光学元件驱动机构的制作方法

1.本公开涉及一种光学元件驱动机构。


背景技术：

2.随着科技的发展，现今许多电子装置(例如智能手机或数码相机)皆具有照相或录影的功能。这些电子装置的使用越来越普遍，并朝着便利和轻薄化的设计方向进行发展，以提供使用者更多的选择。
3.前述具有照相或录影功能的电子装置通常设有驱动机构，以驱动光学元件(例如为镜头)沿着光轴进行移动，进而达到自动对焦(auto focus，af)或光学防手震(optical image stablization，ois)的功能。光线可穿过前述光学元件在感光元件上成像。然而，现今移动装置的趋势是希望可具有较小的体积并且具有较高的耐用度，因此如何有效地降低驱动机构的尺寸以及提升其耐用度始成为一重要的课题。


技术实现要素：

4.本公开实施例提供一种光学元件驱动机构，包括活动部、固定部、驱动组件、支撑组件。活动部用以连接光学元件，该光学元件具有一光轴。活动部可相对固定部运动。驱动组件用以驱动活动部相对固定部运动。活动部经由支撑组件可相对固定部运动。
5.在一些实施例中，支撑组件包括一弹性元件，活动部经由弹性元件活动地连接固定部，并且于一活动范围内相对固定部移动；弹性元件具有板状结构；驱动组件还包括一线圈以及一磁性元件；其中活动部包括：一第一止动结构，用以限制活动部相对固定部于一可动范围内运动；以及一第二止动结构，用以限制活动部相对固定部于可动范围内运动，其中：第一止动结构沿着一第一方向延伸；第二止动结构沿着第一方向延伸；第一止动结构具有一第一止动表面面对固定部；第二止动结构具有一第二止动表面面对固定部；第一止动表面与第二止动表面互相平行；第一止动表面与固定部的最短距离不同于第二止动表面与固定部的最短距离。
6.在一些实施例中，活动部还包括一引线容纳结构，具有由线圈设置表面凹陷的结构，用以容纳线圈的一引线；一线圈设置表面，面朝线圈；一线圈支撑结构，由线圈设置表面突出并对应线圈；一弹性元件限位结构，具有突出的结构，用以限制弹性元件的运动范围；以及一第一轻量化结构，位在第二止动表面上，用以减轻活动部的重量；其中：第一止动表面与固定部的最短距离大于第二止动表面与固定部的最短距离；第一轻量化结构具有凹陷的形状；线圈固定地设置于第一止动结构；第一止动表面与固定部的最短距离小于线圈与固定部的最短距离；第一止动结构由线圈设置表面突出；在第一方向上，磁性元件与第一止动表面至少部分重叠；沿着光轴方向观察时，弹性元件至少部分与弹性元件限位结构重叠；当活动部于活动范围内，弹性元件限位结构皆不与固定部直接接触。
7.在一些实施例中，固定部包括：一外框，具有一顶壁以及由顶壁边缘沿伸的侧壁；一底座，与外框沿着一主轴排列；以及一补强元件，具有高分子材质且直接接触强化元件；
其中：底座包括：一底板，具有板状的形状；一挡墙，具有板状的形状，与底板不平行；以及一强化元件，至少部分内埋于底板或挡墙；其中：底板的杨氏模数与挡墙的杨氏模数不同；强化元件与外框皆具有金属材质；强化元件与外框至少部分经由焊接、熔接等金属加工方式固定地连接。
8.在一些实施例中，底板的杨氏模数大于挡墙的杨氏模数；强化元件与外框至少部分具有相同材质；补强元件直接接触底座；底座具有一底座表面背对外框；底座表面与主轴垂直；底座表面与光轴平行；在主轴方向上，底座表面与顶壁的最大距离大于补强元件与顶壁的最大距离。
9.在一些实施例中，光学元件驱动机构还包括一电子组件，设置于底板的一第一容置空间中；以及一框架，与活动部沿着光轴的方向排列；其中：活动部更具有一第二容置空间，具有凹陷的形状并对应第一容置空间；在主轴方向上，第一容置空间与第二容置空间完全重叠，且第二容置空间不超出第一容置空间；框架包括一第一框架表面以及一第二框架表面，面朝外框，其中第一框架表面、第二框架表面面朝不同方向；第一框架表面、第二框架表面与光轴不平行。
