本实用新型涉及显微镜设备技术领域,更具体地说,涉及一种避免微尘污染的细胞培养用倒置显微镜。
背景技术:
倒置显微镜和放大镜起着同样的作用,就是把近处的微小物体成一放大的像,以供人眼观察,在装配设计上趋于采用组合方式,集普通光镜加相差、荧光、暗视野、dic、摄影装置于一体,从而操作灵活,使用方便。
电脑型双目倒置金相显微镜是将光学显微镜技术、光电转换技术、计算机图像处理技术结合在一起而开发研制成功的一项产品,可以在计算机显示器上很方便地观察金相图像,从而对金相图谱进行分分析,评级等对图片进行输出、打印,显微镜成像清晰,视野宽广,整体设计符合人机功能,适合长时间操作。
现有的倒置显微镜在较长时间不擦拭后,载物台上表面无遮挡物,容易落灰积尘,装配载玻片时容易污染造成观察有误差,同时载玻片所处环境与培养箱内环境相差大,对细胞培养结果观察造成影响。
技术实现要素:
1.要解决的技术问题
针对现有技术中存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种避免微尘污染的细胞培养用倒置显微镜,它可以利用封闭的装配系统避免载物台落灰积尘,安装载玻片后通过简单便捷的调整即可观察,避免了装配造作引起观察误差,同时通过不同的观察盒对应不同的细胞培养环境,保持培养过程和观察过程环境一致,减少实验结果和观察结果的偏差。
2.技术方案
为解决上述问题,本实用新型采用如下的技术方案。
一种避免微尘污染的细胞培养用倒置显微镜,包括物镜转换器,所述物镜转换器的上侧设有下观察台,所述下观察台的上端滑动连接有载物台,所述载物台的上端滑动连接有上观察台,所述上观察台的上端固定连接有灯箱,所述载物台的前后侧中部固定连接有齿条,所述齿条的上端啮合有第一齿轮,所述第一齿轮的上端啮合有第二齿轮,所述第二齿轮的右下侧卡接有阻挡片,所述齿条的右端固定连接有阻挡块,所述第一齿轮的中部固定连接转轴,所述转轴的下方通过皮带连接有电机,所述载物台的内部开设有载物槽,所述载物槽的内部滑动连接有观察盒,所述观察盒的内部开设有观察孔,可以利用封闭的装配系统避免载物台落灰积尘,安装载玻片后通过简单便捷的调整即可观察,避免了装配造作引起观察误差,同时通过不同的观察盒对应不同的细胞培养环境,保持培养过程和观察过程环境一致,减少实验结果和观察结果的偏差。
进一步的,所述阻挡片的形状为z形块,所述阻挡片的左侧下端固定连接有弹簧,所述阻挡片的左端下侧与第一齿轮的齿相匹配,所述阻挡片的左端上侧与第二齿轮的齿相匹配,所述阻挡片的右端与阻挡块相匹配,将载物台的输送距离进行限定,避免撞击和电机的损伤,保障了设备的稳定运行。
进一步的,所述载物槽内壁与观察盒的外侧壁相匹配,所述观察盒的内壁为梯形,梯形使机构之间滑动后处于正确观察位置,简化装配过程,节省了操作员的人力物力。
进一步的,所述下观察台的前后侧均转动连接有多个第一调整杆,所述载物台的左右端均转动连接有第二调整杆,所述载物槽的外表面搭接有第一调整杆和第二调整杆,通过简易的调整装置,调整观察的位置,调整了制备载玻片的误差,提高了设备的适用性。
进一步的,所述转轴的后端固定连接有毛刷,所述毛刷的后端固定连接有脱脂棉块,方便目镜在收到污染后的清理,提高了设备的自我清理能力。
3.有益效果
相比于现有技术,本实用新型的优点在于:
(1)可以利用封闭的装配系统避免载物台落灰积尘,安装载玻片后通过简单便捷的调整即可观察,避免了装配造作引起观察误差,同时通过不同的观察盒对应不同的细胞培养环境,保持培养过程和观察过程环境一致,减少实验结果和观察结果的偏差。
(2)阻挡片的形状为z形块,阻挡片的左侧下端固定连接有弹簧,阻挡片的左端下侧与第一齿轮的齿相匹配,阻挡片的左端上侧与第二齿轮的齿相匹配,阻挡片的右端与阻挡块相匹配,将载物台的输送距离进行限定,避免撞击和电机的损伤,保障了设备的稳定运行。
(3)载物槽内壁与观察盒的外侧壁相匹配,观察盒的内壁为梯形,梯形使机构之间滑动后处于正确观察位置,简化装配过程,节省了操作员的人力物力。
(4)下观察台的前后侧均转动连接有多个第一调整杆,载物台的左右端均转动连接有第二调整杆,载物槽的外表面搭接有第一调整杆和第二调整杆,通过简易的调整装置,调整观察的位置,调整了制备载玻片的误差,提高了设备的适用性。
(5)转轴的后端固定连接有毛刷,毛刷的后端固定连接有脱脂棉块,方便目镜在收到污染后的清理,提高了设备的自我清理能力。
附图说明
图1为本实用新型的正面剖视结构示意图;
