法制得的显示面板；具体地，请参阅图3，其为本申请实施例提供的显示面板的俯视图；所述显示面板至少具有一显示区100a及位于所述显示区100a外围的非显示区100b，所述非显示区100b包括第一非显示区1001和第二非显示区1002，所述第二非显示区1002位于所述显示区100a与所述第一非显示区1001之间。

所述显示面板还包括位于所述非显示区100b内的框胶区(图中未示出)，所述亲水区101a与所述疏水区101b的边界103位于所述非显示区100b内所述框胶区靠近所述显示区100a的一侧；具体地，所述亲水区101a与所述疏水区101b的边界103位于goa走线104靠近所述显示区100a的一侧。

所述基板101为彩膜基板，所述显示面板还包括与所述基板101相对设置的阵列基板210，所述阵列基板210包括第一配向膜、第一导电层、第一绝缘层、色阻层、第二绝缘层、栅极绝缘层、栅极信号线、数据信号线等未示出部分。所述阵列基板210上设置有对位标记211，所述对位标记211用于在所述阵列基板210靠近所述基板101的一侧形成所述第一配向膜。所述显示面板在所述阵列基板210的非显示区设置有绑定端子212，所述绑定端子212未被所述基板101所覆盖。

请参阅图4，其为本申请实施例提供的光罩的结构示意图；所述光罩200包括透光区200a和遮光区200b，在所述步骤s20中，所述透光区200a对准所述显示区，所述遮光区200b对准所述非显示区。

所述透光区200a包括第一透光区2001以及位于所述第一透光区2001外侧的第二透光区2002；在所述步骤s20中，所述第一透光区2001对准所述显示区，所述第二透光区2002对准所述第二非显示区，所述遮光区200b对准所述非显示区，以使所述亲水区与所述疏水区的边界位于所述非显示区内，避免所述配向膜覆盖不足导致所述显示面板出现漏光的问题。

具体地，请参阅图3和图4，当将所述光罩200置于所述导电层1012表面时，所述第一透光区2001对准所述显示区100a，所述第二透光区2002对准所述第二非显示区1002，所述遮光区200b对准所述非显示区100b，采用euv光刻技术对覆盖所述光罩200的所述导电层1012进行表面处理，会激发所述导电层1012上的氧离子，产生氧化反应，活化表面，形成有利于表面接着的亲水性官能基团，改变所述导电层1012表面的接着性质，从而可在所述导电层1012表面形成所述亲水区101a与所述疏水区101b。

所述亲水区101a包括第一亲水区1012a和第二亲水区1012b；具体地，利用所述光罩200的所述第一透光区2001对所述导电层1012进行曝光处理，在所述导电层1012表面形成所述第一亲水区1012a；利用所述光罩200的所述第二透光区2002对所述导电层1012进行曝光处理，在所述导电层1012表面形成所述第二亲水区1012b，以使所述亲水区101a与所述疏水区101b的边界103位于所述非显示区100b内，避免所述配向膜102覆盖不足导致所述显示面板出现漏光的问题。

由于euv光刻技术采用的光源波长较短，得到的曝光波长也较短，所以光刻分别率也较高，其表现在产品中即为特征尺寸更精确，即采用euv光刻技术对所述导电层1012进行曝光处理，得到的所述亲水区101a与所述疏水区101b的边界也更精细，而由于所述配向膜102被限制在所述亲水区101a内，所以所述配向膜102的边界也更精细，因此可实现对所述配向膜102边界精度的控制。

所述光罩200为硬质图形化基板或软质图形化基板，包括镀有金属图案的玻璃基板、具有网孔的金属薄片、菲林膜片。

本申请实施例提供的显示面板及其制备方法，所述制备方法包括：提供一待涂布配向膜的基板101；提供一光罩200，利用所述光罩200对所述基板101进行曝光处理，在所述基板101表面界定形成亲水区101a和疏水区101b，所述亲水区101a对应显示面板的显示区，所述疏水区101b对应显示面板的非显示区；在所述基板101上涂布配向膜102，以将所述配向膜102限制在所述亲水区101a内。采用本发明，可解决现有的显示面板制备方法中因所述基板101上无对位标记，而无法对所述配向膜102的边界进行限制，易使所述配向膜102的覆盖面积不足或覆盖超出应制备区域，导致显示面板出现漏光或亮度不均的问题；避免了配向膜102与框胶接着易造成可靠性测试中存在稳定性失效的问题；也避免了因无对位标记辅助制备所述配向膜102时，采用基板101边缘信息作为参考标记，而造成误差的技术问题；本申请可在不增加现有制程难度及时间的前提下，实现对所述配向膜边界精度的控制。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。