10.在一些实施例中，在主轴方向上，当活动部于活动范围内，第一容置空间与第二容置空间完全重叠且不超出第二容置空间；第一框架表面、第二框架表面面朝相反方向；第一框架表面、第二框架表面与光轴垂直；第一框架表面面朝侧壁；第二框架表面面朝顶壁；第一框架表面与侧壁的最短距离与第二框架表面与顶壁的最短距离不同；在光轴方向上，第一框架表面与侧壁至少部分重叠；在光轴方向上，第二框架表面与顶壁至少部分重叠。
11.在一些实施例中，框架还包括：一第三框架表面，面朝活动部并与光轴垂直；一第一框架侧，沿着第一方向延伸；一第二框架侧，沿着一第二方向延伸；一第二轻量化结构，设置于第二框架侧，具有凹槽的形状，用以减轻框架的重量；其中：沿着光轴方向观察时，第三框架表面至少部分与活动部重叠；第一框架表面、第三框架表面分别面朝不同方向；沿着光轴方向观察时，框架具有多边形的结构；沿着光轴方向观察时，第一框架侧的宽度小于第二框架侧的宽度；第一方向与第二方向不平行；第一方向与第二方向皆与光轴垂直。
12.在一些实施例中，框架还包括：一第一降噪表面；一第二降噪表面，与第一降噪表面不平行；一第一低反射率材料，设置在第一降噪表面上；一第二低反射率材料，设置在第二降噪表面上；其中：第一降噪表面与第二降噪表面沿着光轴方向排列；第一降噪表面与光轴不平行也不垂直；第二降噪表面与光轴不平行也不垂直；第一降噪表面的粗糙度与第三框架表面的粗糙度不同；第二降噪表面的粗糙度与第三框架表面的粗糙度不同；第一框架表面、第三框架表面分别面朝相反方向。
13.在一些实施例中，第一降噪表面的粗糙度大于第三框架表面的粗糙度；第二降噪表面的粗糙度大于第三框架表面的粗糙度；第一低反射率材料的反射率小于第三框架表面的反射率；第二低反射率材料的反射率小于第三框架表面的反射率。
附图说明
14.以下将配合说明书附图详述本公开的实施例。应注意的是，依据在业界的标准做法，多种特征并未按照比例示出且仅用以说明例示。事实上，可能任意地放大或缩小元件的尺寸，以清楚地表现出本公开的特征。
15.图1是根据本公开一些实施例示出的光学元件驱动机构的立体图。
16.图2是光学元件驱动机构的爆炸图。
17.图3a是光学元件驱动机构的俯视图。
18.图3b是光学元件驱动机构的仰视图。
19.图3c是图3b的放大图。
20.图4a、图4b、图4c、图4d、图4e分别是沿图3a中的线段10
‑
a
‑
10
‑
a、 10
‑
b
‑
10
‑
b、10
‑
c
‑
10
‑
c、10
‑
d
‑
10
‑
d、以及图1中的线段10
‑
e
‑
10
‑
e示出的剖面图。
21.图5a是光学元件驱动机构一些元件的示意图。
22.图5b是光学元件驱动机构一些元件的俯视图。
23.图5c是光学元件驱动机构一些元件的前视图。
24.图5d是光学元件驱动机构一些元件的后视图。
25.图5e是图5b的放大图。
26.图6a以及图6b是光学元件驱动机构另一些元件从不同角度观察时的示意图。
27.图7a是底座以及设置在底座上的一些元件的示意图。
28.图7b是图7a的放大图。
29.图7c是底座以及设置在底座上的一些元件的俯视图。
30.图8a与图8b是活动部以及线圈从不同角度观察时的示意图。
31.图8c是活动部以及线圈的侧视图。
32.图8d是活动部以及线圈的俯视图。
33.图9a是活动部的示意图。
34.图9b是活动部的侧视图。
35.图9c是图9a的放大图。
36.图10是光学元件驱动机构一些元件的示意图。
37.图11a是框架的示意图。
38.图11b是框架的前视图。
39.图12a是在框架上设置抗反射元件的示意图。
40.图12b以及图12c是在光学元件驱动机构上额外设置抗反射元件时的剖面图。
41.图12d是在光学元件驱动机构上额外设置抗反射元件时的后视图。
42.附图标记说明：
43.10
‑
10：外框
44.10
‑
10a：顶壁
45.10
‑
10b：侧壁
46.10
‑
20：底座
47.10
‑
20a：底座表面
48.10
‑
21：挡墙
49.10