图2为本实用新型的俯视剖面结构示意图;
图3为本实用新型第二齿轮和阻挡片的连接结构示意图。
图中标号说明:
1、物镜转换器;2、下观察台;3、载物台;4、上观察台;5、灯箱;6、齿条;7、第一齿轮;8、第二齿轮;9、阻挡片;10、阻挡块;11、转轴;12、电机;13、载物槽;14、观察盒;15、观察孔;16、第一调整杆;17、第二调整杆;18、毛刷;19、脱脂棉块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述;显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
实施例1:
请参阅图1-3,一种避免微尘污染的细胞培养用倒置显微镜,包括物镜转换器1,物镜转换器1的上侧设有下观察台2,下观察台2的上端滑动连接有载物台3,载物台3的上端滑动连接有上观察台4,上观察台4的上端固定连接有灯箱5,载物台3的前后侧中部固定连接有齿条6,齿条6的上端啮合有第一齿轮7,第一齿轮7的上端啮合有第二齿轮8,第二齿轮8的右下侧卡接有阻挡片9,齿条6的右端固定连接有阻挡块10,第一齿轮7的中部固定连接转轴11,转轴11的下方通过皮带连接有电机12,载物台3的内部开设有载物槽13,载物槽13的内部滑动连接有观察盒14,观察盒14的内部开设有观察孔15,可以利用封闭的装配系统避免载物台3落灰积尘,安装载玻片后通过简单便捷的调整即可观察,避免了装配造作引起观察误差,同时通过不同的观察盒14对应不同的细胞培养环境,保持培养过程和观察过程环境一致,减少实验结果和观察结果的偏差。
请参阅图3,阻挡片9的形状为z形块,阻挡片9的左侧下端固定连接有弹簧,阻挡片9的左端下侧与第一齿轮7的齿相匹配,阻挡片9的左端上侧与第二齿轮8的齿相匹配,阻挡片9的右端与阻挡块10相匹配,将载物台3的输送距离进行限定,避免撞击和电机12的损伤,保障了设备的稳定运行。
请参阅图1,载物槽13内壁与观察盒14的外侧壁相匹配,观察盒14的内壁为梯形,梯形使机构之间滑动后处于正确观察位置,简化装配过程,节省了操作员的人力物力。
请参阅图2,下观察台2的前后侧均转动连接有多个第一调整杆16,载物台3的左右端均转动连接有第二调整杆17,载物槽13的外表面搭接有第一调整杆16和第二调整杆17,通过简易的调整装置,调整观察的位置,调整了制备载玻片的误差,提高了设备的适用性,转轴11的后端固定连接有毛刷18,毛刷18的后端固定连接有脱脂棉块19,方便目镜在收到污染后的清理,提高了设备的自我清理能力。
使用时,首先开机,打开电源和相关开关,将准备观察的载玻片放置在观察盒14的内部,通过不同的观察盒对应不同的细胞培养环境,保持培养过程和观察过程环境一致,减少实验结果和观察结果的偏差,梯形使机构之间滑动后处于正确观察位置,简化装配过程,节省了操作员的人力物力,启动电机12后,皮带带动转轴11、第一齿轮7和第二齿轮8发生转动,第一齿轮7与齿条6因为啮合带动齿条6向左运动,齿条6带动载物台3在下观察台2的内部滑动向左,直至齿条6上的阻挡块10推动阻挡片9发生转动,将阻挡片9的左端卡接至第二齿轮8的外侧,载物台3停止前进,将载物台3的输送距离进行限定,避免撞击和电机12的损伤,保障了设备的稳定运行关闭电机12,完成装配过程。
接下来调整物镜转换器1,选择较小的物镜,观察,并调节铰链式双目目镜,舒适为宜,继续调节灯箱5,通过调光栅来调节光源的大小,再次调节物镜转换器1,选择合适倍数的物镜,更换并选择合适的目镜,同时调节灯箱5,以消除或减小图像周围的光晕,提高了图像的衬度。
最后调节第一调整杆16和第二调整杆17,通过目镜进行观察结果,通过简易的调整装置,调整观察的位置,调整了制备载玻片的误差,提高了设备的适用性,调整观察盒14,选择观察视野,利用封闭的装配系统避免载物台3落灰积尘,安装载玻片后通过简单便捷的调整即可观察,避免了装配造作引起观察误差。
反转电机12后载物台3向外运动,待停止后取下观察对象,调节灯箱5至最暗。关闭镜体下端的开关,并断开电源。旋转三孔转换器,使物镜镜片置于下观察台2下侧,防止灰尘的沉降,毛刷18与脱脂棉块19方便目镜在收到污染后的清理,提高了设备的自我清理能力。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式;但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。