1.一种光学元件，其特征在于，包括：
对于使用波长频带的光而言透明的基板；
防反射层；
匹配层；以及
由斜角蒸镀膜构成的双折射层，
相对于使用波长频带的光的光学损耗为1.0％以下。
2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述防反射层为层叠了2种以上折射率不同的无机氧化物膜的多层膜。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的光学元件，其中，所述匹配层为层叠了2种以上折射率不同的无机氧化物膜的多层膜。
4.一种光学元件的制造方法，制造权利要求1至3中任一项所述的光学元件，其特征在于包括：
以所述光学元件相对于使用波长频带的光的光学损耗成为1.0％以下的方式，通过使氧流量比为既定范围的反应性溅射法来形成所述防反射层及所述匹配层的至少任一层。
5.根据权利要求4所述的光学元件的制造方法，其中，
所述防反射层及所述匹配层的至少任一层具有含有nb氧化物膜，
所述光学元件的制造方法包括：使用惰性气体和氧气的混合气体，通过以nb为靶的反应性溅射法来成膜所述含有nb氧化物膜，
成膜所述含有nb氧化物膜时的所述混合气体中的氧流量比[氧气流量/（惰性气体流量＋氧气流量）]为18％以上。
6.根据权利要求4至5中任一项所述的光学元件的制造方法，其中，
所述防反射层及所述匹配层的至少任一层具有含有si氧化物膜，
所述光学元件的制造方法包括：使用惰性气体和氧气的混合气体，通过以si为靶的反应性溅射法来成膜所述含有si氧化物膜，
成膜所述含有si氧化物膜时的所述混合气体中的氧流量比[氧气流量/（惰性气体流量＋氧气流量）]为8％以上。
7.一种投射型图像显示装置，其特征在于，
具备权利要求1至3中任一项所述的光学元件、光调制装置、出射光的光源以及投射调制后的光的投射光学系统，
所述光调制装置及所述光学元件配置在所述光源与所述投射光学系统之间的光路上。