‑
22：底板
50.10
‑
23、10
‑
29：凹槽
51.10
‑
24a、10
‑
35：胶槽
52.10
‑
24b：闪避槽
53.10
‑
25：第一容置空间
54.10
‑
26：第三容置空间
55.10
‑
27：第四容置空间
56.10
‑
28：补强元件
57.10
‑
30：活动部
58.10
‑
30a、10
‑
30b：上表面
59.10
‑
30c：下表面
60.10
‑
31：第一止动结构
61.10
‑
31a：第一止动表面
62.10
‑
32：第二止动结构
63.10
‑
32a：第二止动表面
64.10
‑
33：第一轻量化结构
65.10
‑
34：加强结构
66.10
‑
36：绕线部
67.10
‑
37：第二容置空间
68.10
‑
38a：容置部
69.10
‑
38b：弹性元件限位结构
70.10
‑
39：容置部
71.10
‑
39a：线圈设置表面
72.10
‑
39b：引线容纳结构
73.10
‑
39c：线圈支撑结构
74.10
‑
40：线圈
75.10
‑
41、10
‑
42：引线
76.10
‑
50：框架
77.10
‑
50a：第一框架表面
78.10
‑
50b：第二框架表面
79.10
‑
50c：第三框架表面
80.10
‑
50d：第四框架表面
81.10
‑
51：第一框架侧
82.10
‑
52：第二框架侧
83.10
‑
53：第二轻量化结构
84.10
‑
54：第三轻量化结构
85.10
‑
55a：第一降噪表面
86.10
‑
55b：第二降噪表面
87.10
‑
56：抗反射元件
88.10
‑
60：磁性元件
89.10
‑
70：第一弹性元件
90.10
‑
70a：第一部分
91.10
‑
70b：第二部分
92.10
‑
72：第二弹性元件
93.10
‑
80：电子组件
94.10
‑
82：感应磁性元件
95.10
‑
84、10
‑
86：电子组件
96.10
‑
88：强化元件
97.10
‑
90：阻尼元件
98.10
‑
100：光学元件驱动机构
99.10
‑
a
‑
10
‑
a、10
‑
b
‑
10
‑
b、10
‑
c
‑
10
‑
c、10
‑
d
‑
10
‑
d、10
‑
e
‑
10
‑
e：线段
100.10
‑
d：驱动组件
101.10
‑
d1、10
‑
d2：最短距离
102.10
‑
f：固定部
103.10
‑
h1、10
‑
h2：最大距离
104.10
‑
l1、10
‑
l2、10
‑
l3：距离
105.10
‑
m：主轴
106.10
‑
o：光轴
107.10
‑
s1、10
‑
s2、10
‑
s3、10
‑
s4：尺寸
108.10
‑
t1、10
‑
t2：宽度
109.10
‑
u：支撑组件
具体实施方式
110.以下公开许多不同的实施方法或是范例来实行所提供的标的的不同特征，以下描述具体的元件及其排列的实施例以阐述本公开。当然这些实施例仅用以例示，且不该以此限定本公开的范围。举例来说，在说明书中提到第一特征部件形成于第二特征部件之上，其包括第一特征部件与第二特征部件是直接接触的实施例，另外也包括于第一特征部件与第二特征部件之间另外有其他特征的实施例，亦即，第一特征部件与第二特征部件并非直接接触。
111.此外，在不同实施例中可能使用重复的标号或标示，这些重复仅为了简单清楚地叙述本公开，不代表所讨论的不同实施例及/或结构之间有特定的关系。此外，在本公开中的在另一特征部件之上形成、连接到及/或耦接到另一特征部件可包括其中特征部件形成为直接接触的实施例，并且还可包括其中可形成插入上述特征部件的附加特征部件的实施例，使得上述特征部件可能不直接接触。此外，其中可能用到与空间相关用词，例如“垂直的”、“上方”、“上”、“下”、“底”及类似的用词(如“向下地”、“向上地”等)，这些空间相关用词是为了便于描述图示中一个(些)元件或特征与另一个(些)元件或特征之间的关系，这些空间相关用词旨在涵盖包括特征的装置的不同方向。
