技术总结
本实用新型涉及一种曝光平台，包括：台体，所述台体包括敞口的第一空腔，所述第一空腔包括第一侧表面和与所述第一侧表面连接的第一底表面，所述第一侧表面和所述第一底表面之间的夹角为钝角，所述第一底表面平行于水平面，用于放置半导体基底以进行曝光。本实用新型通过在台体中加工第一侧表面倾斜的第一空腔，使所述第一空腔上宽下窄，故偏移的半导体基底会自动滑落到所述第一空腔底部的第一底表面上，实现所述半导体基底的自动对准，且使得所述半导体基底在放置完成后不易滑出所述第一空腔，从而使得所述半导体基底更加稳固，该过程能够很大程度的提高对准精度，从而增加所述半导体基底位置的对准率。
技术研发人员：徐猛;古哲安;黄志凯;叶日铨
受保护的技术使用者：德淮半导体有限公司
技术研发日：2019.03.22
技术公布日：2019.11.05