一种异形基材的曝光装置的制作方法

本实用新型涉及曝光技术领域，尤其涉及一种异形基材的曝光装置。

背景技术：

随着科学技术的发展，人们对显示面板的外形有了更加多样化的要求，因此出现了异形显示面板。异形显示面板的出现突破了显示面板单一矩形结构的局限性，不但使得显示效果更加多样化，而且使得显示面板的应用途径也越来越广泛。

曝光是通过灯光将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上。现有的曝光装置，只能对平面产品进行曝光加工，如平面玻璃面板的曝光，无法完成异形基材的曝光加工。长期以来，由于无法解决将掩膜板妥帖覆置在异形基材表面上，因此不能应用于异形基材复杂图案的腐蚀加工。

技术实现要素：

为了解决上述现有技术的不足，本实用新型提供一种异形基材的曝光装置。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种异形基材的曝光装置，包括：

异形基材，所述异形基材为非平面状；

柔性掩膜板，贴合于所述异形基材上；

异形夹具，所述异形夹具具有与所述异形基材相适应的起伏形貌的表面，用于放置所述异形基材；

磁吸附装置，用于将所述柔性掩膜板、异形基材和异形夹具压紧固定；

曝光光源，用于使异形基材上的感光油墨曝光。

进一步地，所述磁吸附装置包括设于所述柔性掩膜板上的第一磁铁、和设于所述异形夹具上的第二磁铁，所述第一磁铁和第二磁铁相对设置，所述第一磁铁底部的磁极和所述第二磁铁顶部的磁极为相反的磁极。

进一步地，所述第一磁铁和第二磁铁均为永磁铁。

进一步地，所述第一磁铁为在柔性掩膜板上间隔设置的磁铁阵列；所述第二磁铁为在异形夹具上间隔设置的磁铁阵列。

进一步地，所述柔性掩膜板采用柔性材料制成。

进一步地，所述柔性材料为菲林、pet或pi。

进一步地，所述异形夹具由硬质材料制成。

进一步地，所述硬质材料为木质、铝质、铜质、锡质、不锈钢、铝合金、或陶瓷。

进一步地，所述曝光光源包括若干个平行设置的uvled灯。

本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型中，异形基材卡位于异形夹具上，柔性掩膜板贴合于异形基材上，磁吸附装置用于将所述柔性掩膜板、异形基材和异形夹具压紧固定，提高曝光精度，开启曝光光源即可完成对异形基材的曝光制程，可以在异形基材上形成清晰、美观、连续的复杂腐蚀图案。

本实用新型曝光装置结构简单，操作方便、省力省时、可靠性较高，成本较低，不需要使用昂贵精密曝光设备，使用普通曝光机即可批量生产，因此实用性较好，易于推广应用，具有较大实用价值。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图中：1、曝光光源，2、第一磁铁，3、柔性掩膜板，4、异形基材，5、异形夹具，6、第二磁铁。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

一种异形基材的曝光装置，包括异形基材、柔性掩膜板、异形夹具、磁吸附装置和曝光光源。

所述异形基材为非平面状。具体地，所述异形基材的表面为凹面、凸面或凹凸面。

所述柔性掩膜板贴合于所述异形基材上。

所述柔性掩膜板采用柔性材料制成。所述柔性材料为菲林、pet或pi，但不限于前面所列举的几种材料，也可以是其他未列举在本实施例中的但被本领域技术人员所熟知的其他材料。

曝光装置中所采用的掩膜板通常是玻璃基板加上金属铬镀层构成的，由于玻璃基板硬度较大、缺乏柔性，因而传统的曝光装置只能适用于平面基材的曝光加工，无法对异形基材进行曝光加工。本实用新型中采用柔性掩膜板，具有柔性，从而可弯曲变形，其可以自然吸附到异形基材上实现紧密接触，能够对异形基材进行曝光加工。

可以理解，所述柔性掩膜板包括透光区和透光区周围的遮光区。所述第一磁铁设于所述柔性掩膜板的遮光区。

所述异形夹具具有与所述异形基材相适应的起伏形貌的表面，用于放置所述异形基材。

所述异形夹具由硬质材料制成。所述硬质材料为木质、铝质、铜质、锡质、不锈钢、铝合金、或陶瓷，但不限于前面所列举的几种材料，也可以是其他未列举在本实施例中的但被本领域技术人员所熟知的其他材料。

本实用新型中的异形夹具具有与所述异形基材相适应的起伏形貌的表面，使得异形基材与异形夹具紧密贴合。

所述磁吸附装置用于将所述柔性掩膜板、异形基材和异形夹具压紧固定。

所述磁吸附装置包括设于所述柔性掩膜板上的第一磁铁、和设于所述异形夹具上的第二磁铁，所述第一磁铁和第二磁铁相对设置，所述第一磁铁底部的磁极和所述第二磁铁顶部的磁极为相反的磁极。

所述第一磁铁和第二磁铁均为永磁铁，以简化磁吸附部件的结构和操控吸附部件的过程；所述第一磁铁和第二磁铁也可为电磁铁，以方便控制电磁铁打开、关闭及磁力大小，使吸附部件各区域的磁力变化更加灵活。

所述第一磁铁为在柔性掩膜板上间隔设置的磁铁阵列；所述第二磁铁为在异形夹具上间隔设置的磁铁阵列。

可以理解，所述磁铁阵列中磁铁的个数至少为两个。本实用新型中，并不具体限定磁铁阵列中磁铁的个数，本领域技术人员可以根据实际需要进行设定。通过设置磁铁阵列，能够对柔性掩膜板和异形夹具的各个区域产生较均匀的吸附力。

本实用新型对第一磁铁和第二磁铁的材料不作具体限定，可以选自磁铁性材料中的任意1种或至少2种的组合，进一步优选镍铁合金、钕铁硼合金、钐钴磁铁、铝镍钴磁铁、和铁氧体磁铁中的任意1种或至少2种的组合。

本实用新型中，在柔性掩膜板上设置第一磁铁、在异形夹具上设置第二磁铁，所述第一磁铁和第二磁铁相对设置，所述第一磁铁底部的磁极和所述第二磁铁顶部的磁极为相反的磁极。本实用新型中采用磁吸附方式，利用磁铁异极相吸的原理，将所述柔性掩膜板固定在所述异形夹具上，使得异形基材夹持于所述柔性掩膜板与所述异形夹具之间，完成对异形基材的压合，使得柔性掩膜板与异形基材之间达到紧密贴合，让异形基材与柔性掩膜板之间达到零间隙的重合度。

本实用新型中采用磁吸附装置，由于磁铁之间的吸引力不会随着工艺时间变长而减弱，因此可有效的避免待处理异形基材在曝光过程中发生移动等问题。

所述曝光光源设于所述柔性掩膜板上方，所述曝光光源用于使异形基材上的感光油墨曝光。

优选地，所述曝光光源包括若干个平行设置的uvled灯。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本实用新型的保护范围之内。