112.除非另外定义，在此使用的全部用语(包括技术及科学用语)具有与本领域技术人员所通常理解的相同涵义。能理解的是这些用语，例如在通常使用的字典中定义的用语，应被解读成具有一与相关技术及本公开的背景或上下文一致的意思，而不应以一理想化或过度正式的方式解读，除非在此特别定义。
113.再者，说明书与权利要求中所使用的序数例如”第一”、”第二”等的用词，以修饰权
10
‑
21与底板10
‑
22不平行。
121.在一些实施例中，挡墙10
‑
21以及底板10
‑
22可包括不同的材料，并且亦可具有不同的杨式模数(young’s modulus)。举例来说，底板10
‑
22的杨式模数可大于挡墙10
‑
21的杨式模数。在一些实施例中，底座10
‑
20中可内埋一强化元件10
‑
88，例如可内埋在挡墙10
‑
21或者底板10
‑
22中。此外，如图3c所示，强化元件10
‑
88可直接接触外框10
‑
10，并且强化元件10
‑
88 与外框10
‑
10皆可包括金属材料。举例来说，强化元件10
‑
88与外框10
‑
10 可至少部分具有相同的材质，并且可通过焊接、熔接等金属加工的方式将外框10
‑
10与强化元件10
‑
88彼此固定。此外，强化元件10
‑
88可从底座10
‑
20 的凹槽10
‑
29露出，但在x方向上不超出外框10
‑
10，以避免强化元件10
‑
88 与外界发生碰撞而造成损坏。可在凹槽10
‑
29中设置接着材料(未示出)，以将底座10
‑
20与外框10
‑
10进行固定。
122.此外，如图7b所示，底座10
‑
20上可包括凹槽10
‑
23，用以设置磁性元件10
‑
60。此外，在凹槽10
‑
23侧边可具有胶槽10
‑
24a以及闪避槽10
‑
24b。可在胶槽10
‑
24a以及闪避槽10
‑
24b中设置粘着材料，以固定磁性元件 10
‑
60以及底座10
‑
20。此外，线圈10
‑
40的引线可设置在闪避槽10
‑
24b中，以保护线圈10
‑
40的引线。
123.在一些实施例中，如图7c所示，可在底座10
‑
20上提供额外的补强元件10
‑
28(如斜线处所示)。补强元件10
‑
28可包括高分子材料，并且可直接接触强化元件10
‑
88以及底座10
‑
20。补强元件10
‑
28具有不导电的性质，因此可保护露出于底座10
‑
20的强化元件10
‑
88，以避免强化元件10
‑
88与其他元件之间发生短路。此外，如图3b以及图4a所示，底座10
‑
20可具有背对于外框10
‑
10的底座表面10
‑
20a，底座表面10
‑
20a可与主轴10
‑
m 垂直，并与光轴10
‑
o平行。在主轴10
‑
m的方向上，底座表面10
‑
20a与顶壁10
‑
10a的最大距离10
‑
h1大于补强元件10
‑
28与顶壁10
‑
10a的最大距离10
‑
h2。
124.在一些实施例中，底座10
‑
20上可具有额外的电路，其电性连接设置于光学元件驱动机构10
‑
100内部或外部的其他电子元件，用以执行自动对焦 (af)及光学防手震(ois)等功能。
125.在一些实施例中，可通过多个步骤来形成底座10
‑
20。举例来说，可通过表面粘着技术(surface mount technology)，将强化元件10
‑
88内埋于底板10
‑
22。接着再形成底板10
‑
22两侧的挡墙10
‑
21。因此，挡墙10
‑
21与底板10
‑
22可具有不同的材料性质(例如杨式模数)，可降低底座10
‑
20成形时的变形量。
126.在一些实施例中，主轴10
‑
m可垂直于光轴10
‑
o。前述外框10
‑
10与底座10
‑
20可相互结合而构成光学元件驱动机构10
‑
100的外壳。举例来说，底座10
‑
20可固定地连接外框10
‑
