1.一种电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤s1：对光纤进行预处理，以在所述光纤沿轴向分布的法位光栅调制区上制作覆盖一电磁感应材料层，形成光纤光栅元件；
步骤s2：采用交变磁场与所述电磁感应材料层相作用，使所述电磁感应材料层发热进而对所述光纤的法位光栅调制区进行加热，以改变所述法位光栅调制区的折射率，形成光纤光栅。
2.根据权利要求1所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，在步骤s2之后，还包括如下步骤：
步骤s3：通过控制所述交变磁场将所述光纤光栅的实时写制光谱调制为所需写制光谱。
3.根据权利要求2所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，步骤s3包括如下步骤：
步骤s3.1：向所述光纤光栅元件内耦合进检测光束；
步骤s3.2：接收从所述光纤光栅元件内透射或反射出来的光束，得到所述光纤光栅的实时写制光谱；
步骤s3.3：控制所述交变磁场，将所述光纤光栅的实时写制光谱调制为所需写制光谱。
4.根据权利要求2或3所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，通过控制所述交变磁场的磁场强度和/或交变频率，来调制所述光纤光栅的谐振峰值波长、损耗峰强度和制备调制时间中的至少一样。
5.根据权利要求2或3所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，通过控制产生所述交变磁场的交变电流来控制所述交变磁场。
6.根据权利要求5所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，通过控制所述交变电流的电流电压强度和/或交变频率，来调制所述光纤光栅的谐振峰值波长、损耗峰强度和制备调制时间中的至少一样。
7.根据权利要求1所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，步骤s1包括如下步骤：
步骤s1.1：根据相位匹配公式，确定所需光纤光栅的法位光栅调制区沿所述光纤轴向分布的位置；
步骤s1.2：在所述光纤沿轴向分布的法位光栅调制区上制作覆盖所述电磁感应材料层。
8.根据权利要求7所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，步骤s1.2包括如下步骤：
步骤s1.2.1：在所述光纤表面上制作覆盖一绝缘隔热材料层；
步骤s1.2.2：将覆盖于所述法位光栅调制区上的绝缘隔热材料层进行剥离，使所述法位光栅调制区从所述绝缘隔热材料层中露出；
步骤s1.2.3：在露出的法位光栅调制区上制作覆盖所述电磁感应材料层。
9.根据权利要求7所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，步骤s1.2包括如下步骤：
步骤s1.2.1：在所述光纤表面上制作覆盖一涂覆材料层；
步骤s1.2.2：将覆盖于所述法位光栅调制区上的涂覆材料层进行剥离，使所述法位光栅调制区从所述涂覆材料层中露出；
步骤s1.2.3：在露出的法位光栅调制区上制作覆盖所述电磁感应材料层；
步骤s1.2.4：将剩余的涂覆材料层进行剥离。
10.根据权利要求7所述的电控光纤光栅的制备方法，其特征在于，步骤s1.2包括如下步骤：
步骤s1.2.1：在所述光纤表面上制作覆盖所述电磁感应材料层；
步骤s1.2.2：在所述电磁感应材料层表面上制作覆盖一光敏材料层；
步骤s1.2.3：对所述光敏材料层进行曝光显影，使覆盖于所述法位光栅调制区之外的电磁感应材料层从所述光敏材料层中露出；
步骤s1.2.4：对露出的电磁感应材料层进行刻蚀。