1.用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的含氟聚合物，其特征在于，其结构式如下：
cf2(cf3)cf2-[o-cf(cf3)cf2]n-o-cf(cf3)coo-r
其中，n在1-8的范围内，r为h、nh4或其他类似结构中的一种或者几种；
以整个聚合物重量计，其中数均分子量小于550的聚合物组分的含量a为0-12％；数均分子量为650-900的聚合物组分的含量b为75％-90％；数均分子量为980-1050的聚合物组分的含量c为5％-15％；数均分子量大于1150的聚合物组分的含量d为0-10％，a和d同时为0或任一个为0或同时不为0。
2.根据权利要求1所述的用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的含氟聚合物，其特征在于，所述含氟聚合物的数均分子量在600～1300之间，更优选在700～1100之间。
3.根据权利要求1或2所述的用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的含氟聚合物，其特征在于，所述含量b为78-90％，优选80-90％。
4.根据前述权利要求任一项所述的用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的含氟聚合物，其特征在于，所述含量a为0-10％，优选1-8％，更优选2-8％。
5.根据前述权利要求任一项所述的用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的含氟聚合物，其特征在于，所述含量c为5-12％，优选5-10％。
6.根据前述权利要求任一项所述的用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的含氟聚合物，其特征在于，所述含量d为0-8％，优选0-6％，更优选0-4％。
7.一种用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的组合物，其特征在于，其包含权利要求1-6任一项所述的含氟聚合物。
8.根据权利要求7所述的用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的组合物，特征在于，以重量计，其含有1～15％，优选2～12％的所述含氟聚合物。
9.根据权利要求7或8所述的用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的组合物，其特征在于，还包含水溶性树脂，所述含氟聚合物与所述水溶性树脂的摩尔比为1:2～1:30，优选1:3～1:25。
10.一种光刻胶用顶部抗反射膜，其由包含权利要求1-6任一项所述的含氟聚合物或权利要求7-9任一项所述的组合物的原料制得。