10。外框10
‑
10具有两个开口，具有光轴10
‑
o的光线可从远离框架10
‑
50的开口进入光学元件驱动机构10
‑
100，并且从靠近框架10
‑
50的开口离开光学元件驱动机构10
‑
100。可在框架10
‑
50 的另一侧设置影像感测元件(未示出)。据此，设置于光学元件驱动机构 10
‑
100中的光学元件可在光轴10
‑
o方向与影像感测元件进行对焦。
127.应了解的是，通过磁性元件10
‑
60与线圈10
‑
40之间的作用，可产生磁力迫使活动部10
‑
30相对于固定部10
‑
f沿光轴10
‑
o方向移动，进而达到快速对焦的效果。
128.在本实施例中，活动部10
‑
30及其内的光学元件活动地(movably)设置于固定部10
‑
f内。更具体而言，活动部10
‑
30可通过金属材质的支撑组件10
‑
u(包括第一弹性元件10
‑
70及第二弹性元件10
‑
72)连接底座10
‑
20 并悬吊于固定部10
‑
f内(图4b)。当前述线圈10
‑
40通电时，线圈10
‑
40 会和磁性元件10
‑
60的磁场产生作用，并产生一电磁驱动力(electromagneticforce)以驱使活动部10
‑
30和前述光学元件相对于固定部10
‑
f沿光轴10
‑
o 方向移动，以达到自动对焦的效果。在一些实施例中，亦可使用具有球状或棒状的支撑组件。
129.如图4c、图4d、图5b、图5e、图8a、图8b、图8c、图8d所示，活动部10
‑
30可包括第一止动结构10
‑
31以及第二止动结构10
‑
32，用以限制活动部10
‑
30相对固定部10
‑
f于一可动范围内运动。第一止动结构10
‑
31 以及第二止动结构10
‑
32朝向x方向(第一方向)延伸，并且分别具有面对固定部10
‑
f(例如外框10
‑
10或底座10
‑
20)的第一止动表面10
‑
31a、第二止动表面10
‑
32a。在一些实施例中，第一止动表面10
‑
31a与第二止动表面10
‑
32a可为互相平行的两个表面。如图5e所示，第一止动表面10
‑
31a 与底座10
‑
20(固定部10
‑
f)具有距离10
‑
l1，第二止动表面10
‑
32a与底座10
‑
20(固定部10
‑
f)具有距离10
‑
l2，且距离10
‑
l1与距离10
‑
l2可不同。举例来说，在一些实施例中，距离10
‑
l1可大于距离10
‑
l2。
130.此外，如图8a、图8b所示，在第二止动表面10
‑
32a上具有第一轻量化结构10
‑
33。第一轻量化结构10
‑
33例如可为凹槽，并且可用以减轻活动部10
‑
30的重量，以降低驱动组件10
‑
d所需要提供给活动部10
‑
30的推力，从而可进一步采用体积较小的驱动组件10
‑
d，而达到小型化。
131.此外，如图4d、图8a至图8d所示，在第二止动结构10
‑
32的根部具有加强结构10
‑
34。加强结构10
‑
34在如图4d的剖面视角中具有相对于第二止动表面10
‑
32a倾斜的表面。因此，可进一步加强第二止动结构10
‑
32 的机械强度，以避免第二止动结构10
‑
32在活动部10
‑
30进行运动时发生损坏。
132.在一些实施例中，线圈10
‑
40可固定在第一止动结构10
‑
31上，例如可缠绕在第一止动结构10
‑
31上，并进一步通过粘着材料进行固定。此外，如图5b所示，第一止动表面10
‑
31a与底座10
‑
20(固定部10
‑
f)的最短距离10
‑
l1小于线圈10
‑
40与底座10
‑
20(固定部10
‑
f)的最短距离10
‑
l3。因此，当活动部10
‑
30于x方向上移动时，在线圈10
‑
40接触固定部10
‑
f 之前，第一止动结构10
‑
31会先接触固定部10
‑
f，以避免线圈10
‑
40与固定部10
‑
f直接接触而发生损坏。此外，如图8c所示，在第一止动结构10
‑
