1.一种用于测量衬底上的标记的位置的设备，所述设备包括：
照射系统，所述照射系统被配置成调节至少一个辐射束以形成在空间上串联地分布的多个照射斑，使得在所述衬底的扫描期间所述多个照射斑顺序地入射到所述标记上；和
投影系统，所述投影系统被配置成投影由来自所述衬底的所述标记衍射的辐射，通过由所述标记对所述多个照射斑的衍射来产生衍射辐射；
其中所述投影系统还被配置成调制所述衍射辐射并且将经调制的辐射投影到检测系统上，所述检测系统被配置成产生与所述多个照射斑中的每个照射斑相对应的信号，所述信号被组合以确定所述标记的位置。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述照射系统被配置成引导所述多个照射斑，使得所述衬底上的相邻的照射斑之间存在间隙。
3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述照射系统被配置成引导所述多个照射斑，使得所述衬底上的相邻的照射斑之间不存在间隙。
4.根据任一前述权利要求所述的设备，其中，所述照射系统被配置成使得所述多个照射斑中的仅一个照射斑同时入射到所述标记上。
5.根据任一前述权利要求所述的设备，其中，所述设备用于测量多个标记的位置，其中所述照射系统被配置成使得当所述多个照射斑中的一个照射斑入射到所述标记上时，所述多个照射斑中的另一个照射斑入射到另外的标记上，以便确定所述另外的标记的位置。
6.根据任一前述权利要求所述的设备，其中，所述投影系统包括能够移动的反射镜，所述能够移动的反射镜被配置成被移动使得来自所述多个照射斑中的每个照射斑的所述衍射辐射入射到所述检测系统的一个检测器上。
7.根据任一前述权利要求所述的设备，其中，所述照射系统被配置成使得多个辐射束被调节以各自形成所述多个照射斑中的至少一个照射斑。
8.根据任一前述权利要求所述的设备，其中，所述照射系统包括多个照射子系统，其中每个照射子系统被配置成调节来自多个辐射源中的单独一个辐射源的至少一个辐射束以形成所述多个照射斑中的至少一个照射斑。
9.根据任一前述权利要求所述的设备，其中，所述检测系统被配置成产生信号，以便确定与所述多个照射斑中的每个照射斑相对应的标记的临时位置并且将所述临时位置组合以产生所述标记的位置。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的设备，其中，所述检测系统被配置成产生待组合成组合信号的信号，所述组合信号被用于产生所述标记的位置。
11.一种用于测量衬底上的标记的位置的测量系统，所述测量系统包括：根据任一前述权利要求所述的设备；和额外的设备，其中所述额外的设备包括：额外的照射系统，所述额外的照射系统被配置成调节至少一个额外的辐射束以形成在空间上串联地分布的多个额外的照射斑，使得在所述衬底的扫描期间所述多个额外的照射斑被顺序地入射到额外的标记上；和额外的投影系统，所述额外的投影系统被配置成投影由来自所述衬底的所述额外的标记衍射的辐射，通过由所述额外的标记对所述多个额外的照射斑的衍射来产生衍射辐射；其中所述额外的投影系统被配置成调制所述衍射辐射且将经调制的辐射投影到额外的检测系统上，所述额外的检测系统被配置成产生与所述多个额外的照射斑中的每个额外的照射斑相对应的信号，所述信号被组合以与由所述设备进行的所述标记的位置的测量并行地确定所述额外的标记的位置。
12.一种量测设备，所述量测设备包括根据权利要求1至10所述的设备和/或根据权利要求11所述的测量系统。
13.一种光刻设备，所述光刻设备被布置成将来自图案形成装置的图案投影到衬底上，所述光刻设备包括根据权利要求1至10所述的设备和/或根据权利要求11所述的测量系统。
14.一种用于测量衬底上的标记的位置的设备，所述设备包括：
照射系统，所述照射系统被配置成调节至少一个辐射束以形成照射带，使得在所述衬底的扫描期间所述照射带入射到所述标记上；和
投影系统，所述投影系统被配置成投影由来自所述衬底的所述标记衍射的辐射，通过由所述标记对所述照射带的衍射来产生衍射辐射；
其中所述投影系统还被配置成调制所述衍射辐射并且将经调制的辐射投影到检测系统上，所述检测系统被配置成产生与所述照射带相对应的信号以确定所述标记的位置。
15.一种用于测量衬底上的标记的位置的方法，所述方法包括：
提供测量光学系统，所述测量光学系统包括照射系统和投影系统，所述照射系统被配置成调节至少一个辐射束以形成在空间上串联地分布的多个照射斑，所述投影系统被配置成对从所述标记衍射的辐射进行投影和调制；
扫描所述衬底，使得所述多个照射斑被顺序地入射到所述标记上；
从由所述标记衍射的所述多个照射斑产生衍射辐射；
将经调制的辐射投影到检测系统上，所述检测系统被配置成产生与所述多个照射斑中的每个照射斑相对应的信号，所述信号被组合以确定所述标记的位置。