一种单向螺旋COF涂布滚轮的制作方法

本实用新型涉及一种单向螺旋cof涂布滚轮，属于制备cof装置技术领域。

技术背景

cof——chiponfilm，一种覆晶薄膜。通过在由绝缘薄膜和金属层构成的cof基材上形成线路图案，在线路图案的规定区域进行电镀、设置阻焊剂等表面加工，然后再器件搭载区域搭载ic等电子元器件，形成cof产品，组装在其他电路板上使用。

其中，在cof基材（40）的金属层上涂布一层光刻胶，其工作原理是：涂布单元中的下涂布滚轮（20）转动，将光刻胶从储存槽（30）带出，涂布单元中的上涂布滚轮（10）沿与下涂布滚轮（20）相反的方向转动，光刻胶从下涂布滚轮（10）传递到上涂布滚轮（20），然后通过一定的压力，使光刻胶附着在cof基材（40）的金属层表面，形成一层均匀的光刻胶薄膜，用以加工形成线路。如图1所示。

在现有的技术中，为了能涂布一层均匀的光刻胶，如图2所示，通常会在涂布单元的上涂布滚轮（10）上设置具有一定间隔排列的沟槽（11），涂布单元转动时，光刻胶带出充满上涂布滚轮（10）的沟槽（11）后，进行光刻胶涂布。从而达到光刻胶涂布在产品上时，光刻胶在cof基材（40）的金属层上形成一层全覆盖的光刻胶薄膜。然而，现有的这种间隔排列沟槽（11）的上涂布滚轮（10）仅能对应黏度≥5.0cp的光刻胶涂布，当光刻胶黏度低于5.0cp时，光刻胶会因重力作用沿着上涂布滚轮（10）的沟槽（11）回流，造成无法涂布或涂布上的光刻胶不均匀，导致无法形成正常线路，影响产品良率。

技术实现要素：

为了克服上述现有技术的不足，本实用新型提供了一种适用于光刻胶黏度低于5.0cp的涂布，能够均匀的将光刻胶涂布在cof基材的金属层上，具体涉及一种单向螺旋cof涂布滚轮，包括将光刻胶带出的下涂布滚轮，以及用于转移下涂布滚轮上的光刻胶、并涂抹在cof基材的上涂布滚轮；所述上涂布滚轮上设有螺旋状沟槽。

作为本实用新型所述的一种单向螺旋cof涂布滚轮的优选方案：所述螺旋状沟槽为左螺旋状沟槽或右螺旋状沟槽。

作为本实用新型所述的一种单向螺旋cof涂布滚轮的优选方案：所述螺旋状沟槽，其螺旋角度α为0<α<90°，沟槽宽度l为0.1~0.8mm，沟槽深度h为0.1~0.8mm，沟槽间距m为0.1~0.5mm。

作为本实用新型所述的一种单向螺旋cof涂布滚轮的优选方案：所述上涂布滚轮的转动方向应与cof基材运动方向相同。

作为本实用新型所述的一种单向螺旋cof涂布滚轮的优选方案：所述下涂布滚轮与所述上涂布滚轮转动方向相反。

本实用新型有益技术效果：

当光刻胶黏度降低时，上涂布滚轮上的螺旋状沟槽，实现光刻胶在产品上均匀涂布，降低在涂布光刻胶过程中产生的回流。

附图说明

图1是cof基材的金属层上涂布光刻胶工作原理示意图；

图2是现有上涂布滚轮结构示意图；

图3是本实用新型上涂布滚轮结构示意图；

图中：10-上涂布滚轮；11-沟槽；20-下涂布滚轮；30-储存槽；40-cof基材。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合说明书附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似推广，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

其次，此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本实用新型至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本说明书中不同地方出现的“在一个实施例中”并非均指同一个实施例，也不是单独的或选择性的与其他实施例互相排斥的实施例。

参照图3，为本实用新型第一个实施例，提供了一种单向螺旋cof涂布滚轮，包括将光刻胶带出的下涂布滚轮20，以及用于转移下涂布滚轮20上的光刻胶、并涂抹在cof基材40的上涂布滚轮10；其特征在于：所述上涂布滚轮10上设有螺旋状沟槽11。

具体地，螺旋状沟槽11在转移光刻胶和涂布到cof基材的金属层上时，光刻胶会在螺旋状沟槽11上进行螺旋式运动，因此，在涂布时更均匀，降低光刻胶回流的现象。

所述螺旋状沟槽11为左螺旋状沟槽或右螺旋状沟槽。

具体地，选用左螺旋状沟槽或右螺旋状沟槽，取决于产品的实际需要，以及加工制造工艺。

所述螺旋状沟槽11，其螺旋角度α为0<α<90°，沟槽宽度l为0.1~0.8mm，沟槽深度h为0.1~0.8mm，沟槽间距m为0.1~0.5mm。

具体地，螺旋角度α的取值根据光刻胶黏度值确定，光刻胶黏度的黏度值越低，其螺旋角度α取值越大，另外，为了在cof基材的金属层上涂布均匀，还要调节上涂布滚轮10的转速，根据实际需要，以能够满足产品生产质量要求为基准；螺旋角度α优选30°、45°、60°以及75°；另外，沟槽宽度l、沟槽深度h以及沟槽间距m，可以调节光刻胶涂布的厚度，根据产品的实际需求。

所述上涂布滚轮10的转动方向应与cof基材40运动方向相同。

具体地，该种运动方式，可以保证整个生产线的流畅性，减小涂布造成的阻力作用。

所述下涂布滚轮20与所述上涂布滚轮10转动方向相反。

具体地，所述上涂布滚轮10的长度为152±0.03mm，但不限于此，具体长度可根据产品进行调整。另外，需要注意的是，上涂布滚轮10的长度小于等于下涂布滚轮20，可以保证整个上涂布滚轮10上沾满光刻胶。

应说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。