31 的两侧可具有胶槽10
‑
35，可在胶槽10
‑
35中填入胶水，以固定线圈10
‑
40 与活动部10
‑
30。
133.在一些实施例中，如图9a、图9b、图9c所示，线圈10
‑
40可设置在活动部10
‑
30的容置部10
‑
39，而容置部10
‑
39的线圈设置表面10
‑
39a面朝线圈10
‑
40。在容置部10
‑
39与第一止动结构10
‑
31之间可具有引线容纳结构10
‑
39b，从容置部10
‑
39的线圈设置表面10
‑
39a凹陷，而第一止动结构 10
‑
31从线圈设置表面10
‑
39a突出。因此，线圈10
‑
40的引线可容纳于引线容纳结构10
‑
39b之中，以保护线圈10
‑
40的引线。
134.在一些实施例中，活动部10
‑
30还可进一步包括线圈支撑结构10
‑
39c，从线圈设置表面10
‑
39a突出并对应线圈10
‑
40。举例来说，如图5e以及图 8a所示，线圈10
‑
40可直接接触线圈支撑结构10
‑
39c，并且在x方向上至少部分重叠，以在活动部10
‑
30进行运动时维持线圈10
‑
40的形状。此外，如图5e所示，磁性元件10
‑
60与第一止动表面10
‑
31a在x方向上至少部分重叠。因此，第一止动表面10
‑
31a可在活动部10
‑
30于x方向上移动时接触磁性元件10
‑
60，以定义活动部10
‑
30在x方向上可移动的最大范围。
135.在一些实施例中，如图8a以及图8b所示，线圈10
‑
40的引线10
‑
41、 10
‑
42可缠绕在
sensor，mr sensor)、巨磁阻效应感测器(giantmagnetoresistance effect sensor，gmr sensor)、穿隧磁阻效应感测器 (tunneling magnetoresistance effect sensor，tmr sensor)、或磁通量感测器(fluxgate sensor)。
143.在一些实施例中，可在活动部10
‑
30与固定部10
‑
f(例如底座10
‑
20) 之间设置阻尼元件10
‑
90，以吸收活动部10
‑
30相对于固定部10
‑
f运动时的震动。阻尼元件10
‑
90例如可为凝胶，并且可设置在活动部10
‑
30的容置部 10
‑
38a上。举例来说，如图6a以及图6b所示，活动部10
‑
30在前侧以及后侧分别可具有四个容置部10
‑
38a，以允许设置多个阻尼元件10
‑
90，以进一步降低活动部10
‑
30运行时所产生的震动。在一些实施例中，如图8a以及图8b所示，容置部10
‑
38a可具有内凹的形状，以允许阻尼元件10
‑
90 设置于容置部10
‑
38a中。
144.此外，活动部10
‑
30还可具有弹性元件限位结构10
‑
38b，用以限制第一弹性元件10
‑
70、第二弹性元件10
‑
72的运动范围。弹性元件限位结构 10
‑
38b可从活动部10
‑
30突出，并且可设置在两个容置部10
‑
38a之间。沿着光轴10
‑
o的方向观察时，第一弹性元件10
‑
70或第二弹性元件10
‑
72至少部分与弹性元件限位结构10
‑
38b重叠，从而当活动部10
‑
30在光轴10
‑
o 的方向移动时，第一弹性元件10
‑
70或第二弹性元件10
‑
72可接触弹性元件限位结构10
‑
38b，以限制第一弹性元件10
‑
70或第二弹性元件10
‑
72的位置。应注意的是，当活动部10
‑
30于其活动范围的任意位置时，弹性元件限位结构10
‑
38b皆不与固定部10
‑
f直接接触，以避免损坏弹性元件限位结构 10
‑
38b。在一些实施例中，如图8d所示，弹性元件限位结构10
‑
38b在x 方向的长度大于容置部10
‑
38a的长度。
145.在一些实施例中，如图2、图4a、图4e、图12b、图12c所示，框架 10
‑
50可与活动部10
‑
30沿着光轴10
‑
