技术特征：
1.一种光学结构投影幕布，其特征在于，包括基材层和光学结构层；所述光学结构层包括多个设置在所述基材层上的长条状的凹面镜结构，所述凹面镜结构远离所述基材层的一面为反射光的凹面。2.根据权利要求1所述的光学结构投影幕布，其特征在于，多个所述凹面镜结构彼此平行，并且多个所述凹面镜结构沿着所述凹面镜结构的宽度方向依次设置。3.根据权利要求2所述的光学结构投影幕布，其特征在于，所述凹面为圆柱凹面或v形凹面。4.根据权利要求3所述的光学结构投影幕布，其特征在于，所述凹面镜结构的宽度为200μm～300μm，所述凹面镜结构的深度为50μm～100μm。5.根据权利要求2所述的光学结构投影幕布，其特征在于，所述凹面镜结构的宽度方向与所述光学结构投影幕布的竖直方向平行。6.根据权利要求1～5中任意一项所述的光学结构投影幕布，其特征在于，多个所述凹面镜结构间隔设置在所述基材层上。7.根据权利要求6所述的光学结构投影幕布，其特征在于，相邻的两个所述凹面镜结构之间间隔10μm～20μm。8.根据权利要求6所述的光学结构投影幕布，其特征在于，所述光学结构层还包括设置在所述基材层上的多个抗光结构，所述抗光结构位于相邻的两个所述凹面镜结构之间。9.根据权利要求8所述的光学结构投影幕布，其特征在于，所述抗光结构为长条状，所述抗光结构的宽度为10μm～20μm，相邻的两个所述凹面镜结构之间设置有一个所述抗光结构。10.根据权利要求9所述的光学结构投影幕布，其特征在于，所述抗光结构为uv墨水打印形成的黑色光栅。