o的方向(y方向)排列。框架10
‑
50 可具有面朝外框10
‑
10的第一框架表面10
‑
50a以及第二框架表面10
‑
50b。在一些实施例中，如图4a以及图4e所示，第一框架表面10
‑
50a以及第二框架表面10
‑
50b面朝不同的方向(例如相反的方向)，并且第一框架表面 10
‑
50a面朝侧壁10
‑
10b，而第二框架表面10
‑
50b面朝顶壁10
‑
10a。换句话说，在光轴10
‑
o的方向上，第一框架表面10
‑
50a与侧壁10
‑
10b至少部分重叠，而第二框架表面10
‑
50b与顶壁10
‑
10a至少部分重叠。此外，第一框架表面10
‑
50a以及第二框架表面10
‑
50b与光轴10
‑
o延伸的方向(y 方向)不平行，例如可垂直于光轴10
‑
o。
146.在光轴10
‑
o的方向上，第一框架表面10
‑
50a与外框10
‑
10可具有最短距离10
‑
d1，而第二框架表面10
‑
50b与外框10
‑
10可具有最短距离10
‑
d2，其中最短距离10
‑
d1与最短距离10
‑
d2不同。在一些实施例中，最短距离 10
‑
d1可大于最短距离10
‑
d2，但并不以此为限。因此，可容纳更大的零件外型误差，以提升组装的成功率。
147.在一些实施例中，框架10
‑
50还可进一步具有第三框架表面10
‑
50c和第四框架表面10
‑
50d，其中第三框架表面10
‑
50c面朝活动部10
‑
30，而第四框架表面10
‑
50d面朝底座10
‑
20的挡墙10
‑
21。在一些实施例中，第三框架表面10
‑
50c和第四框架表面10
‑
50d皆可与光轴10
‑
o垂直。换句话说，在光轴10
‑
o的方向上，第三框架表面10
‑
50c与活动部10
‑
30至少部分重叠，而第四框架表面10
‑
50d与挡墙10
‑
21至少部分重叠。此外，第一框架表面 10
‑
50a与第三框架表面10
‑
50c、第四框架表面10
‑
50d面朝不同的方向(例如相反的方向)。
148.如图4e、图11a、图11b所示，可在第三框架表面10
‑
50c上设置第二轻量化结构10
‑
53，并且可在第四框架表面10
‑
50d上设置第三轻量化结构10
‑
54。第二轻量化结构10
‑
53与第三轻量化结构10
‑
54例如可为凹槽，以降低框架10
‑
50的重量，并且分别可具有不同的深
度。举例来说，第二轻量化结构10
‑
53的深度可小于第三轻量化结构10
‑
54的深度。在一些实施例中，如图11b所示，框架10
‑
50可具有多边形的结构(例如矩形的形状)，并且可具有第一框架侧10
‑
51以及第二框架侧10
‑
52。第一框架侧10
‑
51沿着第一方向(x方向)延伸，而第二框架侧10
‑
52沿着第二方向(z方向) 延伸。沿着光轴10
‑
o的方向(y方向)观察时，第一框架侧10
‑
51在z方向上的宽度为10
‑
t1，而第二框架侧10
‑
52在x方向上的宽度为10
‑
t2，其中宽度10
‑
t1小于宽度10
‑
t2。因此，第二轻量化结构10
‑
53与第三轻量化结构10
‑
54可设置在具有较大宽度10
‑
t2的第二框架侧10
‑
52。应注意的是，第一框架侧10
‑
51延伸的第一方向(x方向)与第二框架侧10
‑
52延伸的第二方向(z方向)彼此不平行，并且与光轴10
‑
o的方向(y方向)垂直。
149.在一些实施例中，框架10
‑
50还可包括第一降噪表面10
‑
55a以及第二降噪表面10
‑
55b。第一降噪表面10
‑
55a与第二降噪表面10
‑
55b不平行，且可在光轴10
‑
o的方向排列，但与光轴10
‑
o不平行也不垂直。可在第一降噪表面10
‑
55a与第二降噪表面10
‑
55b上设置与框架10
‑
50不同的材料，例如可设置一低反射率的材料，如吸光材料。或者可改变第一降噪表面 10
‑
55a与第二降噪表面10
‑
55b的粗糙度，以得到一粗糙结构，其中第一降噪表面10
‑
55a与第二降噪表面10
‑
55b的粗糙度皆大于第三框架表面 10
‑
50c与第四框架表面10
‑
50d的粗糙度，且第一降噪表面10
‑
55a与第二降噪表面10
‑
55b的反射率皆小于第三框架表面10
‑
50c与第四框架表面 10
‑
50d的反射率。换句话说，相较于第三框架表面10
‑
50c与第四框架表面 10
‑
50d，第一降噪表面10
‑
55a与第二降噪表面10
‑
55b较不易反射光线，从而可降低光线通过光学元件驱动机构10
‑
100时所产生的杂散光，以改善所得影像的品质。
150.在一些实施例中，亦可在框架10
‑
50上提供额外的抗反射元件，以进一步降低杂散光。图12a是在框架10
‑
50上设置抗反射元件10
‑
56的示意图，图12b以及图12c是在光学元件驱动机构10
‑
100上额外设置抗反射元件 10
‑
56时的剖面图，图12d是在光学元件驱动机构10
‑
100上额外设置抗反射元件10
‑
56时的后视图。
151.如图12a至图12d所示，可在前述第三框架表面10
‑
50c上设置具有板状形状的抗反射元件10
‑
56，例如可完全覆盖第三框架表面10
‑
50c。抗反射元件10
‑
56中可具有一开口，且在x方向上，此开口的尺寸10
‑
s1可小于框架10
‑
50的最小开口的尺寸10
‑
s2；在z方向上，此开口的尺寸10
‑
s3 可小于框架10
‑
50的最小开口的尺寸10
‑
s4。换句话说，如图12d所示，抗反射元件10
‑
56露出于框架10
‑
50的开口。
152.然而，本公开并不以此为限。举例来说，在一些实施例中，尺寸10
‑
s3 亦可等同于或者大于尺寸10
‑
s4，但尺寸10
‑
s1仍维持小于尺寸10
‑
s2。由于尺寸10
‑
s2小于尺寸10
‑
s4，因此杂散光较易在此方向上(z方向)产生，故将尺寸10
‑
s1设计为小于尺寸10
‑
s2可避免杂散光，而改善所得影像的品质。
153.抗反射元件10
‑
56可具有较低的反射率。举例来说，抗反射元件10
‑
56 的反射率可小于框架10
‑
50各表面的反射率，例如可小于第三框架表面 10
‑
50c的反射率，或者在一些实施例中亦可小于第一降噪表面10
‑
55a与第二降噪表面10
‑
55b的反射率。从而可进一步降低杂散光，而改善所得影像的品质。
154.综上所述，本公开一种光学元件驱动机构，包括活动部、固定部、驱动组件、支撑组件。活动部用以连接光学元件。活动部可相对固定部运动。驱动组件用以驱动活动部相对固定部运动。活动部经由支撑组件可相对固定部运动。
155.本公开所公开各元件的特殊相对位置、大小关系不但可使光学元件驱动机构达到特定方向的超薄化、整体的小型化，另外经由搭配不同的光学模块使系统更进一步提升光学品质(例如拍摄品质或是深度感测精度等)，更进一步地利用各光学模块达到多重防震系统以大幅提升防手震的效果。
156.虽然本公开的实施例及其优点已公开如上，但应该了解的是，任何本领域技术人员，在不脱离本公开的构思和范围内，当可作变动、替代与润饰。此外，本公开的保护范围并未局限于说明书内所述特定实施例中的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，任何本领域技术人员可从本公开的公开内容中理解现行或未来所发展出的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，只要可以在此处所述实施例中实施大抵相同功能或获得大抵相同结果皆可根据本公开使用。因此，本公开的保护范围包括上述工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤。另外，每一权利要求构成个别的实施例，且本公开的保护范围也包括各个权利要求及实施例的组合。